JP2007100064A - Pressure-sensitive adhesive tape for dicing - Google Patents

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Yoshihiro Nomura
芳弘 野村
Arimichi Tamagawa
有理 玉川
Yasumasa Morishima
泰正 盛島
Shinichi Ishiwatari
伸一 石渡
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Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pressure-sensitive adhesive tape for dicing, being less prone to cause chipping and having sufficient adhesion force to hold a tip when dicing a semiconductor wafer, and capable of lowering the sticking of an adhesive to the side faces of a package without causing package fly when being applied to a dicing process of a package collectively sealed with a resin. <P>SOLUTION: The pressure-sensitive adhesive tape for dicing is obtained by forming an adhesive layer onto at least either face of a base film. Where the base resin of the adhesive is a copolymer composed essentially of an alkyl (meth)acrylate as a monomer component, having an alicyclic hydrocarbon group as the alkyl group. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウエハをチップにダイシングする際などにおけるウエハの固定保持に適したダイシング用粘着テープ、および半導体パッケージ加工に使用されるダイシング用粘着テープについて関するものである。   The present invention relates to a dicing adhesive tape suitable for fixing and holding a wafer when dicing a semiconductor wafer into chips, and a dicing adhesive tape used for semiconductor package processing.

従来、回路パターンの形成されたウエハをチップ状に分離する、いわゆるダイシング加工を行う際は、ウエハの固定にウエハ加工用テープを用いるピックアップ方式が提案されている。この方式においては、大径のウエハはウエハ加工用テープに貼着、固定した状態でチップ状にダイシングされ、洗浄、乾燥後、ピックアップの工程を経た後、レジン封止によりパッケージ化される。
ダイシング工程においては、IC等の所定の回路パターンが形成された半導体ウエハは、その背面に半導体固定用粘着テープが貼合された後、金属粒子分散のブレードを高速回転させるなどの回転刃を介し所定のチップサイズにダイシング処理されるが、その処理に際しては、半導体固定用粘着テープの一部(5〜40μm)に達する切断を行ってウエハをフルカットする方法が一般に採用されている。
しかしながら、従来の半導体固定用粘着テープにあっては、ダイシング時の衝撃や振動等により、形成されるチップ切断面に数μm〜数百μmの欠け(チッピング)を生じさせる問題点があった。かかるチッピングは、ガリウム砒素等の化合物半導体ではより大きくなる。
Conventionally, when performing a so-called dicing process for separating a wafer on which a circuit pattern is formed into chips, a pickup system using a wafer processing tape for fixing the wafer has been proposed. In this system, a large-diameter wafer is diced into chips in a state of being bonded and fixed to a wafer processing tape, and after washing, drying, picking up, and packaging by resin sealing.
In the dicing process, a semiconductor wafer on which a predetermined circuit pattern such as an IC is formed is bonded to a back surface of a semiconductor fixing adhesive tape, and then a rotating blade such as rotating a metal particle dispersing blade at high speed is used. A dicing process is performed to a predetermined chip size. In this process, a method of cutting the wafer to a part (5 to 40 μm) of the adhesive tape for fixing a semiconductor and fully cutting the wafer is generally employed.
However, the conventional adhesive tape for fixing a semiconductor has a problem of causing chipping (chipping) of several μm to several hundred μm on the formed chip cut surface due to impact or vibration during dicing. Such chipping is larger in a compound semiconductor such as gallium arsenide.

この問題に対し、粘着剤の貯蔵弾性率を比較的高めの範囲に限定することでチッピング低減を得るという手法が開示されている。しかしながら、貯蔵弾性率の制御においては、チッピングの低減とテープ保持に必要とされる十分な接着力を両立することは非常に困難であるという問題があった。すなわち、チッピング低減の為に貯蔵弾性率を高く設計すると、チップ保持に必要とされる接着力を得ることができず、ダイシング加工時に小辺化された半導体チップがテープから剥離してしまうという問題があり、一方で、この問題を防ぐ為に接着力を高く設計した場合、チッピング低減に十分な効果を得ることができないという問題があった。
また、粘着剤層に酢酸ビニルモノマーから導かれる共重合ポリマー、もしくは該酢酸ビニル系共重合ポリマーとアクリル系共重合ポリマーの混合組成物を用いることによりチッピングの低減を得るという手法が開示されているが、酢酸ビニルモノマーはアクリルモノマーとの反応性が低く、重合反応が均一に進行しないことから、安定した材料の供給が困難であり、実用には適さないという問題がある。
In order to solve this problem, a technique is disclosed in which chipping reduction is obtained by limiting the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive to a relatively high range. However, in controlling the storage elastic modulus, there is a problem that it is very difficult to achieve both reduction of chipping and sufficient adhesive force required for holding the tape. In other words, if the storage elastic modulus is designed to be high for reducing chipping, the adhesive force required for holding the chip cannot be obtained, and the semiconductor chip that has been reduced in size during the dicing process will be peeled off from the tape. On the other hand, when the adhesive strength is designed to be high in order to prevent this problem, there is a problem that a sufficient effect for reducing chipping cannot be obtained.
Further, a technique is disclosed in which chipping is reduced by using a copolymer derived from a vinyl acetate monomer or a mixed composition of the vinyl acetate copolymer and an acrylic copolymer in the pressure-sensitive adhesive layer. However, since vinyl acetate monomer has low reactivity with acrylic monomer and the polymerization reaction does not proceed uniformly, it is difficult to supply a stable material and is not suitable for practical use.

