JP2007044633A - 基板洗浄ノズルおよび基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄ノズルおよび基板洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007044633A JP2007044633A JP2005232474A JP2005232474A JP2007044633A JP 2007044633 A JP2007044633 A JP 2007044633A JP 2005232474 A JP2005232474 A JP 2005232474A JP 2005232474 A JP2005232474 A JP 2005232474A JP 2007044633 A JP2007044633 A JP 2007044633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cleaning liquid
- component member
- recess
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基板洗浄ノズル2と、基板搬送手段30と、洗浄液供給手段31とを含む基板洗浄装置1において、基板洗浄ノズル2を、凹所が形成される第1の構成部材5と、第1の構成部材5との接合面20が段差を有する第1平面部20aと第2平面部20bとからなる第2の構成部材6との接合体であって、第1平面部20aが第1の構成部材5に当接し、第2平面部20bが第1の構成部材5に当接しないように形成する。
【選択図】図1
Description
略直方体形状を有し、長手方向の一端部から一端部に対向する他端部に向けて延びる凹所が形成される面を少なくとも1つ有する第1の構成部材と、
略直方体形状を有し、かつ第1の構成部材における凹所が形成される面に対して接合される面を有し、第1の構成部材と接合されることによって、前記凹所を洗浄液が流過する流路と成し、凹所が延びる方向に対して直交する方向の一側端部において、第1の構成部材の一側端部とともに外方に向けて開口する噴射開口部を形成する第2の構成部材と、
第1の構成部材と第2の構成部材との接合体における前記一端部と他端部とにおいて凹所が形成する開口部を閉塞するように設けられる第3の構成部材とを含み、
第1の構成部材における凹所が形成される面に対して接合される第2の構成部材の面は、1つの段差を有して互いに平行に形成される2つの第1平面部と第2平面部とから成り、
第1の構成部材と第2の構成部材とは、第1平面部が第1の構成部材の凹所が形成される面と当接し、第2平面部が第1の構成部材の凹所が形成される面と間隔を有するようにして接合されることを特徴とする基板洗浄ノズルである。
第1の構成部材の凹所が、
第2の構成部材に対向する底面が、噴射開口部から噴射される洗浄液噴射方向に対する傾斜角度および/または傾斜長さが異なる2つ以上の傾斜面を有するように形成されることを特徴とする。
噴射開口部に最も近接する傾斜面が、洗浄液噴射方向に対して傾斜角度15°以下および傾斜長さ10mm以下であることを特徴とする。
洗浄液を流過させる流路が、
第1の構成部材の凹所底面における傾斜面よりも洗浄液噴射方向の下流側において、第1の構成部材の凹所が形成される面と第2の構成部材の第2平面部とが平行に離隔して形成される洗浄液噴射路と、
洗浄液噴射路の洗浄液噴射方向の先端部において、洗浄液噴射路が外方に向けて開口する噴射開口部とを含むことを特徴とする。
前記仮想平面と、洗浄液噴射路を形成する第2の構成部材の第2平面部との洗浄液噴射方向に直交する方向の離隔距離と同じであることを特徴とする。
洗浄液噴射路が、洗浄液噴射方向において1mm以上、5mm以下の長さを有することを特徴とする。
洗浄液噴射路における第1および第2の構成部材の洗浄液との接触面が、表面粗度Rmax 1μm以下であることを特徴とする。
第1の構成部材には、凹所が延びる方向に予め定める間隔をあけて第2の構成部材の第1平面部または第2平面部まで延びる柱状部が凹所内に複数形成され、
第1の構成部材と第2の構成部材とは、柱状部において接合されることを特徴とする。
第2の構成部材の第2平面部における噴射開口部から洗浄液噴射方向とは反対方向への長さが、噴射開口部の短辺長さの1000倍以上であることを特徴とする。
前述のいずれか1つの基板洗浄ノズルと、
基板洗浄ノズルに高圧洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
被洗浄基板を載置して搬送する基板搬送手段とを含み、
基板搬送手段により搬送される被洗浄基板に対して、洗浄液供給手段から供給される高圧洗浄液を基板洗浄ノズルから噴射することによって被洗浄基板を洗浄することを特徴とする基板洗浄装置である。
2 基板洗浄ノズル
3 基板
3a 被洗浄面
4 洗浄液
5 第1の構成部材
6 第2の構成部材
7,8 ボルト
7a,7b,8a,8b ボルト挿入孔
9a,9b 第3の構成部材
10a,10b シール部材
11 噴射開口部
12 凹所形成面
13,13x,13y,13z 凹所
13a,13b,13c 底面
14a,14b 支持部
16 柱状部
17 位置決め用ピン
17a,17b 位置決めピン挿入孔
18 洗浄液供給口
19 流路
19a 洗浄液噴射路
20 接合面
20a 第1平面部
20b 第2平面部
21 噴射流
22 せん断流
30 基板搬送手段
31 洗浄液供給手段
32 搬送ローラ
33 搬送シャフト
34 基板搬送方向
