JP2007027211A - 電子部品及びその製造方法 - Google Patents
電子部品及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007027211A JP2007027211A JP2005203528A JP2005203528A JP2007027211A JP 2007027211 A JP2007027211 A JP 2007027211A JP 2005203528 A JP2005203528 A JP 2005203528A JP 2005203528 A JP2005203528 A JP 2005203528A JP 2007027211 A JP2007027211 A JP 2007027211A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin layer
- base substrate
- circuit pattern
- electronic component
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
【課題】 中空領域の気密性の高い電子部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂層12によって中空領域17を封止する。樹脂層12は紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有している。このため、ベース基板11を実装基板14上に装着する前に樹脂層12を紫外線効果によって部分硬化させておき、ベース基板11を実装基板14上に配置した後熱硬化させることが可能になる。これによって、ベース基板11の実装基板14配置前の取扱いが容易になり、不用な樹脂の付着を防止することができる。また、一度紫外線硬化させた後さらに熱硬化させるので、樹脂層12における欠陥穴の発生を低減することができ、樹脂層12の気密性が向上する。
【選択図】図3
【解決手段】樹脂層12によって中空領域17を封止する。樹脂層12は紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有している。このため、ベース基板11を実装基板14上に装着する前に樹脂層12を紫外線効果によって部分硬化させておき、ベース基板11を実装基板14上に配置した後熱硬化させることが可能になる。これによって、ベース基板11の実装基板14配置前の取扱いが容易になり、不用な樹脂の付着を防止することができる。また、一度紫外線硬化させた後さらに熱硬化させるので、樹脂層12における欠陥穴の発生を低減することができ、樹脂層12の気密性が向上する。
【選択図】図3
Description
本発明は、SAWデバイスなどの電子部品及びその製造方法に係わり、特に気密性を高めた電子部品及びその製造方法に関する。
従来の電子部品の一種としての弾性表面素子は、櫛歯状電極が形成された圧電基板の一面とベース基板とが対向配置された状態でフリップチップ接続されている。弾性表面素子は前記櫛歯状電極が形成された中空領域を除き、前記前記圧電基板の周囲が封止樹脂によって被覆されている(例えば、特許文献1:特開2003−168942号公報、特開2004−336671号公報参照)。
特開2003−168942号公報(第3頁、図1)
特開2004−336671号公報(第2図)
電子部品としての弾性表面素子は、圧電基板表面に形成される櫛型の電極材料にAL(アルミニウム)若しくはAL合金などが使われるのが一般的であるところ、これらの電極材料は水分の影響を受けやすいことから、SAWフィルタパッケージとしての高い気密性が求められる。
しかし、特許文献1に記載された電子部品(弾性表面波装置)ではダム20をデバイスチップのフリップチッフボンディング時の熱によってのみ硬化させており、フリップチッフボンディング前には未硬化樹脂を付けた状態でデバイスチップを取り扱わなければならず、不便であった。
また、特許文献2では、ダム12、13を紫外線硬化樹脂によって形成し、紫外線を2回照射することでダム12、13に欠陥穴が発生することを防止することが記載されている。しかし、紫外線照射を繰り返し行なうと工程が煩雑になり、コストが増大するという問題が生じる。
本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、弾性表面素子を含む電子部品において、高い気密性を備えつつも、取り扱いが容易で低コストな電子部品及びその製造方法を提供することを目的としている。
本発明の電子部品は、所定の回路パターンが形成されたベース基板と、前記ベース基板に対向配置される実装基板と、前記ベース基板を封止する封止部材とを備え、
