JP2007025201A - Reflection preventive material and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、低反射率、機械強度、密着性、表面外観に優れた反射防止材の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing an antireflection material excellent in low reflectance, mechanical strength, adhesion, and surface appearance.
反射防止材は基板に屈折率の小さい膜を形成させることにより反射率を低減するというフィルムであり、ディスプレイを含め様々な分野で視認性向上のために用いられているフィルムである。 The antireflection material is a film that reduces reflectance by forming a film having a low refractive index on a substrate, and is a film that is used for improving visibility in various fields including displays.
従来の反射防止材としては、例えば基板／（ハードコート性を有する層）／高屈折率層及び低屈折率層、または高屈折率層、低屈折率層及び中屈折率層からなる多層反射防止層という構成のものや、基板／（ハードコート性を有する層）／高屈折率層／低屈折率層という構成のもの、基板／（ハードコート性を有する層）／低屈折率層という構成のものが知られていた。 Conventional antireflection materials include, for example, a substrate / (layer having a hard coat property) / a high refractive index layer and a low refractive index layer, or a multilayer antireflection layer composed of a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a medium refractive index layer. Layer structure, substrate / (layer having hard coat properties) / high refractive index layer / low refractive index layer, substrate / (layer having hard coat properties) / low refractive index layer Things were known.
しかし、これらの構成において、反射率を低くするためには、多層化しなければならないが、多層にすると、工程が煩雑になり、また全体の光線透過率が低下する、または各層の密着性が問題になったりする。また、高屈折率層と低屈折率層の２層からなる構成や、低屈折率層１層の構成（特許文献１参照）では、十分な反射防止効果が得られない。 However, in these configurations, in order to reduce the reflectance, it is necessary to make multiple layers. However, if multiple layers are used, the process becomes complicated, the overall light transmittance decreases, or the adhesion of each layer is a problem. It becomes. In addition, in a configuration composed of two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer, or a configuration of one low refractive index layer (see Patent Document 1), a sufficient antireflection effect cannot be obtained.
さらに、これらの反射防止材に、導電性、ハードコート性、粘着性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性を設けようとすると、一般的にはそれらの機能を有する層をさらに設けるか、またはハードコート層を有する場合、ハードコート層にそれらの機能を持たせることが考えられる。 Furthermore, when these antireflection materials are provided with conductivity, hard coat properties, adhesiveness, near-infrared absorptivity, selective wavelength absorptivity, and electromagnetic wave shielding properties, generally a layer having these functions is further added. When providing or having a hard-coat layer, it is possible to give those functions to a hard-coat layer.
これらの機能層はハードコート層に機能を持たせても、別に機能層を設けるとしても、いずれの場合も反射防止層の下層に位置し、これらの機能を有する層を設けた後に反射防止層を設けることになる。この場合、反射防止層は、塗工により設ける場合は、塗液を塗布後、紫外線や熱を加え硬化する。
機能性の材料は、これらの紫外線や熱により劣化することがあり、それによる機能の低下が問題であった。特に機能層に色素、導電性高分子などの有機系の材料を含む場合に問題であった。
Even if these functional layers are provided with a function in the hard coat layer or are provided with a separate functional layer, in any case, they are located in the lower layer of the antireflection layer, and after the layers having these functions are provided, the antireflection layer Will be provided. In this case, when the antireflection layer is provided by coating, it is cured by applying ultraviolet light or heat after coating the coating liquid.
Functional materials may be deteriorated by these ultraviolet rays and heat, resulting in a problem of deterioration in function. This is a problem particularly when the functional layer contains an organic material such as a dye or a conductive polymer.
本発明においては、簡便な工程で多層化することなく、高透明で良好な反射防止性能を得ることを目的とする。また導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性の機能を容易に付与しやすく、またこれらの機能を劣化させることなく反射防止材を製造できる製造方法とすることを目的とする。 In the present invention, it is an object to obtain a high anti-reflection property with high transparency without multilayering in a simple process. In addition, it is easy to impart functions such as conductivity, hard coat property, adhesiveness, ultraviolet ray absorption property, near infrared ray absorption property, selective wavelength absorption property, and electromagnetic wave shielding property, and an antireflection material can be used without deteriorating these functions. It aims at making it the manufacturing method which can be manufactured.