このような従来の製造方法に対し、近年、半導体素子の小型化の一形態としてパターン回路側に電極を有するフリップチップ型パッケージの開発が各社で行われている。このフリップチップ型パッケージの中でもウエハレベル・チップサイズ・パッケージ(WLCSP)は、前処理が終わったウエハに、ポリイミドコート、Cu再配置配線形成、Cuポスト形成、レジン封止、レジン研磨、端子形成、と順次パッケージ処理を施した後、最後に個々のチップに切り分けることにより作製される。 In contrast to such conventional manufacturing methods, flip chip type packages having electrodes on the pattern circuit side have been developed in recent years as one form of miniaturization of semiconductor elements. Among these flip chip type packages, the wafer level chip size package (WLCSP) is a polyimide-coated, Cu rearranged wiring formation, Cu post formation, resin sealing, resin polishing, terminal formation, After sequentially performing the package processing, the chip is finally cut into individual chips.

このように樹脂で一括封止されたパッケージのダイシング工程では、切断時の負荷が大きい上、パッケージ樹脂は離型剤を含有するとともにその樹脂表面も微小な凹凸を有する構造を有することから、その半導体加工用テープに使用されている粘着剤には強固にパッケージを保持でき、ダイシング時のパッケージが保持されず飛散する(以下、「パッケージフライ」という。)などの不具合が生じないように柔軟な粘着剤が使用されている。
しかしながらこのような柔軟な粘着剤を使用することにより、ダイシングによるパッケージ側面への粘着剤付着やパッケージに捺印されているレーザーマークが剥がれるという問題が生じており、この点の改良が望まれていた。
In the dicing process of the package collectively sealed with the resin in this way, the load at the time of cutting is large, and the package resin contains a release agent and the resin surface also has a structure with minute irregularities. The adhesive used for semiconductor processing tape can hold the package firmly and is flexible so that it does not hold the package during dicing and scatters (hereinafter referred to as “package fly”). Adhesive is used.
However, the use of such a flexible pressure-sensitive adhesive causes problems such as adhesion of the pressure-sensitive adhesive to the side surface of the package due to dicing and peeling of the laser mark imprinted on the package. Improvement of this point has been desired. .

一方、半導体ウエハに貼着し、ダイシング、エキスパンティング等を行い、次いで該半導体ウエハをピックアップすると同時にマウンティングする際に用いる半導体ウエハ固定用粘着テープとして、紫外線及び/又は電子線に対し透過性を有する基材上に紫外線及び/又は電子線により重合硬化反応をする粘着剤層が塗布された粘着テープを用い、ダイシング後に紫外線及び/又は電子線を粘着剤層に照射し、粘着剤層を重合硬化反応をさせ、粘着力を低下せしめて半導体チップをピックアップする方法が知られている。しかしながらこのようにダイシング加工終了後紫外線照射により粘着力を低減させることが可能な半導体ウエハ加工用テープでも上記の課題を解決するのに十分とはいえなかった。
特開平10−242086号公報 特開2005−281418号公報 特開2005−281419号公報 特開2005−281420号公報 特開2001−354930号公報 特開2003−201451号公報
On the other hand, as an adhesive tape for fixing a semiconductor wafer to be used when a semiconductor wafer is attached, dicing, expanding, etc., and then picking up the semiconductor wafer and mounting it, it is permeable to ultraviolet rays and / or electron beams. Using a pressure-sensitive adhesive tape in which a pressure-sensitive adhesive layer that undergoes a polymerization and curing reaction with ultraviolet rays and / or electron beams is applied onto a substrate having the substrate, the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with ultraviolet rays and / or electron beams after dicing, and the pressure-sensitive adhesive layer is polymerized. A method is known in which a semiconductor chip is picked up by causing a curing reaction to reduce the adhesive force. However, even a semiconductor wafer processing tape capable of reducing the adhesive force by irradiating with ultraviolet rays after dicing is completed is not sufficient to solve the above problems.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-242086 JP 2005-281418 A JP 2005-281419 A JP 2005-281420 A JP 2001-354930 A JP 2003-201451 A

本発明の目的は、半導体ウエハをダイシング処理する際においてチッピングが発生し難く、且つ、チップ保持に十分な接着力を有するダイシング用粘着テープを提供することにある。
さらに本発明の目的は、樹脂で一括封止されたパッケージのダイシング工程において、パッケージフライを発生することなく、パッケージ側面への粘着剤付着を低減することが可能なダイシング用粘着テープを提供するものである。
An object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive tape for dicing that hardly causes chipping when dicing a semiconductor wafer and has sufficient adhesive force for holding a chip.
A further object of the present invention is to provide an adhesive tape for dicing capable of reducing the adhesion of adhesive to the side surface of the package without generating package fly in the dicing process of the package encapsulated with resin. It is.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、モノマー成分の少なくとも1種が(メタ)アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体をベース樹脂とする粘着剤が基材フィルムの少なくとも片面に形成されたダイシング用粘着テープを用いることにより、チップ保持に十分な接着力を低下させることなく、半導体ウエハをダイシング処理する際においてチッピングが発生し難いことを見出たものである。
また当該ダイシング用粘着テープを、樹脂で一括封止されたパッケージのダイシング工程で使用される場合には、ダイシング時におけるテープとパッケージとの密着性を低下させることなく、パッケージ側面への粘着剤付着を低減し、好適に用いられることを見出した。本発明は、この知見に基づきなされたものである。
すなわち、本発明におけるダイシング用粘着テープとは、回路パターンの形成されたウエハをチップ状に分離する際に使用される粘着テープだけでなく、樹脂で一括封止されたパッケージを個別に切断する際に使用される粘着テープも含むものとし、特に断りのない限り、両方に使用される粘着テープを意味するものとする。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that at least one of the monomer components is a (meth) acrylic acid alkyl ester and the alkyl group is an alicyclic hydrocarbon group. When dicing a semiconductor wafer without reducing adhesive strength sufficient for chip holding by using a dicing adhesive tape in which a polymer-based adhesive is formed on at least one side of a base film. It has been found that chipping hardly occurs.
In addition, when the adhesive tape for dicing is used in the dicing process of a package that is encapsulated with resin, the adhesive adheres to the side surface of the package without reducing the adhesiveness between the tape and the package during dicing. It was found that it can be suitably used. The present invention has been made based on this finding.
That is, the dicing adhesive tape in the present invention is not only an adhesive tape used when separating a wafer on which a circuit pattern is formed into chips, but also when individually cutting a package collectively sealed with a resin. In addition, the adhesive tape used in the above is also included, and unless otherwise specified, the adhesive tape used in both is meant.