前記ベース基板の前記回路パターンの周囲を完全に囲むように、紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂層が設けられ、この樹脂層を介して前記ベース基板と前記実装基板が接合していることを特徴とするものである。
前記ベース基板の前記回路パターンの周囲を完全に囲むように、紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂層が設けられ、この樹脂層を介して前記ベース基板と前記実装基板が接合していることを特徴とするものである。
本発明では、樹脂層を介して前記ベース基板と前記実装基板が接合しており、この樹脂層によって前記ベース基板上の前記回路パターンが気密封止される。本発明では前記樹脂層が紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有している。このため、前記樹脂層を実装基板上に装着する前に紫外線効果によって部分硬化させておき、実装基板上に配置した後熱硬化させることが可能になる。これによって、前記ベース基板の実装基板配置前の取扱いが容易になり、不用な樹脂の付着を防止することができる。また、一度紫外線硬化させた後さらに熱硬化させるので、前記樹脂層における欠陥穴の発生を低減することができ、前記樹脂層で囲まれる領域(中空領域)の気密性が向上する。
なお、本発明では、前記樹脂層は前記回路パターン上及び前記回路パターンの周囲に設けられており、前記回路パターン上の樹脂層と前記回路パターンの周囲の樹脂層が一体に形成されていることが好ましい。これにより、前記樹脂層の構造的な強度及び安定性が向上し、気密性も向上する。
また、本発明の電子部品は、所定の回路パターンが形成されたベース基板と、前記ベース基板に対向配置される実装基板と、前記ベース基板を封止する封止部材とを備え、
前記ベース基板と前記実装基板とを接合する樹脂層が設けられ、
前記回路パターン上と前記回路パターンの周囲の前記樹脂層が一体に形成されていることを特徴とするものである。
前記ベース基板と前記実装基板とを接合する樹脂層が設けられ、
前記回路パターン上と前記回路パターンの周囲の前記樹脂層が一体に形成されていることを特徴とするものである。
本発明の効果は、前記樹脂層の構造的な強度及び安定性が向上及び気密性の向上である。
なお、前記ベース基板に前記回路パターンの端子電極が設けられ、この端子電極と前記実装基板に設けられた引出し層が接続されることにより、前記樹脂層で囲まれた気密性を有する領域内に形成された前記回路パターンを外部回路と電気的に接続することができる。
前記樹脂層と前記実装基板の間に接着フィルム層又は接着ペースト層が設けられていると、気密性が向上するので好ましい。
本発明では、前記封止部材が液状樹脂を硬化させたものであっても、電子部品の前記回路パターン上の気密性を要する部位に、前記封止部材が進入することを防止できる。なお、本発明では、前記封止部材は板状樹脂であってもよい。
本発明の電子部品は、例えば、前記ベース基板として圧電性基板が用いられ、前記回路パターンの一部にくし歯状電極が形成されている弾性表面波素子である。この場合、前記樹脂層は、振動要素である前記くし歯状電極上には形成されないことが好ましい。すなわち、前記樹脂層は、前記くし歯状電極を除く前記回路パターン上及び前記回路パターンの全周囲に設けられていることが好ましい。
本発明の電子部品の製造方法は、
(a)ベース基板上に所定の回路パターンを形成する工程と、
(b)紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂を用いて、前記回路パターンの周囲を完全に囲むように樹脂層を形成する工程と、
(c)前記樹脂層に紫外線を照射し、前記樹脂層を部分硬化させる工程と、
(d)前記ベース基板の前記樹脂層及び前記回路パターンを実装基板の上面に対向させて、前記ベース基板と前記実装基板を貼り合わせる工程と、
(e)前記樹脂層に熱を加えて前記樹脂層を硬化させ、前記ベース基板と前記実装基板を接着する工程と、
(f)前記実装基板と前記ベース基板の側面の間の間隙を、封止部材で封止する工程を有することを特徴とするものである。
(a)ベース基板上に所定の回路パターンを形成する工程と、
(b)紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂を用いて、前記回路パターンの周囲を完全に囲むように樹脂層を形成する工程と、
(c)前記樹脂層に紫外線を照射し、前記樹脂層を部分硬化させる工程と、
(d)前記ベース基板の前記樹脂層及び前記回路パターンを実装基板の上面に対向させて、前記ベース基板と前記実装基板を貼り合わせる工程と、