請求項１に記載の発明は、基材上の少なくとも一方の面に基材よりも屈折率が０．０１〜０．３低い低屈折率層が形成されており、もう一方の面に基材よりも屈折率が０．１〜１．０高い高屈折率の層を形成することを特徴とする反射防止材である。 According to the first aspect of the present invention, a low refractive index layer having a refractive index of 0.01 to 0.3 lower than that of the substrate is formed on at least one surface of the substrate, and the substrate is formed on the other surface. The antireflective material is characterized in that a high refractive index layer having a refractive index higher by 0.1 to 1.0 than that is formed.
請求項２に記載の発明は、前記低屈折率層が、ハードコート性を有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止材である。 The invention according to claim 2 is the antireflection material according to claim 1, wherein the low refractive index layer has a hard coat property.
請求項３に記載の発明は、前記低屈折率層が、ハードコート層の上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の反射防止材である。 The invention according to claim 3 is the antireflection material according to claim 1, wherein the low refractive index layer is formed on a hard coat layer.
請求項４に記載の発明は、前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止材である。 According to a fourth aspect of the present invention, the high refractive index layer is any one or more of conductivity, hard coat property, adhesiveness, ultraviolet absorption, near infrared absorption, selective wavelength absorption, and electromagnetic wave shielding. The antireflection material according to claim 1, wherein the antireflection material has the following function.
請求項５に記載の発明は、基材の一方の面に、基材よりも屈折率が０．０１〜０．３低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が０．１〜１．０高い高屈折率の層を形成する工程、を有することを特徴とする反射防止材の製造方法である。 The invention according to claim 5 is a step of forming a low refractive index layer having a refractive index of 0.01 to 0.3 lower than that of the base material on one surface of the base material, and then on the other surface of the base material. And a step of forming a high refractive index layer having a refractive index higher by 0.1 to 1.0 than that of the base material.
請求項６に記載の発明は、前記低屈折率層がハードコート性を有することを特徴とする請求項５に記載の反射防止材の製造方法である。 The invention according to claim 6 is the method for producing an antireflection material according to claim 5, wherein the low refractive index layer has a hard coat property.
請求項７に記載の発明は、基材の一方の面に、ハードコート層を形成する工程、さらにその上に基材よりも屈折率が０．０１〜０．３低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が０．１〜１．０高い高屈折率の層を形成する工程、を有することを特徴とする反射防止材の製造方法である。 The invention according to claim 7 is a step of forming a hard coat layer on one surface of the substrate, and further, a low refractive index layer having a refractive index lower by 0.01 to 0.3 than the substrate is formed thereon. And a step of forming a high refractive index layer having a refractive index higher by 0.1 to 1.0 than that of the base material on the other surface of the base material. It is.
請求項８に記載の発明は、前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の反射防止材の製造方法である。 In the invention according to claim 8, the high refractive index layer is any one or more of conductivity, hard coat property, adhesiveness, ultraviolet absorption, near infrared absorption, selective wavelength absorption, and electromagnetic wave shielding. The method for producing an antireflection material according to claim 5, wherein the antireflection material has the function of:
本発明は、反射防止材において、低反射率にすることができ、かつ付加価値も加えやすい反射防止材とするものである。また、 The present invention provides an antireflective material that can have a low reflectivity and can easily add value. Also,
以下に、本発明の実施形態について詳細に説明する。
本発明における層構成は、基材上の少なくとも一方の面に低屈折率の層、もう一方に高屈折率の層を形成することにより製造される反射防止材である。
低屈折率層の屈折率を基材よりも０．０１〜０．３低く、高屈折率の屈折率を基材よりも０．１〜１．０高くすることで、反射率をより低減できるものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The layer structure in the present invention is an antireflection material produced by forming a low refractive index layer on at least one surface on a substrate and a high refractive index layer on the other.
The reflectance can be further reduced by making the refractive index of the low refractive index layer 0.01 to 0.3 lower than that of the base material and making the refractive index of the high refractive index 0.1 to 1.0 higher than that of the base material. Is.
本発明に用いる基材は特に限定されるものではなく、公知の透明プラスチックフィルムもしくはシートの中から適宜選択して用いることができる。 The substrate used in the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected from known transparent plastic films or sheets.
具体例としては、トリアセチルセルロースフィルム（屈折率約１．４９）、及びポリエチレンテレフタレート（屈折率約１．６５）などのポリエステルが透明性に優れるという点で望ましいという点で望ましい。
また、その他、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、アクリル、ナイロン、フッ素樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフォン等のフィルムもしくはシートを用いることもできる。
Specific examples are desirable in that polyesters such as a triacetylcellulose film (refractive index of about 1.49) and polyethylene terephthalate (refractive index of about 1.65) are desirable in terms of excellent transparency.