35 洗浄液貯留槽
36 高圧ポンプ
37 洗浄液供給管
Claims (11)
- 略直方体形状を有し、長手方向の一端部から一端部に対向する他端部に向けて延びる凹所が形成される面を少なくとも1つ有する第1の構成部材と、
略直方体形状を有し、かつ第1の構成部材における凹所が形成される面に対して接合される面を有し、第1の構成部材と接合されることによって、前記凹所を洗浄液が流過する流路と成し、凹所が延びる方向に対して直交する方向の一側端部において、第1の構成部材の一側端部とともに外方に向けて開口する噴射開口部を形成する第2の構成部材と、
第1の構成部材と第2の構成部材との接合体における前記一端部と他端部とにおいて凹所が形成する開口部を閉塞するように設けられる第3の構成部材とを含み、
第1の構成部材における凹所が形成される面に対して接合される第2の構成部材の面は、1つの段差を有して互いに平行に形成される2つの第1平面部と第2平面部とから成り、
第1の構成部材と第2の構成部材とは、第1平面部が第1の構成部材の凹所が形成される面と当接し、第2平面部が第1の構成部材の凹所が形成される面と間隔を有するようにして接合されることを特徴とする基板洗浄ノズル。 - 第1の構成部材の凹所は、
第2の構成部材に対向する底面が、噴射開口部から噴射される洗浄液噴射方向に対する傾斜角度および/または傾斜長さが異なる2つ以上の傾斜面を有するように形成されることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄ノズル。 - 噴射開口部に最も近接する傾斜面は、
洗浄液噴射方向に対して傾斜角度15°以下および傾斜長さ10mm以下であることを特徴とする請求項2記載の基板洗浄ノズル。 - 洗浄液を流過させる流路は、
第1の構成部材の凹所底面における傾斜面よりも洗浄液噴射方向の下流側において、第1の構成部材の凹所が形成される面と第2の構成部材の第2平面部とが平行に離隔して形成される洗浄液噴射路と、
洗浄液噴射路の洗浄液噴射方向の先端部において、洗浄液噴射路が外方に向けて開口する噴射開口部とを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の基板洗浄ノズル。 - 第2の構成部材の第1平面部を洗浄液噴射方向に延長した仮想平面と、洗浄液噴射路を形成する第1の構成部材の凹所が形成される面との洗浄液噴射方向に直交する方向の離隔距離は、
前記仮想平面と、洗浄液噴射路を形成する第2の構成部材の第2平面部との洗浄液噴射方向に直交する方向の離隔距離と同じであることを特徴とする請求項4記載の基板洗浄ノズル。 - 洗浄液噴射路は、
洗浄液噴射方向において1mm以上、5mm以下の長さを有することを特徴とする請求項4または5記載の基板洗浄ノズル。 - 洗浄液噴射路における第1および第2の構成部材の洗浄液との接触面は、
表面粗度Rmax 1μm以下であることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1つに記載の基板洗浄ノズル。 - 第1の構成部材には、凹所が延びる方向に予め定める間隔をあけて第2の構成部材の第1平面部または第2平面部まで延びる柱状部が凹所内に複数形成され、
第1の構成部材と第2の構成部材とは、柱状部において接合されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の基板洗浄ノズル。 - 第2の構成部材の第2平面部は、
噴射開口部から洗浄液噴射方向とは反対方向への長さが、噴射開口部の短辺長さの1000倍以上であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の基板洗浄ノズル。 - 噴射開口部は、
短辺長さが50μm以下であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1つに記載の基板洗浄ノズル。 - 請求項1〜10のいずれか1つの基板洗浄ノズルと、
基板洗浄ノズルに高圧洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
被洗浄基板を載置して搬送する基板搬送手段とを含み、
基板搬送手段により搬送される被洗浄基板に対して、洗浄液供給手段から供給される高圧水を基板洗浄ノズルから噴射することによって被洗浄基板を洗浄することを特徴とする基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005232474A JP4330565B2 (ja) | 2005-08-10 | 2005-08-10 | 基板洗浄ノズルおよび基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005232474A JP4330565B2 (ja) | 2005-08-10 | 2005-08-10 | 基板洗浄ノズルおよび基板洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007044633A true JP2007044633A (ja) | 2007-02-22 |
JP4330565B2 JP4330565B2 (ja) | 2009-09-16 |
Family
