JP2007093646A - 直接描画装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 描画時間を短縮することが可能な直接描画装置を提供する。
【解決手段】 ステージが、表面に感光膜が形成された露光対象物を保持する。光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並んだ露光光源が、ステージに保持された露光対象物に発光画素が対向するように、n個(nは2以上の整数)配置されている。移動機構が、ステージ及びn個の露光光源の一方を他方に対して、ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる。n個の露光光源の発光画素の配列方向は相互に平行であり、第1の方向と交差する。n個の露光光源は、第1の方向に配列している。
【選択図】 図1
【解決手段】 ステージが、表面に感光膜が形成された露光対象物を保持する。光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並んだ露光光源が、ステージに保持された露光対象物に発光画素が対向するように、n個(nは2以上の整数)配置されている。移動機構が、ステージ及びn個の露光光源の一方を他方に対して、ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる。n個の露光光源の発光画素の配列方向は相互に平行であり、第1の方向と交差する。n個の露光光源は、第1の方向に配列している。
【選択図】 図1
Description
本発明は、直接描画装置に関し、特にプリント基板上に形成されたフォトレジスト膜に回路パターンを直接描画することができる直接描画装置に関する。
プリント基板上のフォトレジスト膜に回路パターンを描画する方法として、回路パターンが形成されたフォトマスクを用いた密着露光、縮小投影露光、近接露光等が知られている。プリント基板の少量多品種化が進むと、プリント基板の種類ごとにフォトマスクを作製しなければならない。このため、フォトマスクを用いない直接描画法が注目されている。
下記の特許文献1に開示されているフォトレジストパターン直接描画装置について説明する。アレイ状に配置された端面発光型エレクトロルミネッセンス(EL)素子を有する露光光源が、基板の上方に配置されている。制御回路により、各EL素子の発光をオンオフ制御する。各EL素子から放射された光が、集光光学系により基板上に照射される。
露光光源及び基板の一方を、EL素子が配列した方向と直交する方向に移動させながら、各EL素子の発光をオンオフ制御することにより、所望のパターンを描画することができる。
発光素子のアレイを用いた電子写真装置においては、発光素子アレイによって露光される直線状の領域を感光膜面内で移動させる必要がある。このため、フォトマスクを用いた露光に比べて、2次元画像の描画に長時間を要する。
本発明の目的は、描画時間を短縮することが可能な直接描画装置を提供することである。
本発明の第1の観点によれば、表面に感光膜が形成された露光対象物を保持するステージと、各々、光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された露光対象物に該発光画素が対向するように配置されたn個(nは2以上の整数)の露光光源と、前記ステージ及び前記n個の露光光源の一方を他方に対して、該ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる移動機構とを有し、前記n個の露光光源の発光画素の配列方向は相互に平行であり、前記第1の方向と交差し、該n個の露光光源は、前記第1の方向に配列している直接描画装置が提供される。
本発明の第2の観点によると、表面に感光膜が形成された第1及び第2の露光対象物を、感光膜が形成された面が相互に反対方向を向くように保持するステージと、光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された第1の露光対象物に該発光画素が対向するように配置された第1の露光光源と、光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された第2の露光対象物に該発光画素が対向するように配置された第2の露光光源と、前記第1及び第2の露光光源に対して前記ステージを、または前記ステージに対して前記第1及び第2の露光光源を、該ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる移動機構とを有し、前記第1及び第2の露光光源の発光画素の配列方向は、前記第1の方向と交差している直接描画装置が提供される。