In addition, polyethylene, polypropylene, cellophane, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyether A film or sheet of ether ketone, acrylic, nylon, fluororesin, polyimide, polyetherimide, polyethersulfone, or the like can also be used.
本発明に用いる低屈折率層は、基材より屈折率が０．０１〜０．３低いものであれば特に限定するものではないが、例えば、有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に低屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られるものが挙げられる。 The low refractive index layer used in the present invention is not particularly limited as long as the refractive index is 0.01 to 0.3 lower than that of the substrate. For example, in the organic, inorganic or organic-inorganic matrix And those obtained by coating a coating agent containing low refractive index fine particles.
無機系のマトリックスとしては、Ｓｉ（ＯＲ）４（但し、Ｒはアルキル基である）で表される有機珪素化合物を用いることができる。具体的にはＳｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ〔ＯＣＨ（ＣＨ３）２）〕４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。 As the inorganic matrix, an organosilicon compound represented by Si (OR) 4 (where R is an alkyl group) can be used. Specifically, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si [OCH (CH 3 ) 2 )] 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4, etc. And may be used alone or in combination of two or more.
有機無機系のマトリックスとしては、Ｒ’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）で表される有機珪素化合物を用いることができる。ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
また、前記無機系マトリックスに用いられる有機珪素化合物と組み合わせて用いても良い。
As an organic-inorganic matrix, an organic silicon compound represented by R ′ n Si (OR) 4-n (where R ′ is a fluorine-containing substituent, R is an alkyl group, and m is the number of substitutions). Can be used. CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 CF 2 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 2 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 9 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 CF 2 (CH 2) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 2 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 3 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 4 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 6 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 8 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 9 (CH 2 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 and the like can be exemplified, and these may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, you may use in combination with the organosilicon compound used for the said inorganic type matrix.
また、無機系または有機無機系マトリックスには、さらにＲ’’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ（但し、Ｒ’ ’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）で表される有機珪素化合物としては、ビニル基含有珪素化合物〔ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等〕、アミノ基含有珪素化合物〔Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン等〕、エポキシ基含有珪素化合物〔３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等〕、クロル基含有珪素化合物〔３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン等〕、メタクリロキシ基含有珪素化合物〔３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、アクリロキシ基含有珪素化合物〔３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、イソシアナート基含有珪素化合物〔３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等〕等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。 In addition, R ″ n Si (OR) 4-n (where R ′ ′ is a vinyl group, an amino group, an epoxy group, a chloro group, a methacryloxy group, an acryloxy group, an inorganic or organic-inorganic matrix, Examples of the organosilicon compound represented by a substituent having at least one functional group such as an isocyanate group, R is an alkyl group, and n is the number of substitutions) include vinyl group-containing silicon compounds [vinyl trimethoxy. Silane, vinyltriethoxysilane, etc.], amino group-containing silicon compounds [N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, etc.], Epoxy group-containing silicon compound [3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltrimethoxysilane, etc.], chloro group-containing silicon compounds [3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, etc.], methacryloxy group-containing silicon compounds [3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacrylate] Roxypropyltriethoxysilane, etc.], acryloxy group-containing silicon compounds [3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, etc.], isocyanate group-containing silicon compounds [3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane etc.] and the like can be exemplified, and these may be used alone or in combination of two or more.
上記有機珪素化合物、若しくはその重合体を用いて共重合体を作製する方法は特に限定されるものではないが、加水分解によって作製するにあたっての触媒としては、公知の、塩酸、蓚酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、蓚酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示でき、それらを単独に、或いは２種類以上併せて用いてもよい。 A method for producing a copolymer using the organosilicon compound or a polymer thereof is not particularly limited, but as a catalyst for production by hydrolysis, known hydrochloric acid, oxalic acid, nitric acid, acetic acid , Hydrofluoric acid, formic acid, phosphoric acid, oxalic acid, ammonia, aluminum acetonate, dibutyltin laurate, tin octylate compound, methanesulfonic acid, trichloromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc. Alternatively, two or more types may be used in combination.
有機系マトリクスとしては、活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物を用いることができる。活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。
前記光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
また、光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を用いることが好ましい。
As the organic matrix, a composition containing an active energy ray-curable resin can be used. The composition containing an active energy ray-curable resin contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and the like.
Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyol acrylate, and the like. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate. , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like. Particularly in the present invention, it is preferable to use urethane acrylate as a prepolymer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate as a monomer.
更に、光重合開始剤としては例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルフォスフィン等を混合して用いることができる。
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線などが挙げられるが、特にこれらに制限されるものではない。
また、活性エネルギー線を照射する際、その雰囲気に限定されるものではなく、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射することができる。
Furthermore, examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, tetramethylchuram monosulfide, thioxanthones, and the like. Moreover, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, etc. can be mixed and used as a photosensitizer.
Examples of the active energy ray include ultraviolet rays and electron beams, but are not particularly limited thereto.
Moreover, when irradiating an active energy ray, it is not limited to the atmosphere, It can irradiate in various atmospheres, such as air | atmosphere and inert gas, such as nitrogen and argon.
前述のマトリックス中に、低屈折率微粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。
低屈折微粒子としては、屈折率の低い金属化合物粒子などが挙げられる。例えばシリカ粒子やフッ化マグネシウム粒子などがある。またこれらの複合粒子でも良い。
また、これらの粒子は多孔質であっても良い。
これらの粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｎｍの範囲内であれは良い。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、中空シリカ微粒子が凝集しやすくなってしまう。
By adding the low refractive index fine particles to the matrix, the refractive index can be lowered.
Examples of the low refractive fine particles include metal compound particles having a low refractive index. For example, there are silica particles and magnesium fluoride particles. These composite particles may also be used.
These particles may be porous.
The average particle size of these particles may be in the range of 0.5 to 200 nm. When this average particle diameter is larger than 200 nm, light is scattered by Rayleigh scattering on the surface of the low refractive index layer, and it looks whitish and its transparency is lowered. Further, when the average particle size is less than 0.5 nm, the hollow silica fine particles are likely to aggregate.
これらのマトリクス及び粒子を含むコーティング剤は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。 The coating agent containing these matrices and particles is usually applied after being diluted in a volatile solvent. Although what is used as a dilution solvent is not specifically limited, Alcohols, such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol, are considered in consideration of the stability of a composition, the wettability with respect to a hard-coat layer, volatility, etc. , Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as diisopropyl ether, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol, ethyl cellosolve and butyl cellosolve Glycol ethers such as ethyl carbitol and butyl carbitol, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, N-mes Rupiroridon, dimethylformamide and the like. Further, the solvent can be used not only as one type but also as a mixture of two or more types.
前記コーティング剤は、ウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により表面処理を行ったハードコート層上に塗工される。
塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
The coating agent is a wet coating method (dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, air doctor coating method, blade coating method, wire doctor coating method, knife coating. Method, reverse coating method, transfer roll coating method, micro gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calendar coating method, die coating method, etc.) It is crafted.
After coating, the solvent in the coating film is volatilized by heating and drying, and then the coating film is cured by heating, humidification, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, and the like.
また、低屈折率層として酸化ケイ素、フッ化マグネシウムなどの無機系薄膜を蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法などの気相法により設けてもかまわない。 Alternatively, an inorganic thin film such as silicon oxide or magnesium fluoride may be provided as a low refractive index layer by a vapor phase method such as a vapor deposition method, a sputtering method, or a chemical vapor deposition method.
本発明の高屈折率層は、基材よりも０．１〜１．０高いものであれば特に限定するものではないが、有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られるものが挙げられる。 The high refractive index layer of the present invention is not particularly limited as long as it is 0.1 to 1.0 higher than the base material, but high refractive index fine particles in an organic, inorganic or organic-inorganic matrix. What is obtained by coating the coating agent containing is mentioned.
有機系のマトリクスとしては、アクリル系モノマーを重合させたものが挙げられる。
アクリル系モノマーとしては、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
Examples of the organic matrix include those obtained by polymerizing acrylic monomers.
As acrylic monomers, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (Meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, trimethylolethanetri (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2- Droxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecanethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyl Oxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meta ) Acryloyloxime Examples include chill) cyclohexane, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, and epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate. Only one type of polyfunctional monomer may be used, or two or more types may be used in combination. Further, if necessary, it can be copolymerized in combination with a monofunctional monomer.