(e)前記樹脂層に熱を加えて前記樹脂層を硬化させ、前記ベース基板と前記実装基板を接着する工程と、
(f)前記実装基板と前記ベース基板の側面の間の間隙を、封止部材で封止する工程を有することを特徴とするものである。
本発明では、前記樹脂層によって前記ベース基板上の前記回路パターンが気密封止される。本発明では前記樹脂層が紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有している。このため、前記樹脂層を実装基板上に装着する前に紫外線効果によって部分硬化させておき、実装基板上に配置した後熱硬化させることが可能になる。これによって、前記ベース基板の実装基板配置前の取扱いが容易になり、不用な樹脂の付着を防止することができる。また、一度紫外線硬化させた後さらに熱硬化させるので、前記樹脂層における欠陥穴の発生を低減することができ、前記樹脂層の気密性が向上する。
前記(d)工程において、前記実装基板の上面に接着フィルム層又は接着ペースト層を形成し、この接着フィルム層又は接着ペースト層と前記ベース基板の前記樹脂層を対向させると気密性が向上するので好ましい。
本発明では、前記(f)工程において、前記実装基板と前記ベース基板の側面の間の間隙に液状樹脂を注入し、この液状樹脂を硬化させたものを前記封止部材とする場合でも、前記回路パターン上に前記封止部材が進入することを防止できる。
なお、前記(f)工程において、前記実装基板と前記ベース基板の側面の間の間隙を板状樹脂で封止し、この板状樹脂を前記封止部材としてもよい。
本発明では、例えば、前記(a)工程において、前記ベース基板として圧電基板を用い、前記回路パターンの一部にくし歯状電極を形成し、弾性表面波素子を製造することができる。この場合、前記樹脂層は、振動要素である前記くし歯状電極上には形成されないことが好ましい。すなわち、前記樹脂層は、前記くし歯状電極を除く前記回路パターン上及び前記回路パターンの全周囲に設けられることが好ましい。
本発明では、前記樹脂層を実装基板上に装着する前に紫外線効果によって部分硬化させておき、実装基板上に配置した後熱硬化させることが可能になる。これによって、前記ベース基板の実装基板配置前の取扱いが容易になり、不用な樹脂の付着を防止することができる。また、一度紫外線硬化させた後さらに熱硬化させるので、前記樹脂層における欠陥穴の発生を低減することができ、前記樹脂層で囲まれた領域の気密性が向上する。
また、本発明では、回路パターン上の樹脂層と前記回路パターンの周囲の樹脂層を一体に形成することにより、前記樹脂層の構造的な強度及び安定性が向上し、気密性も向上する。
図1ないし図3は本発明の実施の形態の電子部品10の製造方法を説明するための図面である。これらの図面は製造工程にある電子部品の断面図を示している。
図1に示す工程ではウェハ状のベース基板11が用意される。本実施の形態ではベース基板11はLiTaO3またはLiNbO3などの圧電性基板によって形成されている。このベース基板本体11の表面には所定の平面形状からなる複数の素子形成エリア11a,11a,・・・が形成されており、くし歯状電極(IDT(インタディジタルトランスデューサ)電極)などからなる所定の回路パターンC及び端子電極(バンプ)13が個々の素子形成エリア11aに形成される(第1の工程)。櫛歯状電極(IDT(インタディジタルトランスデューサ)電極)や端子電極(バンプ)13はCu合金などの導電性材料で形成される。
なお、この製造方法で形成される電子部品10が、前記弾性表面波素子以外である場合には前記櫛歯状電極の代わりに、例えば抵抗体膜、コンデンサ用の誘電体膜またはコイル用の渦巻きパターンなどその他の回路パターンが形成される工程であってもよい。
回路パターンC及び端子電極13の周囲には、樹脂層12がパターン形成されている。樹脂層12は紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂を用いて形成されている。紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂は、例えばエポキシ系樹脂やシリコン系樹脂の内部に紫外線によって樹脂を硬化させる触媒としての酸を含有しているものである。この触媒としての酸の含有量を調節することにより、紫外線を照射しただけでは完全に硬化しないようにする。
本実施の形態では、ベース基板11、回路パターンC、端子電極13の上に紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂を塗布した後、回路パターンCの周囲を完全に囲む樹脂層12となる部分を残してマスキングし、樹脂層12となる部分にのみ紫外線を照射して部分硬化させる。本発明における「部分硬化」とは紫外線硬化だけで完全に硬化させないことをいい、紫外線照射後の段階では樹脂層12は完全に硬化していないが、エッチング処理によるパターニングが可能になる程度には硬化させられる。従って、図1に示される段階では、樹脂層12は弾性を有している。なお、「完全に囲む」とは回路パターンCの周りを360°全方位隙間なく囲むことをいう。