すなわち、本発明は、
(1)基材フィルムの少なくとも片面に粘着剤層が形成された粘着テープにおいて、該粘着剤のベース樹脂は、モノマー成分の少なくとも1種が、(メタ)アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体であることを特徴とするダイシング用粘着テープ、
(2)前記脂環式炭化水素基がイソボルニル基であることを特徴とする(1)記載のダイシング用粘着テープ、
(3)前記(メタ)アクリル酸イソボルニルエステル含有量が前記ベース樹脂の5〜50質量%であることを特徴とする(1)または(2)記載のダイシング用粘着テープ、
(4)前記ダイシング用粘着テープに使用される粘着剤層が放射線硬化性粘着剤で構成されていることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載のダイシング用粘着テープ、
(5)前記放射線硬化性粘着剤のベース樹脂は側鎖に放射線重合性炭素−炭素二重結合を有することを特徴とする(4)記載のダイシング用粘着テープ、
を提供するものである。
That is, the present invention
(1) In a pressure-sensitive adhesive tape having a pressure-sensitive adhesive layer formed on at least one surface of a base film, the base resin of the pressure-sensitive adhesive is a (meth) acrylic acid alkyl ester and at least one alkyl group. A pressure-sensitive adhesive tape for dicing, characterized in that is a copolymer of alicyclic hydrocarbon group,
(2) The adhesive tape for dicing according to (1), wherein the alicyclic hydrocarbon group is an isobornyl group,
(3) The pressure-sensitive adhesive tape for dicing according to (1) or (2), wherein the content of the (meth) acrylic acid isobornyl ester is 5 to 50% by mass of the base resin,
(4) The pressure-sensitive adhesive layer used in the pressure-sensitive adhesive tape for dicing is composed of a radiation-curable pressure-sensitive adhesive, and the pressure-sensitive adhesive tape for dicing according to any one of (1) to (3) ,
(5) The dicing adhesive tape according to (4), wherein the base resin of the radiation curable adhesive has a radiation polymerizable carbon-carbon double bond in a side chain,
Is to provide.

本発明は、半導体ウエハをダイシング処理する際においてはチッピングが発生し難く、且つ、チップを十分保持することができ、樹脂で一括封止されたパッケージのダイシング工程においては、パッケージフライを発生することなく、パッケージ側面への粘着剤付着を低減することができる。 According to the present invention, chipping is unlikely to occur when a semiconductor wafer is diced, and the chip can be sufficiently held, and a package fly is generated in a dicing process of a package that is collectively sealed with a resin. In addition, adhesion of the adhesive to the side surface of the package can be reduced.

本発明のダイシング用粘着テープは、基材フィルムの少なくとも片面に塗布された粘着剤層が設けられ、該粘着剤のベース樹脂は、モノマー成分の少なくとも1種が、(メタ)アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体である。
なお本発明においては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとは、アクリル酸アルキルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステルを併せていうものとする。以下さらに詳細に説明する。
The pressure-sensitive adhesive tape for dicing of the present invention is provided with a pressure-sensitive adhesive layer applied to at least one surface of a base film, and the base resin of the pressure-sensitive adhesive is composed of (meth) acrylic acid alkyl ester as at least one monomer component. And a copolymer in which the alkyl group is an alicyclic hydrocarbon group.
In the present invention, the (meth) acrylic acid alkyl ester refers to both an acrylic acid alkyl ester and a methacrylic acid alkyl ester. This will be described in more detail below.

(基材フィルム)
本発明における基材フィルムは、通常、半導体加工用テープに使用されるものであれば特に限定されず、プラスチック、ゴムなどを好ましく用いることができるが、後述の粘着剤として放射線硬化性の材料を使用した場合には、基材フィルム側から放射線照射した場合に粘着剤層が硬化することにより、粘着力が低減するよう、放射線透過性の点を考慮に入れて材料選択することが必要である。なお本発明においては、放射線とは紫外線のような光線、または電子線などの電離性放射線をいうが、放射線のうち紫外線を選択し、その照射によって放射線硬化型樹脂組成物を硬化させる場合には、この基材として紫外線透過性のよいものを選択する必要がある。
(Base film)
The substrate film in the present invention is not particularly limited as long as it is usually used for a semiconductor processing tape, and plastics, rubbers and the like can be preferably used. A radiation curable material is used as an adhesive described later. When used, it is necessary to select a material in consideration of the radiation transparency so that the adhesive layer is cured when irradiated with radiation from the base film side so that the adhesive force is reduced. . In the present invention, radiation refers to light rays such as ultraviolet rays or ionizing radiations such as electron beams, but when ultraviolet rays are selected from the radiations and the radiation-curable resin composition is cured by the irradiation. Therefore, it is necessary to select a substrate having a good ultraviolet transmittance as the base material.

このような基材フィルムとして選択し得る材料の例としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン−1、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、アイオノマーなどのα−オレフィンの単独重合体または共重合体あるいはこれらの混合物、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のエンジニアリングプラスチック、ポリウレタン、スチレン−エチレン−ブテンもしくはペンテン系共重合体、ポリアミド−ポリオール共重合体等の熱可塑性エラストマー、およびこれらの混合物を列挙することができる。   Examples of materials that can be selected as such a base film include, for example, polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polybutene-1, poly-4-methylpentene-1, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene. -Ethyl acrylate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, α-olefin homopolymer or copolymer such as ionomer, or a mixture thereof, polyethylene terephthalate, polycarbonate, poly Engineering plastics such as methyl methacrylate, thermoplastic elastomers such as polyurethane, styrene-ethylene-butene or pentene copolymers, polyamide-polyol copolymers, and mixtures thereof can be listed.

ハロゲンを含むポリ塩化ビニル、塩化ビニル−エチレン共重合体、FEP、PFA等のポリマーは、遊離ハロゲンまたは遊離ハロゲン酸が、半導体チップに悪影響を及ぼすため好ましくないので、使用するにしても少量とするのが好ましい。
なお、半導体チップに切断後ピックアップしやすいように、その間隙を大きくするために、半導体加工用テープを延伸することが行われるが(エキスパンド工程)、その場合ネッキング(基材フィルムを放射状延伸したときに起こる力の伝播性不良による部分的な伸びの発生)の極力少ないものが好ましく、ポリウレタンや分子量およびスチレン含有量を限定したスチレン−エチレン−ブテンもしくはペンテン系共重合体等を例示することができ、ダイシング時の伸びあるいはたわみを防止するには架橋した基材フィルムを用いると効果的である。基材フィルムの厚みは、強伸度特性、放射線透過性の観点から通常50〜200μmとするのが好ましい。
また基材フィルムの粘着剤層を塗布する側と反対側表面をシボ加工もしくは滑剤コーティングすると、ダイシング用粘着テープ保管時のブロッキング防止のほか、ダイシング用粘着テープを放射状に延伸した場合の治具との摩擦を減少することができ、基材フィルムのネッキング防止などの効果があるので好ましい。
Polymers such as halogen-containing polyvinyl chloride, vinyl chloride-ethylene copolymer, FEP, and PFA are not preferable because free halogen or free halogen acid adversely affects the semiconductor chip. Is preferred.
In order to make the gap easy to pick up after cutting into a semiconductor chip, the semiconductor processing tape is stretched (expanding process). In that case, necking (when the base film is stretched radially) (Partial elongation due to poor transmission of force) is preferable, and examples thereof include polyurethane and styrene-ethylene-butene or pentene copolymers with limited molecular weight and styrene content. In order to prevent elongation or deflection during dicing, it is effective to use a cross-linked base film. The thickness of the base film is usually preferably from 50 to 200 μm from the viewpoints of high elongation properties and radiation transparency.
In addition, when the surface opposite to the side of the base film where the adhesive layer is applied is textured or coated with a lubricant, in addition to preventing blocking during storage of the dicing adhesive tape, This is preferable because there is an effect such as prevention of necking of the base film.

(粘着剤層)
本発明で用いられる粘着剤は、モノマー成分の少なくとも1種が、(メタ)アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体をベース樹脂として含有することを特徴とする。例えば、モノマー成分の少なくとも1種が、アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基とし、他のモノマー成分として(メタ)アクリル酸のアルキルエステルを主な構成単位とする重合体、もしくは、共重合が可能な他の不飽和モノマーとの共重合体、またはこれらの重合体の混合物から任意に選択することができる。脂環式環状炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ブチルヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられ、アクリル酸、メタクリル酸のアルキルエステルとしては、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、エチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどが挙げられ、アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他の不飽和モノマーとしては、酢酸ビニル等が挙げられる。
イソボルニル(メタ)アクリレートを使用した場合には、その含有量は適宜選択することができるが、ダイシング時のウエハ飛散やパッケージフライを少なくするためには、その含有量はベース樹脂の5〜50質量%とすることが好ましい。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive used in the present invention contains, as a base resin, a copolymer in which at least one monomer component is a (meth) acrylic acid alkyl ester and the alkyl group is an alicyclic hydrocarbon group. Features. For example, at least one of the monomer components is an acrylic acid alkyl ester, the alkyl group is an alicyclic hydrocarbon group, and the other monomer component is a poly (meth) acrylic acid alkyl ester as a main constituent unit. The polymer can be arbitrarily selected from a copolymer, a copolymer with another unsaturated monomer capable of copolymerization, or a mixture of these polymers. Examples of the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group include isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, butylhexyl ( (Meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and the like. Examples of alkyl esters of acrylic acid and methacrylic acid include methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meta). ) Acrylate, (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, etc., acrylic acid alkyl ester, methacrylic acid alkyl ester The other copolymerizable unsaturated monomers, and vinyl acetate.
When isobornyl (meth) acrylate is used, its content can be selected as appropriate, but in order to reduce wafer scattering and package fly during dicing, the content is 5-50 mass of the base resin. % Is preferable.

前述の粘着剤を放射線硬化性の粘着剤とするには、前述のアクリル系共重合体に、放射線硬化性の官能基を有し、かつ前述のアクリル系共重合体の側鎖に付加反応可能な官能基を有している化合物を付加反応させることで、放射線硬化性の粘着剤とすることができる他、一般的な粘着剤に放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合した放射線硬化性粘着剤を例示できる。
放射線硬化性官能基を有し、アクリル系共重合体の側鎖に付加反応可能な官能基を有している化合物としては、付加反応の対象となる側鎖がカルボキシル基である場合には、グリシジルメタクリレートやアリルグリシジルエーテル等が挙げられ、付加反応の対象となる側鎖がエポキシ基である場合には、アクリル酸などが挙げられ、付加反応の対象となる側鎖が水酸基である場合には、2−イソシアネートエチルメタクリレートなどが挙げられる。
In order to use the above-mentioned pressure-sensitive adhesive as a radiation-curable pressure-sensitive adhesive, the above-mentioned acrylic copolymer has a radiation-curable functional group and can be added to the side chain of the above-mentioned acrylic copolymer. In addition to the addition reaction of compounds with various functional groups, it can be used as a radiation curable adhesive, and radiation curable compounds containing radiation curable monomer components and oligomer components in general adhesives. An adhesive can be illustrated.
As a compound having a radiation curable functional group and having a functional group capable of addition reaction on the side chain of the acrylic copolymer, when the side chain to be subjected to the addition reaction is a carboxyl group, Examples include glycidyl methacrylate and allyl glycidyl ether. When the side chain to be added is an epoxy group, acrylic acid is used. When the side chain to be added is a hydroxyl group, , 2-isocyanatoethyl methacrylate and the like.

粘着剤層に配合される紫外線硬化型樹脂としては、ピックアップ工程時においてダイシングテープと半導体ウエハの剥離が容易とする特性を提供するものであれば特に限定されるものではないが、例として、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、(メタ)アクリル酸オリゴマーおよびイタコン酸オリゴマーのように水酸基あるいはカルボキシル基などの官能基を有するオリゴマーを挙げることができる。紫外線硬化樹脂の添加量は前述のアクリル系共重合体100質量部に対して30〜200質量部とするのが好ましく、紫外線硬化樹脂が少なすぎると、ピックアップ工程の際に素子固定粘着力を十分に低下させることができず、紫外線樹脂が多すぎるとダイシング工程においてチッピングが大きくなる。   The ultraviolet curable resin blended in the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as it provides a property that facilitates the separation of the dicing tape and the semiconductor wafer during the pick-up process. Examples thereof include oligomers having a functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group such as acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, (meth) acrylic acid oligomer and itaconic acid oligomer. The addition amount of the ultraviolet curable resin is preferably 30 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic copolymer described above, and if the amount of the ultraviolet curable resin is too small, the element fixing adhesive force is sufficient during the pickup process. If the amount of the ultraviolet resin is too large, chipping increases in the dicing process.

本発明の粘着テープを紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開始剤、例えばイソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフエノン、ミヒラーケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン、2−ヒドロキシメチルフエニルプロパン等をあげることができる。これらの内の少なくとも1種を放射線重合性粘着剤中に添加することによって、粘着剤層の硬化反応を効率良く進行させることができ、それによって素子固定粘着力を適度に低下させることができる。
光重合開始剤の添加量は、前記放射線重合性化合物100質量部に対して0.5〜10質量部とするのが良い。
When the adhesive tape of the present invention is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator such as isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, benzophenone, Michler ketone, chlorothioxanthone, dodecylthioxanthone, dimethylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethylketanol, Examples thereof include α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2-hydroxymethyl phenyl propane. By adding at least one of them into the radiation-polymerizable pressure-sensitive adhesive, the curing reaction of the pressure-sensitive adhesive layer can be efficiently advanced, and thereby the element fixing adhesive force can be appropriately reduced.
The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radiation polymerizable compound.

さらに本発明に用いられる放射線硬化性の粘着剤には必要に応じて粘着付与剤、粘着調整剤、界面活性剤など、あるいはその他の改質剤等を配合することができる。また、無機化合物フィラーを適宜加えてもよい。
本発明におけるテープ保持性の制御は、粘着剤層の架橋密度を制御することにより適宜実施可能である。粘着剤層の架橋密度の制御は、例えば多官能イソシアネート系化合物やエポキシ系化合物、メラミン系化合物や金属塩系化合物、金属キレート系化合物やアミノ樹脂系化合物や過酸化物などの適宜な架橋剤を介して架橋処理する方式、炭素・炭素二重結合を2個以上有する化合物を混合し、エネルギー線の照射等により架橋処理する方式などの適宜な方式で行うことができる。
粘着剤層の厚さはダイシング時におけるウエハ保持の点から少なくとも3μm、より好ましくは5μm以上であることが好ましく、また、粘着剤厚さが厚くなるとウエハのチッピングやパッケージ側面への糊残りが増大するため、30μm以下が好ましい。
Furthermore, the radiation-curable pressure-sensitive adhesive used in the present invention can be blended with a tackifier, a pressure-adjusting agent, a surfactant, or other modifiers as necessary. Moreover, you may add an inorganic compound filler suitably.
The control of the tape retention in the present invention can be appropriately performed by controlling the crosslinking density of the pressure-sensitive adhesive layer. Control of the crosslinking density of the pressure-sensitive adhesive layer can be achieved, for example, by using an appropriate crosslinking agent such as a polyfunctional isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, a metal salt compound, a metal chelate compound, an amino resin compound, or a peroxide. It is possible to carry out by an appropriate method such as a method of crosslinking through a method of mixing a compound having two or more carbon / carbon double bonds, and a method of crosslinking by irradiation with energy rays.
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably at least 3 μm, more preferably 5 μm or more from the viewpoint of holding the wafer during dicing. Also, as the pressure-sensitive adhesive thickness increases, the chipping of the wafer and the adhesive residue on the side of the package increase. Therefore, 30 μm or less is preferable.

(実施例)
次に、本発明を実施例に基づき、更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(共重合体の作製)
(共重合体A1)
2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸を原料として下記表1の配合比で重合を行った後に、さらに2−イソシアネートエチルメタクリレートを下記表1の配合比で付加反応させ、共重合体A1を得た。
(Example)
EXAMPLES Next, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, this invention is not limited to a following example.
(Production of copolymer)
(Copolymer A1)
Polymerization was performed using 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and acrylic acid as raw materials at the blending ratio shown in Table 1 below, and then 2-isocyanatoethyl methacrylate was added and reacted at the blending ratio shown in Table 1 below to obtain a copolymer. A1 was obtained.

(共重合体B1〜E1)
イソボルニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸を原料として下記表1の配合比で重合を行った後に、さらに2−イソシアネートエチルメタクリレートを下記表1の配合比で付加反応させ、共重合体B1〜E1を得た。
(Copolymers B1 to E1)
Polymerization was performed with isobornyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and acrylic acid as raw materials at the mixing ratio shown in Table 1 below, and 2-isocyanatoethyl methacrylate was further added at the mixing ratio shown in Table 1 below. To obtain copolymers B1 to E1.

(共重合体F1)
ジシクロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸を原料として、下記表1の配合比で重合を行った後に、さらに2−イソシアネートエチルメタクリレートを下記表1の配合比で付加反応させ、共重合体F1を得た。
(Copolymer F1)
After polymerization using dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and acrylic acid as raw materials at the mixing ratio shown in Table 1 below, 2-isocyanatoethyl methacrylate was further added at the mixing ratio shown in Table 1 below. By addition reaction, a copolymer F1 was obtained.

Figure 2007100064
Figure 2007100064

(共重合体A2)
2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸を原料として下記表2の配合比で重合を行った後に、さらに2−イソシアネートエチルメタクリレートを下記表2の配合比で付加反応させ、共重合体A2を得た。
(Copolymer A2)
Polymerization was performed using 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and acrylic acid as raw materials at the blending ratio shown in Table 2 below, and then 2-isocyanatoethyl methacrylate was further added and reacted at the blending ratio shown in Table 2 below. A2 was obtained.

(共重合体B2〜E2)
イソボルニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートおよびアクリル酸を原料として下記表2の配合比で重合を行った後に、さらに2−イソシアネートエチルメタクリレートを下記表2の配合比で付加反応させ、共重合体B2〜E2を得た。
(Copolymers B2 to E2)
Polymerization was carried out using isobornyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and acrylic acid as raw materials at the mixing ratio shown in Table 2 below, followed by addition reaction of 2-isocyanatoethyl methacrylate at the mixing ratio shown in Table 2 below. To obtain copolymers B2 to E2.

(共重合体F2)
ジシクロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸を原料として、下記表2の配合比で重合を行った後に、さらに2−イソシアネートエチルメタクリレートを下記表2の配合比で付加反応させ、共重合体F2を得た。
(共重合体G)
ジシクロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸を原料として、下記表2の配合比で重合を行うことにより共重合体Gを得た。
(Copolymer F2)
After polymerization using dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and acrylic acid as raw materials at the mixing ratio shown in Table 2 below, 2-isocyanatoethyl methacrylate was further added at the mixing ratio shown in Table 2 below. By addition reaction, a copolymer F2 was obtained.
(Copolymer G)
Copolymer G was obtained by polymerization using dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and acrylic acid at the blending ratios in Table 2 below.

Figure 2007100064
Figure 2007100064

(粘着剤の調整)
上記組成の合成により得られた共重合体のうち、共重合体Gを除くA1〜F1、A2〜F2のそれぞれ100質量部に対して、硬化剤としてポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製、商品名コロネートL)を1質量部、光開始剤としてα−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを1質量部の配合比で混合し、粘着剤A1〜F1、A2〜F2を得た。
(Adhesive adjustment)
Among the copolymers obtained by the synthesis of the above composition, 100 parts by mass of each of A1 to F1 and A2 to F2 excluding the copolymer G, a polyisocyanate compound (trade name, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) 1 part by weight of coronate L) and α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a photoinitiator were mixed at a blending ratio of 1 part by weight to obtain adhesives A1 to F1 and A2 to F2.

また共重合体Gに、放射線硬化性オリゴマーとして根上工業株式会社製:UN−9000Hを前記共重合体100質量部に対して50質量部、硬化剤としてポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製、商品名コロネートL)を1質量部、光開始剤としてα-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(日本チバガイギー社製、イルガキュア184)を1重量部の配合比で混合し、粘着剤Gを得た。   Further, the copolymer G is made of Negami Kogyo Co., Ltd .: UN-9000H as a radiation-curable oligomer, 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copolymer, and a polyisocyanate compound (trade name, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.). 1 part by weight of Coronate L) and α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy Japan, Inc., Irgacure 184) as a photoinitiator were mixed at a mixing ratio of 1 part by weight to obtain an adhesive G.

(ダイシング用粘着テープの作製)
粘着剤A1〜F1について、各々乾燥後の粘着剤厚さが20μmとなるように、150μm厚さのエチレン−メタクリル酸共重合体(三井・デュポンポリケミカル社製、商品名ニュクレルN0200H)フィルム上に塗工し、ダイシング用粘着テープA1〜F1を作製した。
(Preparation of adhesive tape for dicing)
About the adhesives A1 to F1, on the film of 150 μm thick ethylene-methacrylic acid copolymer (trade name Nucrel N0200H, manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.) so that the thickness of the adhesive after drying is 20 μm. Coating was performed to prepare dicing adhesive tapes A1 to F1.

粘着剤A2〜F2、Gについて、各々乾燥後の粘着剤厚さが10μmとなるように、150μm厚さのポリエステルフィルム上に塗工し、ダイシング用粘着テープA2〜F2、Gを作製した。   About adhesive A2-F2, G, it apply | coated on the 150-micrometer-thick polyester film so that the adhesive thickness after drying might be 10 micrometers, and adhesive tape A2-F2, G for dicing was produced.

(評価1)
上記のダイシング用粘着テープを下記の(1)ダイシング試験条件で、一括樹脂封止されたパッケージ30mm角をダイシング後、2mm角に切断した。次いで(2)の紫外線照射の条件で、紫外線を照射したのち、小片化されたパッケージをピックアップダイボンダー(小片化されたパッケージ材を粘着テープより拾い取る専用装置)を用い、ダイシング用粘着テープからパッケージをピックアップしこれを評価試料とした。
(Evaluation 1)
The above-mentioned dicing adhesive tape was diced into a 2 mm square after dicing a package resin-sealed package 30 mm square under the following (1) dicing test conditions. Next, after irradiating with ultraviolet rays under the condition of (2) UV irradiation, the package is made from the dicing adhesive tape using a pickup die bonder (a dedicated device that picks up the fragmented package material from the adhesive tape). Was picked up and used as an evaluation sample.