また、ビフェニル骨格を有するものであればより好ましい。このようなものとしては、ビフェニル骨格を有するアルコールと（メタ）アクリロイル基を有するカルボン酸をエステル化反応させるものが挙げられる。 Moreover, it is more preferable if it has a biphenyl skeleton. As such a thing, what makes the esterification reaction of the alcohol which has biphenyl skeleton, and the carboxylic acid which has a (meth) acryloyl group is mentioned.
無機系、有機無機系マトリクスとしては、Ｍ（ＯＲ）ｘ（ＭはＺｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属、ｘは自然数）またはＲｙＭ（ＯＲ）ｚ（ＭはＺｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属、ｙ、ｚは自然数）などであらわされる金属化合物を加水分解して得られるものを用いることができる。また、これらの金属化合物は２種類以上混ぜても良い。 As the inorganic or organic-inorganic matrix, M (OR) x (M is a metal such as Zn, Ti, Sn, Sb, Al, Nb, In, etc., x is a natural number) or RyM (OR) z (M is Zn, A metal obtained by hydrolyzing a metal compound such as Ti, Sn, Sb, Al, Nb, In, or a metal, and y and z are natural numbers) can be used. Two or more kinds of these metal compounds may be mixed.
また、高屈折粒子としては、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属を含む金属酸化物粒子を用いることができる。 In addition, as the highly refractive particles, metal oxide particles containing a metal such as Zn, Ti, Sn, Sb, Al, Nb, and In can be used.
また、高屈折率層は、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属を含む金属酸化物薄膜を蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法などの気相法により設けてもかまわない。 The high refractive index layer may be provided by depositing a metal oxide thin film containing a metal such as Zn, Ti, Sn, Sb, Al, Nb, or In by a vapor phase method such as a vapor deposition method, a sputtering method, or a chemical vapor deposition method. Absent.
また、高屈折率相には導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性のうちいずれか一つ以上の機能を有することができる。
これらの機能を有することで
Further, the high refractive index phase can have one or more functions of conductivity, hard coat property, adhesiveness, ultraviolet ray absorbability, near infrared ray absorbability, selective wavelength absorbability, and electromagnetic wave shielding property.
By having these functions
近赤外線吸収剤としては、４００〜８００ｎｍまでの波長領域の透過率が高く、８００〜１２００ｎｍ波長領域の透過率が低いものであればよい。
このような近赤外線吸収剤は、必要な近赤外線吸収機能を有していればよいが、高屈折率層との相性、複数の近赤外線吸収剤を用いる場合はそれら同士での相性、溶剤との相性等と考慮して適宜選択するとよい。
また、可視光領域における光吸収率が極めて小さいこと近赤外線領域を出来得る限り吸収すること、塗膜形成、光、熱、湿度に耐え、塗料の経時安定性が高いことが好ましい。
Any near infrared absorber may be used as long as it has a high transmittance in the wavelength region of 400 to 800 nm and a low transmittance in the wavelength region of 800 to 1200 nm.
Such a near-infrared absorber only needs to have a necessary near-infrared absorbing function, but compatibility with a high refractive index layer, compatibility between them when using a plurality of near-infrared absorbers, a solvent and It is advisable to select as appropriate considering the compatibility of the above.
Further, it is preferable that the light absorptance in the visible light region is extremely small, the near infrared region is absorbed as much as possible, the coating film formation, light, heat and humidity can be withstood, and the paint stability over time is high.
近赤外線吸収剤としては、ジイモニウム系、フタロシアニン系、ジチオール金属錯体系、シアニン系、金属錯体系、金属微粉、金属酸化物微粉が挙げられ、樹脂も含めた組み合わせは自在であるが、拮抗作用、相乗作用を見極めて、適宜使用するとよい。ジイモニウム系化合物は、近赤外域の遮断が大きく、遮断域も広く、可視域の透過率も高い。 Examples of the near-infrared absorber include diimonium, phthalocyanine, dithiol metal complex, cyanine, metal complex, metal fine powder, metal oxide fine powder, and combinations including resin are free, It is advisable to determine the synergistic effect and use it as appropriate. Diimonium-based compounds have a large cutoff in the near-infrared range, a wide cutoff range, and a high transmittance in the visible range.
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。 As the ultraviolet absorber, either an inorganic type or an organic type can be used, but an organic ultraviolet absorber is practical. As an organic ultraviolet absorber, it has a maximum absorption between 300 to 400 nm, and absorbs light in that region efficiently. A benzotriazole ultraviolet absorber, a benzophenone ultraviolet absorber, a salicylic acid ester ultraviolet ray Examples thereof include an absorbent, an acrylate ultraviolet absorber, an oxalic acid anilide ultraviolet absorber, and a hindered amine ultraviolet absorber. These may be used alone, but are more preferably used in combination of several kinds. Moreover, stabilization can be improved by blending the said ultraviolet absorber and a hindered amine light stabilizer, or antioxidant.
