JP2007072451A5 - - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 13
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- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006216423A JP4850616B2 (ja) | 2005-08-12 | 2006-08-09 | 半導体装置の作製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005234906 | 2005-08-12 | ||
JP2005234906 | 2005-08-12 | ||
JP2006216423A JP4850616B2 (ja) | 2005-08-12 | 2006-08-09 | 半導体装置の作製方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007072451A JP2007072451A (ja) | 2007-03-22 |
JP2007072451A5 true JP2007072451A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2009-09-10 |
JP4850616B2 JP4850616B2 (ja) | 2012-01-11 |
Family
ID=37933896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006216423A Expired - Fee Related JP4850616B2 (ja) | 2005-08-12 | 2006-08-09 | 半導体装置の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4850616B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080107242A (ko) * | 2006-03-06 | 2008-12-10 | 파나소닉 주식회사 | 포토마스크, 그 작성방법, 그 포토마스크를 이용한패턴형성방법 및 마스크데이터 작성방법 |
TWI422961B (zh) * | 2007-07-19 | 2014-01-11 | Hoya Corp | 光罩及其製造方法、圖案轉印方法、以及顯示裝置之製造方法 |
JP5239591B2 (ja) * | 2007-07-30 | 2013-07-17 | 大日本印刷株式会社 | 階調マスクおよびその製造方法 |
JP5292591B2 (ja) | 2007-10-19 | 2013-09-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Tft基板の製造方法 |
JP2010087333A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Seiko Epson Corp | フォトマスク、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 |
CN102375329B (zh) * | 2010-08-20 | 2013-04-10 | 上海微电子装备有限公司 | 一种测试掩模和利用该掩模进行曝光系统参数测量的方法 |
JP6139826B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2017-05-31 | Hoya株式会社 | フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP6557638B2 (ja) * | 2016-07-06 | 2019-08-07 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | ハーフトーンマスクおよびハーフトーンマスクブランクス |
JP2017072842A (ja) * | 2016-11-09 | 2017-04-13 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0815851A (ja) * | 1994-06-24 | 1996-01-19 | Sony Corp | ハーフトーン方式位相シフトマスク及びレジスト露光方法 |
JP3449857B2 (ja) * | 1996-06-03 | 2003-09-22 | 株式会社リコー | ハーフトーン位相シフトマスクとその製造方法 |
JP2000181048A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Sharp Corp | フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法 |
JP4954401B2 (ja) * | 2000-08-11 | 2012-06-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の製造方法 |
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2006
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