本発明の第3の観点によると、両側の表面に感光膜が形成された露光対象物を、両側の表面上の感光膜の露光すべき領域が共に露出するように保持するステージと、光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された露光対象物の一方の面に該発光画素が対向するように配置された第1の露光光源と、光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された露光対象物の他方の面に該発光画素が対向するように配置された第2の露光光源と、前記第1及び第2の露光光源に対して前記ステージを、または前記ステージに対して前記第1及び第2の露光光源を、該ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる移動機構とを有し、前記第1及び第2の露光光源の発光画素の配列方向は、前記第1の方向と交差している直接描画装置が提供される。
第1の観点による装置により、露光対象物の表面のn個の領域に同時に描画することが可能になる。第2の観点による装置により、2枚の露光対象物に同時に描画することが可能になる。第3の観点による装置により、露光対象物の両側の面に同時に描画することが可能になる。このため、スループットを高めることができる。
図1A及び図1Bに、それぞれ第1の実施例による直接描画装置の正面図及び平面図を示す。基台1の上に、Xステージ2が取り付けられている。Xステージ2の上に、露光対象物であるプリント基板10が保持されている。プリント基板10の表面には、紫外光により感光するドライフィルムレジスト(DFレジスト)やソルダーレジストからなる感光膜が設けられている。Xステージ2に保持されたプリント基板10の表面に平行な面をXY面とするXYZ直交座標系を定義する。
Xステージ2は、移動機構8によりX軸方向に移動することができる。移動機構8は、制御装置4により制御される。Xステージ2に保持されたプリント基板10の上方に、第1の露光光源3A及び第2の露光光源3Bが配置されている。第1及び第2の露光光源3A及び3Bの各々は、Y軸に平行な方向に並んだ多数の発光ダイオード(LED)を含む。LEDの各々は、波長350nm〜410nmの範囲の紫外光を放射する。LEDの各々の発光部から放射された光が、Xステージ2に保持された露光対象物10の表面の所定の位置に入射する。光の入射する領域を「集光領域」と呼ぶこととする。集光領域は、露光対象物10の表面において、Y軸に平行な方向に配列する。Y軸方向に配列した集光領域の集合を「集光領域列」と呼ぶこととする。
Xステージ2の上面に、2個の集光位置検出器6が固定されている。集光位置検出器6は、第1及び第2の露光光源3A及び3BのLEDから放射された光を受光することにより、実際に光が入射する位置を計測することができる。集光位置検出器6として、例えば4分割フォトディテクタを用いることができる。
Xステージ2の上方に、2個のCCDカメラ7が配置されている。CCDカメラ7は、露光対象物10に形成されている位置合せ用のマークを観察することにより、露光対象物10の位置を検出する。さらに、集光位置検出器6をCCDカメラ7の視野内に配置することにより、集光位置検出器6の位置を計測することができる。
集光位置検出器6及びCCDカメラ7による検出結果が、制御装置4に入力される。制御装置4は、集光位置検出器6及びCCDカメラ7から入力された検出結果、及び予め与えられている画像データに基づいて、移動機構8を制御するとともに、第1及び第2の露光光源3A及び3Bを構成する複数のLEDの発光のタイミング制御を行う。
第1及び第2の冷却装置5A及び5Bが、それぞれ第1及び第2の露光光源3A及び3Bに熱的に結合しており、第1及び第2の露光光源3A及び3Bを冷却する。第1及び第2の冷却装置5A及び5B内に冷媒の流路が形成されている。冷媒導入路5Aaから、第1の冷却装置5A内の流路に冷媒が導入され、流路を流れた冷媒が、冷媒排出路5Abを通って排出される。第2の冷却装置5Bにも、同様に冷媒導入路5Ba及び冷媒排出路5Bbが設けられている。
図2Aに、露光光源3及び露光対象物10の部分断面図を示す。図1A及び図1Bに示した第1及び第2の露光光源3A及び3Bは、図2Aに示した露光光源3と同一の構造を有する。露光光源3は、発光画素アレイ30、遮光マスク32、及び集光光学系34を含んで構成される。発光画素アレイ30は、Y軸に平行な仮想直線に沿って配置された多数の発光画素31を含む。発光画素31の各々は、例えば、LEDで構成され、その発光波長は紫外域である。
発光画素31から放射された光の経路上に、遮光マスク32が配置されている。遮光マスク32には、発光画素31に対応した開口33が形成されている。
図2Bに、発光画素31と開口33との位置関係を示す。Z軸に平行な視線で見たとき、開口33は発光画素31よりも小さく、開口33の各々は、対応する発光画素31に内包される位置に配置されている。発光画素31から放射された光の一部が、その発光画素31に対応する開口33を通過し、残りの成分は、遮光マスク32により遮光される。また、開口33内の全領域を、対応する発光画素31から放射された光が通過する。
図2Aに戻って説明を続ける。集光光学系34が、遮光マスク32と露光対象物10との間に配置されている。集光光学系34は、遮光マスク32に形成された開口33の正立等倍像を、露光対象物10の表面に形成する。開口33が正方形である場合、その大きさによっては、解像限界により頂点が丸みを帯び、円形に近い像が形成される場合がある。集光光学系34として、例えばZ軸に平行な中心軸を持つ多数のセルフォックレンズがXY面に平行な面に沿って2次元的に配置されたセルフォックレンズアレイを用いることができる。
露光対象物10は、樹脂製のコア基板10A、銅箔10B、及び感光膜10Cがこの順番に積層された積層構造を有する。感光膜10Cは、例えばDFレジスト、ソルダーレジスト等で形成される。感光膜10Cのうち、開口33の等倍像が形成された領域が感光し、潜像が形成される。
図1A及び図1Bに示したXステージ2をX軸方向に移動させながら、描画すべき画像データに基づいて発光画素31を発光させることにより、感光膜10Cに、描画すべき画像の潜像を形成することができる。潜像が形成された感光膜10Cを現像することにより、感光膜10Cからなる画像(パターン)が形成される。
プリント基板10の描画すべき領域のX軸方向の最大寸法をLXとする。第1の露光光源3Aの集光領域列と第2の露光光源3Bの集光領域列との間隔は、LX/2に設定されている。この場合、プリント基板10をX軸方向にLX/2だけ移動させると、全面に描画を行うことができる。露光光源が1個のみの場合、プリント基板10の全面に描画を行うためには、プリント基板10をX軸方向に長さLXだけ移動させなければならない。2個の露光光源をLX/2だけ離して配置することにより、描画に必要な移動量を1/2にすることができる。このため、描画時間も約1/2になる。
第1の露光光源3Aで描画された図形と、第2の露光光源3Bで描画された図形とが、1つの露光光源を用いて描画した場合と同様に連続するためには、第1の露光光源3Aと第2の露光光源3Bとを、1画素の寸法の制度で位置合せすることが好ましい。集光位置検出器6を用いて、第1の露光光源3Aの代表の発光画素の集光領域と、第2の露光光源3Bの代表の発光画素の集光領域との位置を検出することにより、第1の露光光源3Aと第2の露光光源3Bとの位置を、画素レベルの精度で検出することができる。
第1及び第2の露光光源3A及び3Bの少なくとも一方に、X方向及びY方向に移動させるための微調機構を設けておくことが好ましい。この微調機構を動作させることにより、第1の露光光源3Aと第2の露光光源3Bとの相対的な位置合せを行うことができる。
上記第1の実施例では、第1の露光光源3A及び第2の露光光源3Bの集光領域列が共にY軸に平行にされていたが、両者を相互に平行にし、X軸と交差するように配置してもよい。
また、第1の実施例では、露光光源を2個配置したが、n個(nは2以上の整数)の露光光源をX軸方向に等間隔で配列させてもよい。露光光源による集光領域列のX軸方向の間隔をWXとする。このとき、プリント基板10をX軸方向にWXだけ移動させることにより、描画すべき全領域に描画可能なように、間隔WXを設定する。例えば、描画すべき領域のX軸方向の最大寸法がLXである場合、間隔WXをLX/nにすればよい。
なお、間隔WXがLX/nからいくらかずれていても、プリント基板10の移動量をWXよりもやや長くすることにより、全面に描画することが可能になる。描画時間短縮の十分な効果を得るために、このずれ量をLX/nの±1%以下にすることが好ましい。
また、上記第1の実施例では、Xステージ2をX軸方向に移動させたが、Xステージ2を固定し、第1及び第2の露光光源3A及び3BをX軸方向に移動させてもよい。
図3A及び図3Bに、それぞれ第2の実施例による直接描画装置の正面図及び側面図を示す。以下、第1の実施例による直接描画装置との相違点に着目して説明する。第2の実施例では、Xステージ2の上面及び下面に、それぞれ第1のプリント基板10A及び第2のプリント基板10Bが保持されている。これらのプリント基板10A及び10Bは、例えば真空チャック等のチャック機構によりXステージ2に固定される。
Xステージ2は、移動機構8によりX軸方向に移動可能に支持されている。移動機構8は、2本のレール8X、及び4本の脚8A〜8Dを含んで構成される。なお、図3A及び図3Bでは、1本の脚8Dは他の脚の後方に配置されているため、図示されていない。2本のレール8Xは基台1に固定され、4本の脚8A〜8DはXステージ2に固定されている。脚8A〜8Dがレール8Xに、X軸方向に移動可能に支持されている。Xステージ2は、ボールネジ等の直動機構によりX軸方向に駆動される。
Xステージ2の上面に、第1の集光位置検出器6Aが固定され、下面に、第2の集光位置検出器6Bが固定されている。Xステージ2の上面に対向するように、第1のCCDカメラ7Aが配置され、下面に対向するように第2のCCDカメラ7Bが配置されている。
さらに、Xステージ2の上面に対向するように、第1の露光光源3Aが配置され、下面に対向するように第2の露光光源3Cが配置されている。第1及び第2の露光光源3A及び3Cに、それぞれ冷却装置5A及び5Cが取り付けられている。
第1の露光光源3Aの集光領域列及び第2の露光光源3Bの集光領域列は、Y軸に平行であるか、またはX軸と交差する方向に延在する。
第2の実施例においては、プリント基板10A及び10Bの表面に画定されている描画すべき領域のX軸方の最大寸法分だけX軸方向に移動させることにより、2枚のプリント基板に同時に描画することができる。これにより、1枚ずつ描画する場合に比べて、2倍のスループットを達成することができる。さらに、Xステージ2の上側及び下側の各々に、だ1の実施例と同様に、複数個の露光光源を配置することにより、さらにスループットを高めることができる。