次に、ウェハ状のベース基板を一点鎖線で切断する。切断方法としては、例えばダイシング加工、レーザー加工、エンドミルによりミリング加工、あるいはドライエッチング法、ウエットエッチング法など各種の方法を用いることが可能である。
図2に示される工程では、回路パターンC及び樹脂層12を実装基板14の上面14aに対向させた状態で、ベース基板11と実装基板14を貼り合わせている。
実装基板14上には、ベース基板11を格納する凹部14cが形成されており、凹部14cの底部14dに銅、銀、タングステンあるいは金など導電性材料からなる貫通電極15,15(引出し層)が形成される。この貫通電極15は、例えばペースト印刷法、スパッタリング法、電解めっき法又は無電解めっき法のいずれかまたはこれら複数の方法を組み合せることにより形成することが可能である。貫通電極15の上下には接続端子16が形成される。
図2に示されるように、実装基板14側に形成された接続端子16とベース基板11側の端子電極13の位置が一致しており、例えば、超音波ボンディング装置により、所定の加熱、加圧下で所定時間超音波加振され、フリップチップボンディングが行なわれる。または、端子電極13をハンダバンプとしてハンダ接合してもよい。
ボンディング工程時に加えられる熱によって、樹脂層12の硬化が進み、樹脂層12によってベース基板11と実装基板14が接着される。このボンディング工程で端子電極13は多少変形する。ボンディング工程の前では、樹脂層12は完全に硬化していないため端子電極の変形に追従してその膜厚が変化する。
図2に示されるように、ベース基板11、樹脂層12、実装基板14で囲まれ気密性を有する中空領域17が形成され、回路パターンCの少なくとも一部は、中空領域17内に設けられる。中空領域17には例えばくし歯状電極が露出する。この中空領域17によりくし歯状電極13における弾性表面波の伝播を確保することが可能になる。
本実施の形態では、ボンディング工程時に端子電極13の変形に追従して樹脂層12の膜厚が変化するため、樹脂層12と実装基板14及びベース基板11との密着性が低下することはない。従って、樹脂層12によって中空領域17の気密性を高めることができる。また、樹脂層12の膜厚が変化するので端子電極13と接続端子16の接続が不完全になることはなく、さらに、ベース基板11に機械的な歪みを生じさせることもない。
なお、端子電極13と実装基板14に設けられた貫通電極15が電気的に接続されることにより、樹脂層12で囲まれた気密性を有する領域である中空領域17内に形成された回路パターンを外部回路と電気的に接続することができる。
次に、図3(a)に示されるように、ベース基板11の回路パターンCが形成された面と反対側の面(背面)11bと実装基板14の側壁14b上にエポキシやポリイミドなどからなる板状樹脂18を被せて、実装基板14とベース基板11の側面11cの間の間隙Sを封止する。この板状樹脂18が封止部材となる。
あるいは、図3(b)に示されるように、実装基板14とベース基板11の側面11cの間の間隙Sにエポキシやポリイミドなどからなる液状樹脂19を充填した後硬化させることにより間隙Sを封止してもよい。液状樹脂19の充填方法にはトランスファーモールド法やインサート成形など各種の手段を用いることが可能である。この板状樹脂19が封止部材となる。本実施の形態では、樹脂層12が実装基板14とベース基板11の間を埋めているので、液状樹脂19が中空領域17に進入することを防止できる。
本発明では、封止部材18、19及び樹脂層12の両方によって中空領域17を封止するので、中空領域の気密性が向上する。
また、本発明では樹脂層12が紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有している。このため、ベース基板11を実装基板14上に装着する前に樹脂層12を紫外線効果によって部分硬化させておき、ベース基板11を実装基板14上に配置した後熱硬化させることが可能になる。これによって、ベース基板11の実装基板14配置前の取扱いが容易になり、不用な樹脂の付着を防止することができる。また、一度紫外線硬化させた後さらに熱硬化させるので、樹脂層12における欠陥穴の発生を低減することができ、樹脂層12で囲まれた中空領域17の気密性が向上する。
図1に示した第1工程後、切断されたベース基板11を図4に示すように、板状の実装基板24に貼り合わせてもよい。