ID=37847937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005232474A Expired - Fee Related JP4330565B2 (ja) | 2005-08-10 | 2005-08-10 | 基板洗浄ノズルおよび基板洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4330565B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104834118A (zh) * | 2014-02-07 | 2015-08-12 | 株式会社日本显示器 | 液晶显示装置的制造方法和制造装置 |
JPWO2017170714A1 (ja) * | 2016-03-29 | 2018-08-30 | 新日鐵住金株式会社 | 液体除去装置及び液体除去方法 |
JP2020186094A (ja) * | 2019-05-15 | 2020-11-19 | Jfeスチール株式会社 | 落下物の除去装置および落下物の除去方法 |
-
2005
- 2005-08-10 JP JP2005232474A patent/JP4330565B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104834118A (zh) * | 2014-02-07 | 2015-08-12 | 株式会社日本显示器 | 液晶显示装置的制造方法和制造装置 |
JPWO2017170714A1 (ja) * | 2016-03-29 | 2018-08-30 | 新日鐵住金株式会社 | 液体除去装置及び液体除去方法 |
JP2020186094A (ja) * | 2019-05-15 | 2020-11-19 | Jfeスチール株式会社 | 落下物の除去装置および落下物の除去方法 |
JP7126094B2 (ja) | 2019-05-15 | 2022-08-26 | Jfeスチール株式会社 | 落下物の除去装置および落下物の除去方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4330565B2 (ja) | 2009-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101350022B1 (ko) | 취성 재료 시트의 모서리 프로세싱 방법과 장치 | |
KR20010070234A (ko) | 판상부재의 반송 및 세정장치 | |
JP2010058057A (ja) | 除塵装置 | |
JP4330565B2 (ja) | 基板洗浄ノズルおよび基板洗浄装置 | |
US10421622B2 (en) | Floating conveyor and substrate processing apparatus | |
JP2007165554A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
WO2019082483A1 (ja) | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄システム | |
KR20050005784A (ko) | 기판 세정장치 및 기판 세정방법 | |
JP4730771B2 (ja) | 処理液供給ノズル及び基板処理装置 | |
JP2006086474A (ja) | 基板洗浄用ノズルおよび基板洗浄装置 | |
JP2000254605A (ja) | 可撓性基板の洗浄装置 | |
KR100762371B1 (ko) | 글라스 건조용 에어 나이프 | |
JP2001227868A (ja) | 基板乾燥装置及び乾燥方法 | |
JP2007196094A (ja) | 処理液供給ユニットおよびそれを備えた基板処理装置 | |
JP2001099569A (ja) | 基板の乾燥処理装置 | |
JP2862458B2 (ja) | 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置 | |
JP5202400B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2009129998A (ja) | 表面処理装置 | |
TWI603421B (zh) | 溼式製程設備 | |
JP4598911B2 (ja) | 基板から処理液を除去する方法及び装置 | |
JP2002026490A (ja) | 基板処理装置と該装置で得られた処理基板 | |
JPH09141192A (ja) | 板状パネルの搬送方法 | |
JP4036818B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
KR102321818B1 (ko) | 슬릿 노즐 및 기판 처리 장치 | |
CN211828692U (zh) | 基板处理装置以及吐出喷嘴 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090309 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090324 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090522 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090616 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090616 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |