JP2007042604A - 炭素終端構造のダイヤモンド電子源及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、低電圧動作可能な冷陰極表面構造に利用できる安定で優れた電子放出特性を示すダイヤモンド電子源及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
電極とダイヤモンド膜から構成される構造を持ち、電極に電圧が印加されたとき、ダイヤモンド膜から電子や電子線を放出する電子源において、ダイヤモンド膜が炭素終端構造のダイヤモンドであることを特徴とする炭素終端構造のダイヤモンド電子源及びその製造方法。
【選択図】 図1
Description
本発明による炭素終端構造のダイヤモンド電子源は、小型化および低消費電力化が実現でき、既存の電子放出源に置き換わるばかりでなく、新たな産業分野への展開が期待される。
材料的観点からは、仕事関数の小さな材料が有望であり、酸化ジルコニウムなどの酸化物や窒化チタンや窒化アルミニウムなどの窒化物、ダイヤモンドやダイヤモンド状炭素などの炭素系材料の探索や開発がおこなわれている。一方、従来から知られているモリブデンやタングステンなどの冷陰極材料に効率良く低電圧で高電流が得られるように、先鋭な針やコーン形状を形成する必要があり、最近の進歩がめざましいナノテクノロジーによる作製も併用されている。
ダイヤモンドは、バンドギャップが5.5eVと広いが、表面での電子親和力が負であるため、優れた冷陰極材料であると示唆されていた(特許文献1参照)また、同様に電子親和力が負である窒化アルミニウムや窒化ホウ素も、優れた冷陰極材料であることが期待されている(特許文献2参照)このような負の電子親和力材料において、材料合成や制御性が優れており、ナノ加工技術も発展している(特許文献3参照)、ダイヤモンドが最も有望であるとされている。他の物性、つまり高硬度、熱伝導性、化学的安定性においても、共有結合であり単原子材料であるダイヤモンドは、電子放出材料として、最も優れている。
本発明は、これまでの知見とは全く異なる立場で、ダイヤモンドの小さな正の電子親和力を積極的に利用した低電圧動作可能な冷陰極表面構造に関するものである。水素終端したダイヤモンドの負の電子親和力表面は、その発現機構や動作機構が全く明らかではなく、形成された表面も、冷陰極として利用する場合には、不安定な構造である。実際に、ダイヤモンドの負の電子親和力表面からの電子放出を示唆するような実験事実がほとんどない。
ダイヤモンドの優れた物性、表面の安定性を実現し、優れた電子放出特性を示す構造を見いだした。具体的には、再構成表面の様に炭素で終端された構造は、安定であり、電子放出特性も負の電子親和力表面である水素終端表面に比べて、低い電圧で観測されることを明らかにした。電子源応用では、電子放出電流の安定化も、低電圧動作と同様に重要な開発要素である。 水素終端されたダイヤモンドは他の電子源材料に比べて、放出電流の径時変化が少ないが、イオン衝撃等に対して耐久性が低いという問題点がある。本発明の炭素終端構造にすることで、安定な電子放出が得られることが明らかとなった。
それは、低電圧駆動可能なダイヤモンド冷陰極作製に関して、従来の負の電子親和力や水素終端構造ではなく、小さな正の電子親和力を形成することで、電子放出電圧を著しく低減することを可能にするという事であり、ダイヤモンド表面を炭素で終端する安定構造で小さな仕事関数を形成することである。
具体的に、炭素終端のための手法としては、10-5Torr以下の高真空中や窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中での500K〜1500K、より好ましくは900〜1400Kの熱処理でのアニールまたは熱処理などがあるが、これに限定されない。また、理想的には、再構成表面であるが、全面もしくは一部表面が炭素で終端されている構造であれば良い。
電極とダイヤモンド膜により構成された構造を持ち、電極に電圧が印加されたとき、ダイヤモンド膜から電子や電子線を放出する電子源において、ダイヤモンド膜が炭素終端構造のダイヤモンドであることを特徴とする炭素終端構造のダイヤモンド電子源である。
また本発明では、ダイヤモンドに、窒素やリン,硫黄,リチウムなどのドナーとなる不純物、もしくはn型を形成することができる不純物元素やそれらの複合物を添加したダイヤモンドとすることができ、好ましくは、n型を形成することができる不純物であるリンとすることができる。
さらに本発明では、基板を、半導体若しくは金属とすることができる。
また本発明では、ダイヤモンド膜をCVDにより若しくは高温高圧法により得られたものとすることができる。
またさらに本発明では、 ダイヤモンド膜が(111)、(100),(110)面の結晶構造の単結晶やエピタキシャル膜,若しくは多結晶膜とすることができる。
さらに本発明では、表面の一部が炭素終端構造のダイヤモンドである。
また本発明は、ダイヤモンド膜を10-5Torr以下の真空中、500〜1500Kの熱処理、より好ましくは900〜1400Kの熱処理により、ダイヤモンド表面の水素を脱理させ炭素終端構造を得る炭素終端構造のダイヤモンド電子源の製造方法である。
さらに、ダイヤモンド膜を10-1Torr以下のArや窒素,ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中において、500〜1500Kの熱処理、より好ましくは900〜1400Kの熱処理により、ダイヤモンド表面の水素を脱理させ炭素終端構造を得る炭素終端構造のダイヤモンド電子源の製造方法である。
さらに、半導体固体デバイスでは実現困難な、耐環境性電子デバイスへの応用も可能である。このため、将来のエネルギー問題を解決する一つの方法であり、フラットパネルディスプレイ、放電管、ランプ、真空マイクロ/ナノデバイスなど。各種産業機器、家電機器などの分野の電子線発生装置として産業応用上きわめて有効である。
本発明で用いる炭素終端構造のダイヤモンドは、CVD法によって合成されたもの、高温高圧法により得られたものがあるが、いずれも高温熱処理やアニールにより、ダイヤモンド表面の水素や酸素,それ以外の吸着物を脱理させることにより形成できる。高温熱処理は、10-5Torr以下の真空中、10-1Torr以下のArや窒素,ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中において、500〜1500K、より好ましくは900〜1400Kの範囲でおこなうことができる。
ダイヤモンド膜は,ホール効果測定によりn型の電気伝導性を示し,室温での電子濃度と抵抗率は,それぞれ1017〜1019cm-3および102〜104Ωcmであるダイヤモンド膜を用いた。
炭素終端構造の形成には、1x10-9Torr以下の高真空中において、900℃で1時間の熱処理をおこなった。
1x10-9Torrの真空中で、電子放出特性を測定した。試料を接地電極に固定し、直径20μmの半球状に加工したタングステンをアノードとして用いた。アノードとダイヤモンド表面の距離を50μmとした。アノード電極に電圧を増加させ、観測されたエミッション電流を測定した。電子放出特性は、同じ試料の負の電子親和力表面である水素終端構造表面が、2000Vで電子放出が開始したのに対して、本試料では電子放出開始電圧が3分の1程度の800Vにまで低減することが確認できた(図1)。
1x10-2Torr程度のAr雰囲気中において、800℃で1時間の熱処理をおこなった。電子放出特性は、真空アニール表面と同程度の電子放出開始電圧であることが確認された。
1x10-9Torrの真空中で、電子放出特性を測定した。試料を接地電極に固定し、直径20μmの半球状に加工したタングステンをアノードとして用いた。アノードとダイヤモンド表面の距離を50μmとした。アノード電極に電圧を増加させ、観測されたエミッション電流を測定した。電子放出特性は、同じ試料の負の電子親和力表面である水素終端構造表面が、2000Vで電子放出が開始したのに対して、本試料では電子放出開始電圧が半分程度の1000Vにまで低減することが確認できた。この結果を図2に示す。
1x10-9Torrの真空中で、一定の圧印加時の電子放出特性の径時変化を測定した。
初期電流により規格化した径時変化を図5に示す。水素終端表面は、初期電流に対し0.01〜50の範囲で変動を示す(図6)が、本発明の炭素終端表面は、0.5〜2.5の範囲である。
比較例1:
従来技術では、最も低い電子放出開始電圧である高濃度にリンを添加したダイヤモンドの水素終端負の電子親和力表面と比較した。比較を容易にするために、同一試料でおこなった。
高濃度リン添加ダイヤモンドは、合成時の反応僧内の炭素に対するリンの濃度が、1%で合成した、高濃度リン添加ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜(111)を用いた。水素終端構造の形成は、マイクロ波励起による水素プラズマ処理を、ダイヤモンド合成用の装置でおこなった。代表的な条件は、圧力:80Torr、基板温度:800度、時間:10分である。
1x10-9Torrの真空中で、電子放出特性を測定した。試料を接地電極に固定し、直径20μmの半球状に加工したタングステンをアノードとして用いた。アノードとダイヤモンド表面の距離を50μmとした。アノード電極に電圧を増加させ、観測されたエミッション電流を測定した。電子放出特性は、同じ試料の負の電子親和力表面である水素終端構造表面が、2000Vで電子放出が開始した。(図3)。
ダイヤモンドからの電子放出の報告例の中で、p型半導体ダイヤモンド表面が、低い電子放出開始電圧であることが知られている。さらに、従来のシリコンや金属の冷陰極の様にナノ構造を形成することで、材料的観点と構造的観点から優れた特性が示されるp型ダイヤモンド半導体ナノウイスカー水素終端構造(図4)とも比較した。
ナノ構造は、プラズマエッチングにより形成し、水素終端構造は、ダイヤモンド合成用の熱フィラメントCVD装置にておこなった。代表的な条件は、フィラメント温度:2100℃、基板温度:800℃、水素雰囲気圧力:100Torr、時間:10分である。
1x10-9Torrの真空中で、電子放出特性を測定した。試料を接地電極に固定し、直径20μmの半球状に加工したタングステンをアノードとして用いた。アノードとダイヤモンド表面の距離を50μmとした。アノード電極に電圧を増加させ、観測されたエミッション電流を測定した。電子放出特性は、同じ試料の負の電子親和力表面である水素終端構造表面が、1500Vで電子放出が開始した(図4)。
従来技術において、低電圧での電子放出が観測されている高濃度にリンを添加したダイヤモンドの酸素終端負の電子親和力表面と比較した。比較を容易にするために、同一試料でおこなった。
高濃度リン添加ダイヤモンドは、合成時の反応僧内の炭素に対するリンの濃度が、1%で合成した、高濃度リン添加ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜(111)を用いた。炭素終端構造の形成には、1x10-9Torr以下の高真空中において、900℃で1時間の熱処理をおこなった。酸素終端構造の形成は、硝酸と硫酸を1:3で混合した溶液中で100〜200℃の温度範囲で煮沸することでおこなった。炭素終端構造の形成は、1x10-9Torrの真空中で、電子放出特性を測定した。試料を接地電極に固定し、直径20μmの半球状に加工したタングステンをアノードとして用いた。アノードとダイヤモンド表面の距離を50μmとした。アノード電極に電圧を増加させ、観測されたエミッション電流を測定した。電子放出特性は、同じ試料の正の電子親和力表面である酸素終端構造表面が、1500V程度で電子放出が開始した。(図3)
高濃度リン添加ダイヤモンドは、合成時の反応僧内の炭素に対するリンの濃度が、1%で合成した、高濃度リン添加ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜(111)を用いた。酸素終端構造の形成は、硝酸と硫酸を1:3で混合した溶液中で100〜200℃の温度範囲で煮沸することでおこなった。炭素終端構造の形成は、1x10-9Torr程度の真空中において、800℃で1時間の熱処理をおこなった。
1x10-9Torrの真空中で、一定の電圧印加時の電子放出特性の径時変化を測定した。
初期電流により規格化した径時変化を図5に示す。酸素終端表面は、初期電流に対して0.6〜10の範囲で変動を示し、電流レベルが増加していることが確認された。一方、本発明の炭素終端表面は、0.5〜2.5の範囲であり、安定な電子放出が確認できた(図7)。
Claims (9)
- 電極とダイヤモンド膜を設けた基板からなり、電極に電圧が印加されたとき、ダイヤモンド膜から電子線を放出する電子源において、ダイヤモンド膜が炭素終端構造のダイヤモンドであることを特徴とする炭素終端構造のダイヤモンド電子源。
- ダイヤモンドが、ドナーとなる不純物、もしくはn型を形成することができる不純物を添加したダイヤモンドである請求項1に記載した炭素終端構造のダイヤモンド電子源。
- n型を形成することができる不純物がリンである請求項2に記載した炭素終端構造のダイヤモンド電子源。
- 基板が、絶縁体、半導体若しくは金属である請求項1ないし請求項3のいずれかひとつに記載された炭素終端構造のダイヤモンド電子源。
- ダイヤモンド膜がCVD法や高温高圧法により得られたものである請求項1から請求項4のいずれかひとつに記載された炭素終端構造のダイヤモンド電子源。
- ダイヤモンド膜が(111)、(100),(110)面の結晶構造の単結晶やエピタキシャル膜,若しくは多結晶膜である請求項1から請求項5のいずれかひとつに記載された炭素終端構造のダイヤモンド電子源。
- ダイヤモンド表面の一部が炭素終端構造である請求項1から請求項6のいずれかひとつに記載された炭素終端構造のダイヤモンド電子源。
- ダイヤモンド膜を10-5Torr以下の真空中、500〜1500Kの熱処理により、炭素終端構造を得る炭素終端構造のダイヤモンド電子源の製造方法。
- ダイヤモンド膜を10-1以下の不活性ガス雰囲気中において、500〜1500Kの熱処理により、炭素終端構造を得る炭素終端構造のダイヤモンド電子源の製造方法。
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