実装基板24には、銅、銀、タングステンあるいは金など導電性材料からなる貫通電極15,15(引出し層)が図2と同様に形成される。貫通電極15の上下には接続端子16が形成される。
実装基板24側に形成された接続端子16とベース基板11側の端子電極13の位置が一致しており、例えば、超音波ボンディング装置により、所定の加熱、加圧下で所定時間超音波加振され、フリップチップボンディングが行なわれる。
ボンディング工程時に加えられる熱によって、樹脂層12の硬化が進み、樹脂層12によってベース基板11と実装基板24が接着される。ボンディング工程の前では、樹脂層12は完全に硬化していないため端子電極の変形に追従してその膜厚が変化する。
ベース基板11、樹脂層12、実装基板24で囲まれる中空領域17が形成され、回路パターンCの少なくとも一部は中空領域17内に設けられる。中空領域17には例えばくし歯状電極が露出し弾性表面波の伝播を確保することが可能になる。
本実施の形態でも、ボンディング工程時に端子電極13の変形に追従して樹脂層12の膜厚が変化するため、樹脂層12と実装基板24及びベース基板11との密着性が低下することはない。従って、樹脂層12によって中空領域17の気密性を高めることができる。また、樹脂層12の膜厚が変化するので端子電極13と接続端子16の接続が不完全になることはなく、さらに、ベース基板11に機械的な歪みを生じさせることもない。
次に、図5(a)に示されるように、ベース基板の回路パターンCが形成された面と反対側の面(背面)11b及び側面11c並びに実装基板24の上面24aをエポキシやポリイミドなどからなる板状樹脂28で覆い、実装基板24とベース基板11の側面11cの間の間隙を封止する。この板状樹脂28が封止部材となる。
あるいは、図5(b)に示されるように、ベース基板11の背面11b及び側面11c並びに実装基板24の上面24aをエポキシやポリイミドなどからなる液状樹脂29で覆った後硬化させて、実装基板24とベース基板11の側面11cの間の間隙を封止してもよい。この板状樹脂29が封止部材となる。液状樹脂29の充填方法にはトランスファーモールド法やインサート成形など各種の手段を用いることが可能である。この板状樹脂29が封止部材となる。
これらの工程を経て電子部品20が形成される。図4及び図5に示される工程を経て形成された電子部品20も図3に示された電子部品10と同様の効果を奏することができる。
なお、樹脂層12と実装基板14、24との間に接着フィルム層30が設けられることが好ましい。接着フィルム層30の代わりに接着ペースト層が設けられてもよい。
接着フィルム層30は、図7に示されるように、実装基板14の上面14a上に接続端子16と重ならないように設けられる。
図6に示されるようにウェハ状のベース基板11上に回路パターンC及び樹脂層12を形成した後、一点鎖線にそって切断したベース基板11を切断する。
そして、図8に示すように、回路パターンC及び樹脂層12を実装基板14の上面14aに対向させた状態で、ベース基板11と実装基板14を貼り合わせ、接続端子16とベース基板11側の端子電極13のフリップチップボンディングが行なわれる。このような工程を経ることにより、樹脂層12と実装基板14、24との間に接着フィルム層30を設けることができる。
接着フィルム層30が樹脂層12と実装基板14、24との間に介在していると、ベース基板11を実装基板14上に配置するときに樹脂層12が固くなりすぎた場合でも、樹脂層12と実装基板14、24の間に隙間が発生することを防ぐことができる。
接続端子16とベース基板11側の端子電極13の接続後、図9(a)または図9(b)に示されるように、板状樹脂18を被せて、あるいは液状樹脂19を充填・硬化させて、実装基板14とベース基板11の側面11cの間の間隙Sを封止する。
また、板状の実装基板24の上面24aにベース基板11を貼り合わせる場合には、図10に示されるように、実装基板24の上面24a上に接着フィルム層30を接続端子16と重ならないように設ける。次に、図11に示すように、回路パターンC及び樹脂層12を実装基板24の上面24aに対向させた状態で、ベース基板11と実装基板24を貼り合わせ、接続端子16とベース基板11側の端子電極13のフリップチップボンディングを行なう。さらに、図12(a)または図12(b)に示されるように、板状樹脂28を被せて、あるいは液状樹脂29を充填・硬化させて、実装基板24とベース基板11の側面11cの間の間隙Sを封止する。
貫通電極15や中空領域17の形成及び効果に関しては、図1ないし図5に示された製造方法及び電子部品10、20と同様である。
図13は、ベース基板11上に形成された回路パターンCの平面図である。回路パターンCは複数の弾性表面波素子が接続されたバンドパスフィルタである。
このバンドパスフィルタF1は弾性表面波素子である共振器S21、共振器S22及び共振器S23が接続されることによって形成されている。共振器S21、S22、S23は圧電性基板であるベース基板11の上に、くし歯状電極部32及びくし歯状電極部33がスパッタ法やメッキ法等を用いて成膜されることによって形成されている。くし歯状電極部32とくし歯状電極部33は図示X方向に所定の間隔をあけて互い違いに並べられている。くし歯状電極部32、33の両側部にはベース基板(圧電性基板)11の表面に発生した表面波を反射するための反射器35,35が設けられている。
くし歯状電極部32とくし歯状電極部33に高周波信号が与えられるとベース基板(圧電性基板)11表面に弾性表面波が発生し、この表面波が図示X方向及び図示X方向と反平行方向に進行する。前記表面波は反射器35,35によって反射されて、くし歯状電極部32,33に戻って来る。共振器(弾性表面波素子)S21、S22、S23は、共振周波数と反共振周波数を有しており、反共振周波数において最もインピーダンスが高くなる。
くし歯状電極部32及びくし歯状電極部33並びに反射器35,35はCu合金などの導電性材料を用いてスパッタ法やメッキ法等などの薄膜形成プロセスで形成されている。
また、共振器S21のくし歯状電極部33と共振器S22のくし歯状電極部32は接続部34を介して電気的に接続されており、共振器S21のくし歯状電極部32と共振器S23のくし歯状電極部32は接続部36を介して電気的に接続されている。
共振器S21の一端部AはバンドパスフィルタF1の入力端子inに接続されて他端部Bは出力端子outに接続されている。共振器S22の一端部Aは共振器S21の一端部Aに、共振器S22の他端部Bは端子GNDを介してグラウンド電位に接続されている。共振器S23の一端部Aは共振器S21の他端部Bに、共振器S23の他端部Bは端子GNDを介してグラウンド電位に接続されている。バンドパスフィルタF1の端子inと端子GNDからなる入力ポート側に入力された高周波信号のうち特定の周波数帯域の信号のみが端子outと端子GNDからなる出力ポートに出力される。
図13の斜線で覆われた範囲に樹脂層12が形成される。くし歯状電極32、33及び反射器35の上及び周囲には樹脂層12は形成されず、くし歯状電極32、33における弾性表面波の伝播を確保することが可能になる。この樹脂層12が形成されない領域は図3などに示される中空領域17となり、気密性が確保された領域(樹脂層12によって完全に囲まれた領域)となる。
また、図13に示されるように、この実施の形態では樹脂層12は回路パターンCであるバンドパスフィルタF1の上を部分的に覆い、周囲を完全に囲むように形成されている。また、バンドパスフィルタF1上の樹脂層12及び周囲の樹脂層12が一体に形成されている。これにより、樹脂層12の構造的な強度及び安定性が向上し、気密性も向上する。
11 ベース基板
12 樹脂層
13 端子電極
14、24 実装基板
17 中空領域
18、19 封止部材
30 接着フィルム
12 樹脂層
13 端子電極
14、24 実装基板
17 中空領域
18、19 封止部材
30 接着フィルム
Claims (15)
- 所定の回路パターンが形成されたベース基板と、前記ベース基板に対向配置される実装基板と、前記ベース基板を封止する封止部材とを備え、
前記ベース基板の前記回路パターンの周囲を完全に囲むように、紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂層が設けられ、この樹脂層を介して前記ベース基板と前記実装基板が接合していることを特徴とする電子部品。 - 前記樹脂層は前記回路パターン上及び前記回路パターンの周囲に設けられており、前記回路パターン上の樹脂層と前記回路パターンの周囲の樹脂層が一体に形成されている請求項1記載の電子部品。
- 所定の回路パターンが形成されたベース基板と、前記ベース基板に対向配置される実装基板と、前記ベース基板を封止する封止部材とを備え、
前記ベース基板と前記実装基板とを接合する樹脂層が設けられ、
前記回路パターン上と前記回路パターンの周囲の前記樹脂層が一体に形成されていることを特徴とする電子部品。 - 前記ベース基板には前記回路パターンの端子電極が設けられており、この端子電極と前記実装基板に設けられた引出し層が接続されている請求項1ないし3のいずれかに記載の電子部品。
- 前記樹脂層と前記実装基板の間に接着フィルム層又は接着ペースト層が設けられている請求項1ないし4のいずれかに記載の電子部品。
- 前記封止部材は、液状樹脂を硬化させたものである請求項1ないし5のいずれかに記載の電子部品。
- 前記封止部材は、板状樹脂である請求項1ないし5のいずれかに記載の電子部品。
- 前記ベース基板として圧電性基板が用いられ、前記回路パターンの一部にくし歯状電極が形成されている請求項1ないし7のいずれか一項に記載の電子部品。
- 前記樹脂層は前記くし歯状電極上を除く前記回路パターン上及び前記回路パターンの全周囲に設けられている請求項8記載の電子部品。
- (a)ベース基板上に所定の回路パターンを形成する工程と、
(b)紫外線硬化特性及び熱硬化特性を有する樹脂を用いて、前記回路パターンの周囲を完全に囲むように樹脂層を形成する工程と、
(c)前記樹脂層に紫外線を照射し、前記樹脂層を部分硬化させる工程と、
(d)前記ベース基板の前記樹脂層及び前記回路パターンを実装基板の上面に対向させて、前記ベース基板と前記実装基板を貼り合わせる工程と、
(e)前記樹脂層に熱を加えて前記樹脂層を硬化させ、前記ベース基板と前記実装基板を接着する工程と、
(f)前記実装基板と前記ベース基板の側面の間の間隙を、封止部材で封止する工程を有することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 前記(d)工程において、前記実装基板の上面に接着フィルム層又は接着ペースト層を形成し、この接着フィルム層又は接着ペースト層と前記ベース基板の前記樹脂層を対向させる請求項10に記載の電子部品の製造方法。
- 前記(f)工程において、前記実装基板と前記ベース基板の側面の間の間隙に液状樹脂を注入し、この液状樹脂を硬化させたものを前記封止部材とする請求項10又は11に記載の電子部品の製造方法。
- 前記(f)工程において、前記実装基板と前記ベース基板の側面の間の間隙を板状樹脂で封止し、この板状樹脂を前記封止部材とする請求項10又は11に記載の電子部品の製造方法。
- 前記(a)工程において、前記ベース基板として圧電性基板を用い、前記回路パターンの一部にくし歯状電極を形成する請求項10ないし13のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
- 前記樹脂層を前記くし歯状電極上を除く前記回路パターン上及び前記回路パターンの全周囲に設ける請求項14記載の電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005203528A JP2007027211A (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 電子部品及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005203528A JP2007027211A (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 電子部品及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007027211A true JP2007027211A (ja) | 2007-02-01 |
Family
ID=37787633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005203528A Withdrawn JP2007027211A (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 電子部品及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007027211A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013207132A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Toshiba Corp | 半導体パッケージおよびその製造方法 |
KR101375368B1 (ko) * | 2012-12-27 | 2014-03-19 | 주식회사 심텍 | 미세 접속 패턴층을 구비하는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법 |
US8958123B2 (en) | 2011-10-14 | 2015-02-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
JP2017200175A (ja) * | 2016-04-01 | 2017-11-02 | スカイワークスフィルターソリューションズジャパン株式会社 | 樹脂により画定された空洞を含む電子パッケージとその形成方法 |
JP2023028624A (ja) * | 2021-08-19 | 2023-03-03 | 三安ジャパンテクノロジー株式会社 | モジュール |
-
2005
- 2005-07-12 JP JP2005203528A patent/JP2007027211A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8958123B2 (en) | 2011-10-14 | 2015-02-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
JP2013207132A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Toshiba Corp | 半導体パッケージおよびその製造方法 |
US9041182B2 (en) | 2012-03-29 | 2015-05-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor package and method of manufacturing the same |
KR101375368B1 (ko) * | 2012-12-27 | 2014-03-19 | 주식회사 심텍 | 미세 접속 패턴층을 구비하는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법 |
JP2017200175A (ja) * | 2016-04-01 | 2017-11-02 | スカイワークスフィルターソリューションズジャパン株式会社 | 樹脂により画定された空洞を含む電子パッケージとその形成方法 |
JP2023028624A (ja) * | 2021-08-19 | 2023-03-03 | 三安ジャパンテクノロジー株式会社 | モジュール |
JP7333965B2 (ja) | 2021-08-19 | 2023-08-28 | 三安ジャパンテクノロジー株式会社 | モジュール |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6242597B2 (ja) | 弾性波デバイス及びその製造方法 | |
US7259500B2 (en) | Piezoelectric device | |
US20070008051A1 (en) | Electronic component and manufacturing method thereof | |
US8749114B2 (en) | Acoustic wave device | |
US8748755B2 (en) | Electronic component, electronic device, and method for manufacturing the electronic component | |
JP2002261582A (ja) | 弾性表面波デバイスおよびその製造方法ならびにそれを用いた回路モジュール | |
WO2017179300A1 (ja) | 弾性波装置及びその製造方法 | |
US10812042B2 (en) | Electronic component | |
JP2019021998A (ja) | 電子部品 | |
JP3913700B2 (ja) | 弾性表面波デバイス及びその製造方法 | |
JP2008135971A (ja) | 弾性波デバイス | |
JP2007027211A (ja) | 電子部品及びその製造方法 | |
JP2017152870A (ja) | 弾性波デバイス | |
JP5873311B2 (ja) | 弾性波デバイス及び多層基板 | |
JP6950658B2 (ja) | 弾性波装置 | |
JP2004153412A (ja) | 弾性表面波装置及びその製造方法 | |
JP2001102905A (ja) | 弾性表面波装置 | |
JPH09246905A (ja) | 弾性表面波デバイス及びその製造方法 | |
JP2000236230A (ja) | 弾性表面波フィルタ | |
JP2004207674A (ja) | 電子部品装置の製造方法 | |
US8217551B2 (en) | Surface acoustic wave package with air hole that prevents thermal expansion | |
JP4704819B2 (ja) | 圧電デバイスの製造方法 | |
JP7344290B2 (ja) | 弾性波装置及び弾性波装置の製造方法 | |
JP2003163563A (ja) | 圧電装置 | |
JP2010171680A (ja) | 弾性表面波装置およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081007 |