(測定条件)
(1)ダイシング試験条件
ダイシング装置 :DISCO社製 DAD−340
ブレード :DISCO社製 NBC−ZB−1120S3
ブレード回転数 :40000rpm
切削速度 :50mm/sec
切り残し厚み :60μm
切削水量 :1.5リットル/min
切削水温度 :20℃
樹脂で一括封止したパッケージサイズ :30mm角
(Measurement condition)
(1) Dicing test conditions Dicing apparatus: DAD-340 manufactured by DISCO
Blade: NBC-ZB-1120S3 manufactured by DISCO
Blade rotation speed: 40000 rpm
Cutting speed: 50 mm / sec
Uncut thickness: 60 μm
Cutting water volume: 1.5 liter / min
Cutting water temperature: 20 ° C
Package size sealed with resin: 30 mm square

(2)紫外線照射
UVランプ:高圧水銀灯
UV照度:35mW
UV照射量:500mJ
(2) UV irradiation UV lamp: high pressure mercury lamp UV illuminance: 35 mW
UV irradiation amount: 500 mJ

(各評価項目)
(1)粘着剤の付着
上記の条件でダイシングし小片化したパッケージ(2mm角)の任意の20個を選定し、評価試料とした。
パッケージ構造:BGA
パッケージサイズ(ダイシング後):2mm角
切断した1パッケージ4辺の側面に付着した20μm以上の粘着剤の付着を顕微鏡を用い目視にて測定した。
結果は、パッケージ数n=20の合計値とした。
側面粘着剤の付着判定 付着数量:20個未満:◎
21個以上、40未満:○
41個以上:×
(Each evaluation item)
(1) Adhesion of adhesive Any 20 packages (2 mm square) diced into small pieces under the above conditions were selected and used as evaluation samples.
Package structure: BGA
Package size (after dicing): 2 mm square The adhesion of an adhesive of 20 μm or more adhering to the side surfaces of one cut 4 package side was measured visually using a microscope.
The result was the total number of packages n = 20.
Adhesion judgment of side adhesive Adhesion quantity: Less than 20: ◎
21 or more, less than 40: ○
41 or more: ×

(2)ダイシング時のパッケージフライ
パッケージサイズ(ダイシング後):2mm角
パッケージフライ数 0 :◎
パッケージフライ数 1〜5:○
パッケージフライ数 6以上:×
パッケージフライ評価判定
問題なし :◎
限定して使用可能:○
使用不可能 :×
(2) Package fly during dicing Package size (after dicing): 2mm square
Package fly number 0: ◎
Number of package fly 1-5: ○
Package fly number 6 or more: ×
Package fly evaluation
No problem: ◎
Limited use: ○
Unusable: ×

(3)総合判定
使用上での支障 問題なし :◎
限定して使用可能:○
使用不可能 :×
以上の結果を表3に示す。
(3) Comprehensive judgment
No problem in use: ◎
Limited use: ○
Unusable: ×
The above results are shown in Table 3.

Figure 2007100064
Figure 2007100064

(評価2)
(ダイシング)
#2000砥石で研削した6インチシリコンウエハの研削面に粘着テープA2〜F2、Gを貼り合わせることによりリングフレームに固定し、ダイサーを用いて下記のダイシング条件で5mm×5mmのチップに個辺化した。
(Evaluation 2)
(Dicing)
Adhesive tapes A2 to F2 and G are bonded to the ground surface of a 6-inch silicon wafer ground with a # 2000 grindstone, and then fixed to the ring frame. Using a dicer, the chips are singulated into 5mm x 5mm chips under the following dicing conditions. did.

(ダイシング試験条件)
ダイシング装置 :DISCO社製 DAD−340
ブレード :DISCO社製 27HEDD
ブレード回転数 :40000rpm
切削速度 :100mm/sec
テープ切り込み量 :30μm
切削水量 :1.5リットル/min
切削水温度 :22℃
チップサイズ :5mm角
(Dicing test conditions)
Dicing machine: DAD-340 manufactured by DISCO
Blade: 27HEDD made by DISCO
Blade rotation speed: 40000 rpm
Cutting speed: 100 mm / sec
Tape cut depth: 30 μm
Cutting water volume: 1.5 liter / min
Cutting water temperature: 22 ° C
Chip size: 5mm square

(チップ飛散)
上記のダイシング操作の際に、ダイシング中に粘着剤層から剥がれて飛散したチップの数を数え、全体の中の割合をチップ飛散とした。また、ウエハ外周部において5mm×5mmの形状を有さない不完全なチップを周辺チップとし、同様に飛散チップの数を数え、その周辺チップ全数に対する割合を周辺チップ飛散とした。
(Chip scattering)
During the dicing operation described above, the number of chips peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer during dicing was counted, and the ratio of the total chips was regarded as chip scattering. Further, incomplete chips that do not have a 5 mm × 5 mm shape on the outer periphery of the wafer were used as peripheral chips, and the number of scattered chips was counted in the same manner, and the ratio to the total number of peripheral chips was determined as peripheral chip scattering.

(チッピング)
上記のダイシング操作によって個辺化された半導体チップのダイシング用粘着テープが貼合された面とは反対側の面に転写用粘着テープを貼合した後にダイシング用粘着テープを剥離し、無作為に選定した100個の半導体チップについて目視し、四辺における欠けの中心に向かった深さ方向の長さの最大値が30μm以下のものを○、30〜50μmのものを△、50μm以上のものを×とした。
(Chipping)
After sticking the adhesive tape for transfer on the surface opposite to the surface where the adhesive tape for dicing of the semiconductor chip separated by the dicing operation is pasted, the adhesive tape for dicing is peeled off at random. The selected 100 semiconductor chips were visually observed, and those having a maximum length in the depth direction toward the center of the chip on the four sides were ◯, those having 30-50 μm were △, those having 50 μm or more were × It was.

得られた粘着テープについてチップ飛散、チッピングを評価した結果を表4に示す。   Table 4 shows the results of evaluating chip scattering and chipping of the obtained adhesive tape.

Figure 2007100064
Figure 2007100064

表3の結果からわかるように、放射線硬化型粘着剤のベース樹脂として、モノマー成分の少なくとも1種が、アクリル酸アルキルエステルであるが、該アルキル基に脂環式炭化水素基を有しない共重合体を使用したダイシング用粘着テープである比較例1では、パッケージフライは良好であるものの、パッケージの側面に粘着剤が付着し、問題が生じた。   As can be seen from the results of Table 3, as a base resin of the radiation curable pressure-sensitive adhesive, at least one monomer component is an acrylic acid alkyl ester, but the alkyl group has no alicyclic hydrocarbon group. In Comparative Example 1, which is a dicing adhesive tape using a coalescence, the package fly was good, but the adhesive adhered to the side surface of the package, causing a problem.

それに対して、放射線硬化型粘着剤のベース樹脂として、モノマー成分の少なくとも1種が、アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体であって、側鎖に放射線硬化性炭素−炭素二重結合を有する材料を使用したダイシング用粘着テープである実施例1〜5ではパッケージ側面への粘着剤の付着は少なく、パッケージフライも良好な値で使用可能であることがわかる。
特にアクリル酸イソボルニルエステル含有量が粘着剤のベース樹脂の5〜45質量%である実施例1〜3の場合には、パッケージ側面への粘着剤の付着およびパッケージフライも問題なく良好な結果を示した。
On the other hand, as a base resin of a radiation curable pressure-sensitive adhesive, a copolymer in which at least one of the monomer components is an alkyl acrylate ester and the alkyl group is an alicyclic hydrocarbon group, has a side chain. In Examples 1 to 5, which are adhesive tapes for dicing using a material having a radiation curable carbon-carbon double bond, adhesion of the adhesive to the side surface of the package is small, and the package fly can be used at a good value. I understand that.
In particular, in the case of Examples 1 to 3 in which the content of isobornyl acrylate is 5 to 45% by mass of the base resin of the adhesive, the adhesion of the adhesive to the package side surface and the package fly are satisfactory without problems. showed that.

表4からわかるように、モノマー成分の少なくとも1種が、(メタ)アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体をベース樹脂とする実施例6〜10は、いずれもダイシング中のチップ飛散を防ぎつつ、チッピングは満足できるレベルであった。   As can be seen from Table 4, Examples 6 to 10 in which at least one of the monomer components is a (meth) acrylic acid alkyl ester and a copolymer in which the alkyl group is an alicyclic hydrocarbon group are used as a base resin. In both cases, chipping was at a satisfactory level while preventing chip scattering during dicing.

特に上記脂環式炭化水素基がイソボルニル基であり、ベース樹脂中におけるイソボルニルアクリレートの含有量が20%の実施例2と、同じく40%の実施例3は、チッピングにおいて非常に良好な結果を示した。
これに対し、モノマー成分の少なくとも1種が、(メタ)アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体をベース樹脂としない比較例2は著しくチッピングが悪く、使用上問題を生じた。





































In particular, Example 2 in which the alicyclic hydrocarbon group is an isobornyl group, and the content of isobornyl acrylate in the base resin is 20%, and Example 3 in which 40% is also 40% are very good results in chipping. showed that.
On the other hand, Comparative Example 2 in which at least one of the monomer components is a (meth) acrylic acid alkyl ester and the copolymer in which the alkyl group is an alicyclic hydrocarbon group is not used as a base resin has extremely poor chipping. Caused problems in use.





































Claims (5)

基材フィルムの少なくとも片面に粘着剤層が形成された粘着テープにおいて、該粘着剤のベース樹脂は、モノマー成分の少なくとも1種が、(メタ)アクリル酸アルキルエステルであるとともに該アルキル基が脂環式炭化水素基である共重合体であることを特徴とするダイシング用粘着テープ。 In a pressure-sensitive adhesive tape having a pressure-sensitive adhesive layer formed on at least one surface of a base film, the base resin of the pressure-sensitive adhesive is such that at least one monomer component is a (meth) acrylic acid alkyl ester and the alkyl group is an alicyclic ring. A pressure-sensitive adhesive tape for dicing, wherein the adhesive tape is a copolymer that is a hydrocarbon group. 前記脂環式炭化水素基がイソボルニル基であることを特徴とする請求項1記載のダイシング用粘着テープ。 The pressure-sensitive adhesive tape for dicing according to claim 1, wherein the alicyclic hydrocarbon group is an isobornyl group. 前記(メタ)アクリル酸イソボルニルエステル含有量が前記ベース樹脂の5〜50質量%であることを特徴とする請求項1または2記載のダイシング用粘着テープ。 3. The pressure-sensitive adhesive tape for dicing according to claim 1, wherein the content of the isobornyl ester (meth) acrylate is 5 to 50% by mass of the base resin. 前記ダイシング用粘着テープに使用される粘着剤層が放射線硬化性粘着剤で構成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のダイシング用粘着テープ。 The pressure-sensitive adhesive layer used in the pressure-sensitive adhesive tape for dicing is composed of a radiation-curable pressure-sensitive adhesive. The pressure-sensitive adhesive tape for dicing according to any one of claims 1 to 3. 前記放射線硬化性粘着剤のベース樹脂は側鎖に放射線重合性炭素−炭素二重結合を有することを特徴とする請求項4記載のダイシング用粘着テープ。




The dicing pressure-sensitive adhesive tape according to claim 4, wherein the base resin of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive has a radiation-polymerizable carbon-carbon double bond in a side chain.




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