JP2007112698A - 希土類焼結体およびその製造方法 - Google Patents

希土類焼結体およびその製造方法 Download PDF

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Abstract


【課題】 焼結温度が低く且つ相対密度が高い希土類焼結体を提供する。
【解決手段】 La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、LuまたはScの少なくとも一種の酸化物の粉末にホウ素化合物を酸化ホウ素(B)に換算して、0.06mol%以上25mol%未満の割合で添加し、この混合粉末を成形した後、焼結させる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、希土類酸化物を低温で焼結できる製造法に関する。
一般的なセラミックスとしては、アルミナ(Al)やジルコニア(ZrO)が用いられているが、その合成法としては、非晶質合成、単結晶育成、薄膜合成があるが最も一般的な合成法は焼結である。そして、焼結を容易に完結させるために焼結助剤が用いられている。
本発明者らは焼結助剤として酸化ホウ素(B)に注目した。酸化ホウ素(B)を焼結助剤として用いている先行技術文献として特許文献1及び特許文献2が挙げられる。
特許文献1には、イットリア(Y)粉末を冷間静水圧(CIP)で成形し、この成形体を1400〜1800℃で焼成し、この成形体を一旦冷却した後、Bなどのホウ素化合物の存在下で1400〜2000℃で熱処理することで、緻密なイットリア(Y)焼結体を得ることが開示されている。この特許文献1では緻密な焼結体が得られる理由として、ホウ素化合物が存在すると、Bが焼成物内部に拡散して焼結を促進するからと推定している。
非特許文献1には、イットリア(Y)粉末をCIP(140MPa)で成形し、この成形体を1400〜1700℃で一次焼結させ、次いでこの一次焼結体にBNを噴霧しHIP(140MPa、1400〜1700℃)にて二次焼結せしめて、透光性に優れたイットリア(Y)焼結体を得ることが開示されている。
特開2000−239065号公報 日本セラミックス協会 2004年次 講演予稿集 2G09(HIP焼結による透明酸化イットリウムの作製)
しかしながら、上記何れの先行技術も気孔率の小さい焼結体を得るためには1700〜2000℃と比較的高温での焼成が必要であったり、一次焼成後にHIP処理を行うなど複雑な製造プロセスによって焼結体を得ている。
本発明は、比較的低温で簡便に作製することができる高密度で耐プラズマ性に優れた希土類焼結体ならびに耐食性部材、その製造方法をも提供することにある。
上述したように先行技術には希土類酸化物の粉末に酸化ホウ素(B)を焼成助剤として添加したものはない。そこで、希土類元素のうち、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Scについて検証した。
その結果、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Scの希土類酸化物については酸化ホウ素(B)の添加の効果が確認できた。



即ち、本発明に係わる希土類焼結体は、LnBO(Ln=La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、YbまたはLu)、ScBOの少なくとも一種をその焼結体の構成結晶として含む構成とした。
上記焼結体として相対密度が高いものとするには、焼結体中に含まれる希土類とホウ素との化合物がLnBO、ScBOの少なくとも一種をその焼結体の構成結晶として含む形態となるようにする。ここでLnは、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、YbまたはLuである。

また、相対密度を高くすべく、焼結体中に含まれる希土類とホウ素との化合物の形態をLnBO、ScBOとするには、添加する酸化ホウ素(B)の希土類酸化物の粉末に対する添加割合を0.06mol%以上25mol%未満とする。
焼成温度は各希土類元素によって異なり、イオン半径の小さい方が高い焼成温度を必要とする傾向がある。例えば酸化ランタン(La)に酸化ホウ素(B)を添加(3wt%:12.6mol%)した場合の焼成温度は1100℃〜1300℃であり、酸化サマリウム(Sm)に酸化ホウ素(B)を添加(3wt%:13.4mol%)した場合の焼成温度は1200℃〜1400℃であり、酸化ネオジウム(Nd)に酸化ホウ素(B)を添加(3wt%:13.0mol%)した場合の焼成温度は1100℃〜1300℃であり、酸化イッテルビウム(Yb)に酸化ホウ素(B)を添加(3wt%:14.9mol%)した場合の焼成温度は1400℃〜1500℃である。
本発明によれば、比較的低温でしかも高密度の希土類焼結体を得ることができる。
(実施例1)
原料として、酸化ランタン(La)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ランタン(La)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および3.0wt%(12.6mol%)添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図1に示す。この図1から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、相対密度が80%程度なのに対して、酸化ホウ素(B)を添加した酸化ランタン(La)の場合は1130℃付近で相対密度95%以上となり、1200℃付近において焼結が完結し、そのときの相対密度は約99%以上であることが分かる。
(実施例2)
原料として、酸化サマリウム(Sm)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化サマリウム(Sm)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および3.0wt%(13.4mol%)添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図2に示す。この図2から、酸化ホウ素(B)を添加した酸化サマリウム(Sm)の場合は、1200℃付近で相対密度95%以上となり、1300℃付近において焼結が完結し、そのときの相対密度は約99%以上であることが分かる。
(実施例3)
原料として、酸化ネオジウム(Nd)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ネオジウム(Nd)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および3.0wt%(13.0mol%)添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図3に示す。この図3から、酸化ホウ素(B)を添加した酸化ネオジウム(Nd)の場合は、1200℃付近において焼結が完結し、そのときの相対密度は約95%であることが分かる。
(実施例4)
原料として、酸化イッテルビウム(Yb)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化イッテルビウム(Yb)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および3.0wt%(14.9mol%)添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図4に示す。この図4から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、相対密度が60〜70%程度なのに対して、酸化ホウ素(B)を添加した酸化イッテルビウム(Yb)の場合は1500℃付近において、そのときの相対密度は約95%以上であることが分かる。
(実施例5)
原料として、酸化ユーロピウム(Eu)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ユーロピウム(Eu)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図5に示す。この図5から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、1300℃以上で緻密化するのに対して、酸化ホウ素(B)を添加した酸化ユーロピウム(Eu)の場合は1200℃付近で相対密度95%以上となり、1300℃付近において焼結が完結し、そのときの相対密度は約99%以上であることが分かる。
(実施例6)
原料として、酸化ジスプロシウム(Dy)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ジスプロシウム(Dy)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図6に示す。この図6から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、相対密度95%程度であるのに対し、酸化ホウ素(B)を添加した酸化ジスプロシウム(Dy)の場合では1300℃から1400℃の焼成で相対密度が約99%以上となることが分かった。
(実施例7)
原料として、酸化ガドリウム(Gd)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ガドリウム(Gd)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図7に示す。この図7から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、1500℃以上で緻密化するのに対して、酸化ホウ素(B)を添加した酸化ガドリウム(Gd)の場合は1300℃付近で相対密度99%以上となり、1300℃から1400℃付近において焼結が完結し、そのときの相対密度は約99%以上であることが分かる。
(実施例8)
原料として、酸化ホルミウム(Ho)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ホルミウム(Ho)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図8に示す。この図8から、酸化ホウ素(B)無添加の場合と酸化ホウ素(B)を添加した酸化ホルミウム(Ho)の場合では、焼成曲線は同一の傾向を示したが、酸化ホウ素(B)を添加した系のほうがより緻密化した。
(実施例9)
原料として、酸化エルビウム(Er)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化エルビウム(Er)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図9に示す。この図9から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、1700℃で緻密化するのに対して、酸化ホウ素(B)を添加した酸化エルビウム(Er)の場合は1400℃付近で相対密度95%以上となり、1500℃付近において焼結が完結し、そのときの相対密度は約99%以上であることが分かる。
(実施例10)
原料として、酸化スカンジウム(Sc)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化スカンジウム(Sc)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図10に示す。この図10から、酸化ホウ素(B)無添加の場合と酸化ホウ素(B)を添加した酸化スカンジウム(Sc)の場合では焼成曲線はほぼ同一の傾向を示したが、酸化ホウ素(B)を添加した系のほうがより緻密化した。
(実施例11)
原料として、酸化ツリウム(Tm)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ツリウム(Tm)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図11に示す。この図11から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、1700℃で相対密度80%以上となるのに対して、酸化ホウ素(B)を添加した酸化ツリウム(Tm)の場合は1500℃付近で相対密度90%以上となり、1500℃付近において高密度焼結体が得られることが分かる。
(実施例12)
原料として、酸化ルテチウム(Lu)粉末と酸化ホウ素(B)粉末を用意し、酸化ルテチウム(Lu)粉末に対する酸化ホウ素(B)粉末の添加割合を、無添加とした試料および9.0mol%添加した試料の2種類の試料を調整し、成形後に焼成炉で焼成した。
焼成温度と相対密度との関係を図12に示す。この図12から、酸化ホウ素(B)無添加の場合では、1700℃焼成で相対密度80%未満であるのに対して、酸化ホウ素(B)を添加した酸化ルテチウム(Lu)の場合は1500℃付近で相対密度90%程度となり、1600℃付近において高密度焼結体が得られることが分かる。
1550℃未満の比較的低温で95%以上の緻密な焼結体を得ることができる。
1550℃未満であれば、二珪化Moヒータ、SiCヒータを発熱体として使用した汎用性のある焼成炉にて、大気中で簡便に焼成ができる。
ホウ素化合物としては、酸化ホウ素に限らず、ホウ酸(HBO),窒化ホウ素(BN),炭化ホウ素(BC)等のホウ素化合物が利用可能であり,中でも酸化ホウ素,ホウ酸が好適に利用できる。
また、耐プラズマ性の評価を行った。評価方法は以下の通りである。
評価試料には各焼成体の表面粗さ(Ra)が0.1μm以下になるように研磨したものを用いた。この試料の表面の半分をマスキングしてからRIEプラズマエッチング装置を用いて、エッチングガスはCF+Oで1000W、30時間プラズマを照射した。照射後マスキングを除去し、マスキング部分とマスキングしていなかった部分の段差を測定し、エッチング速度(nm/hr)を算出した。結果を表に示す。実施例としては各希土類酸化物に酸化ホウ素(B)を9mol%添加したものを用いた。比較例として高純度アルミナ(99.7%)の結果を表1に示す。この表1から酸化ホウ素(B)を焼成助剤として添加した希土類酸化物は高純度アルミナに比較して非常にエッチング速度が遅く、優れた耐プラズマ性を有していることがわかる。
本発明に係る希土類酸化物焼結体は、例えばプラズマ処理装置のチャンバー、キャプチャーリング、フォーカスリング、静電チャック等耐プラズマ性を必要とする耐食性部材として利用することができる。
酸化ランタン(La)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化サマリウム(Sm)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化ネオジウム(Nd)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化イッテルビウム(Yb)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化ユーロピウム(Eu)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化ジスプロシウム(Dy)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化ガドリウム(Gd)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化ホルミウム(Ho)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化エルビウム(Er)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化スカンジウム(Sc)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化ツリウム(Tm)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ 酸化ルテチウム(Lu)粉末に酸化ホウ素(B)粉末を添加した場合の焼成温度と相対密度との関係を示したグラフ

Claims (3)

  1. LnBO(Ln=La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、YbまたはLu)、ScBOの少なくとも一種をその焼結体の構成結晶として含むことを特徴とする希土類焼結体。
  2. La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、LuまたはScの少なくとも一種の酸化物の粉末にホウ素化合物を酸化ホウ素(B)に換算して、0.06mol%以上25mol%未満の割合で添加し、この混合粉末を成形した後、焼結させることを特徴とする希土類焼結体の製造方法。
  3. 被処理基板を処理する処理装置に用いられる耐食性部材であって、LnBO(Ln=La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Ho、Er、Tm、YbまたはLu)、ScBOの少なくとも一種をその耐食性部材の構成結晶として含むことを特徴とする耐食性部材。
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