図4A及び図4Bに、それぞれ第3の実施例による直接描画装置の正面図及び側面図を示す。以下、第2の実施例による直接描画装置との相違点に着目して説明する。第3の実施例では、Xステージ2に、プリント基板10の描画すべき領域と等しいかまたはそれよりも大きな開口2Wが形成されている。プリント基板10の両面に感光膜が形成されている。プリント基板10の上側の面は、第1の露光光源3Aに対向し、下側の面は、開口2Wを経由して第2の露光光源3Bに対向する。
第3の実施例では、1枚のプリント基板10の両面に同時に描画することができる。このため、片側ずつ描画する場合に比べて、スループットを約2倍に高めることができる。さらに、Xステージ2の上側及び下側の各々に、複数個の露光光源を配置することにより、スループットをより高めることができる。
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
1 基台
2 Xステージ
2W 開口
3、3A、3B、3C 露光光源
4 制御装置
5A、5B、5C 冷却装置
6、6A、6B 集光位置検出器
7、7A、7B CCDカメラ
8 移動機構
8A〜8D 脚
8X レール
10、10A、10B プリント基板(露光対象物)
30 発光画素アレイ
31 発光画素
32 遮光マスク
33 開口
34 集光光学系
2 Xステージ
2W 開口
3、3A、3B、3C 露光光源
4 制御装置
5A、5B、5C 冷却装置
6、6A、6B 集光位置検出器
7、7A、7B CCDカメラ
8 移動機構
8A〜8D 脚
8X レール
10、10A、10B プリント基板(露光対象物)
30 発光画素アレイ
31 発光画素
32 遮光マスク
33 開口
34 集光光学系
Claims (4)
- 表面に感光膜が形成された露光対象物を保持するステージと、
各々、光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された露光対象物に該発光画素が対向するように配置されたn個(nは2以上の整数)の露光光源と、
前記ステージ及び前記n個の露光光源の一方を他方に対して、該ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる移動機構と
を有し、
前記n個の露光光源の発光画素の配列方向は相互に平行であり、前記第1の方向と交差し、該n個の露光光源は、前記第1の方向に配列している直接描画装置。 - 前記n個の露光光源は、第1の間隔で前記第1の方向に配列しており、前記移動機構を駆動して、前記ステージ及び前記n個の露光光源の一方を他方に対して該第1の間隔に等しい距離だけ移動させたとき、露光対象物の描画すべき全領域が、前記n個の露光光源から放射された光により露光され得るように、前記第1の間隔が設定されている請求項1に記載の直接描画装置。
- 表面に感光膜が形成された第1及び第2の露光対象物を、感光膜が形成された面が相互に反対方向を向くように保持するステージと、
光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された第1の露光対象物に該発光画素が対向するように配置された第1の露光光源と、
光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された第2の露光対象物に該発光画素が対向するように配置された第2の露光光源と、
前記第1及び第2の露光光源に対して前記ステージを、または前記ステージに対して前記第1及び第2の露光光源を、該ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる移動機構と
を有し、
前記第1及び第2の露光光源の発光画素の配列方向は、前記第1の方向と交差している直接描画装置。 - 両側の表面に感光膜が形成された露光対象物を、両側の表面上の感光膜の露光すべき領域が共に露出するように保持するステージと、
光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された露光対象物の一方の面に該発光画素が対向するように配置された第1の露光光源と、
光を放射する複数の発光画素が少なくとも1列に並び、前記ステージに保持された露光対象物の他方の面に該発光画素が対向するように配置された第2の露光光源と、
前記第1及び第2の露光光源に対して前記ステージを、または前記ステージに対して前記第1及び第2の露光光源を、該ステージに保持された露光対象物の感光膜が形成された表面に平行な第1の方向に移動させる移動機構と
を有し、
前記第1及び第2の露光光源の発光画素の配列方向は、前記第1の方向と交差している直接描画装置。
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- 2005-09-27 JP JP2005279014A patent/JP2007093646A/ja active Pending
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