JP2007098812A - 液体噴射ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リザーバ部31を形成する際に、リザーバ形成基板30をエッチングする前又はその途中に、リザーバ部31の圧力発生室12の長手方向に沿った壁面である第1の(111)面と圧力発生室12側の壁面を構成する第2の(111)面との角部が鈍角となる一方の漸小部の先端部に、レーザ加工によりリザーバ形成基板30を厚さ方向に貫通する少なくとも一つの貫通孔145を形成する。
【選択図】図4
Description
かかる第1の態様では、所定の開口形状でリザーバ形成基板を貫通するリザーバ部を良好に形成することができる。すなわち、リザーバ部となる領域にエッチング残りが生じることがない。したがって、並設された各圧力発生室の流路抵抗が一定となりインク吐出特性が均一化され、印刷品質が大幅に向上する。
かかる第2の態様では、実質的にリザーバ形成基板のエッチング速度が上昇し、比較的短時間で所定形状のリザーバ部を形成することができる。
かかる第3の態様では、レーザ加工により貫通孔を形成し易くなるため、リザーバ部をさらに良好に形成することができる。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係る製造方法によって製造されるインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図であり、図2は、図1の平面図及び断面図である。図示するように、流路形成基板10は、本実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には予め熱酸化によって二酸化シリコンからなる厚さ0.5〜2μmの弾性膜50が形成されている。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態では、リザーバ形成基板30をエッチングする前に、貫通孔145を形成するようにしたが、これに限定されず、マスクパターン140を介してリザーバ形成基板30をエッチングしてリザーバ部31をある程度の深さまで形成した後、レーザ加工により貫通孔を形成し、その後、さらにリザーバ形成基板30をエッチングすることによって、リザーバ部31を形成するようにしてもよい。この場合でも、勿論、所定形状のリザーバ部31を良好且つ効率的に形成することができる。
Claims (3)
- ノズル開口に連通する圧力発生室が複数並設されると共に一方面側に当該圧力発生室内に液滴を吐出させるための圧力を付与する圧力発生手段が設けられた流路形成基板と、複数の前記圧力発生室に連通すると共に前記圧力発生室の並設方向の両端部に外側に向かって幅が漸小する漸小部を有するリザーバ部が形成されたリザーバ形成基板とを有し、
前記リザーバ部が、面方位(110)のシリコン単結晶基板からなる前記リザーバ形成基板を所定形状のマスクパターンを介して異方性エッチングすることによって形成され、当該リザーバ部の前記圧力発生室の長手方向に沿った壁面が(110)面に垂直な第1の(111)面で構成されると共に、他の壁面がこの第1の(111)面と70.53°の角度をなす第2の(111)面を含む面で構成された液体噴射ヘッドの製造方法であって、
前記リザーバ部を形成する際、前記リザーバ形成基板をエッチングする前又はその途中に、前記リザーバ部の前記圧力発生室の長手方向に沿った壁面である前記第1の(111)面と前記圧力発生室側の壁面を構成する前記第2の(111)面との角部が鈍角となる一方の前記漸小部の先端部に、レーザ加工により当該リザーバ形成基板を厚さ方向に貫通する少なくとも一つの貫通孔を形成することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 - 前記マスクパターンが、前記リザーバ部に対向する領域に複数の開口部を形成する補正パターンを有し、前記リザーバ部を形成する際に、前記開口部を介して前記リザーバ形成基板を異方性エッチングすることを特徴とする請求項1に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。
- 前記リザーバ部の前記一方の角部を形成する前記圧力発生室側の壁面を構成する前記第2の(111)面の長さが200μm以下となるようにすることを特徴とする請求項1又は2に記載の液体噴射ヘッドの製造方法。
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