色補正機能は、表示色の色バランスを補正するためのものであり、例えばプラズマディスプレイにおける、ネオン等からでる波長５８０〜６１０ｎｍのオレンジ光をカットするものなどが挙げられる。
色補正剤としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、シアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。また、プラズマディスプレイにおける、ネオン等からでる波長５８０〜６１０ｎｍのオレンジ光をカットする目的であれば、シアニン系、ポルフィリン系、ピロメテン系などを用いることができる。
The color correction function is for correcting the color balance of the display color, and includes, for example, a function of cutting orange light having a wavelength of 580 to 610 nm emitted from neon or the like in a plasma display.
Examples of color correction agents include, but are not limited to, cyanine (polymethine), quinone, azo, indigo, polyene, spiro, porphyrin, phthalocyanine, naphthalocyanine, and cyanine dyes. Not a thing. Further, for the purpose of cutting orange light having a wavelength of 580 to 610 nm emitted from neon or the like in a plasma display, cyanine, porphyrin, pyromethene, or the like can be used.
帯電防止剤としては、五酸化アンチモン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムなどの導電性の金属化合物や、アンチモン含有複合酸化物やＩｎ−Ｓｎ複合酸化物、リン系化合物などの複合金属化合物、第四級アンモニウム塩、アミンオサイド等のアミン誘導体、ポリアニリン等の導電性ポリマーなどを用いることができる。 Examples of the antistatic agent include conductive metal compounds such as antimony pentoxide, tin oxide, zinc oxide, and indium oxide, complex metal compounds such as antimony-containing complex oxides, In-Sn complex oxides, and phosphorus compounds. Quaternary ammonium salts, amine derivatives such as amine oxide, and conductive polymers such as polyaniline can be used.
また、上記導電性材料を加えることにより、電磁波遮蔽機能をもたせることもできる。 Moreover, an electromagnetic wave shielding function can be provided by adding the conductive material.
また、粘着性または接着性の材料を加えることにより粘着性または接着性を付与することもできる。また、前記マトリクス自体が粘着性を有していても良い。 In addition, tackiness or adhesion can be imparted by adding a tacky or adhesive material. Further, the matrix itself may have adhesiveness.
ハードコート層は、透明プラスチック基材表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、透明プラスチックフィルム基材の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制することができ、反射防止フィルムの機械的強度が改善できる。 The hard coat layer improves the hardness of the surface of the transparent plastic substrate, prevents scratches caused by scratching with a load such as a pencil, and suppresses the occurrence of cracks in the antireflection layer due to bending of the transparent plastic film substrate. And the mechanical strength of the antireflection film can be improved.
ハードコート層としては、アクリル系モノマーを重合させたものなどを用いることができる。特に多官能性モノマーであることが好ましく、多官能性モノマーとしては、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。ハードコート層は基材と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。 As the hard coat layer, one obtained by polymerizing an acrylic monomer can be used. Particularly preferred is a polyfunctional monomer, and examples of the polyfunctional monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, Ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (Meth) acryloyloxypropinate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Hexa (meth) acrylate, tri (2-hydroxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, Poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate, 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecane ethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) Acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyloxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) ) Propane, 1 4-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate, etc. be able to. Only one type of polyfunctional monomer may be used, or two or more types may be used in combination. Further, if necessary, it can be copolymerized in combination with a monofunctional monomer. More preferably, the hard coat layer has a refractive index equal to or close to that of the substrate.
ハードコート層は前述のモノマーと溶剤などを含む塗液を前記低屈折率層と同様のコーティング法により形成することができる。 The hard coat layer can be formed by applying a coating liquid containing the above-described monomer and solvent by the same coating method as that for the low refractive index layer.
また、前記ハードコート層中に平均粒径０．０１〜３μｍの無機或いは有機物微粒子を混合分散させ、表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことが出来る。これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好ましい。膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度、取り扱いから４〜７μｍの範囲が好ましい。 Further, a light diffusive treatment generally called anti-glare can be performed by mixing and dispersing inorganic or organic fine particles having an average particle size of 0.01 to 3 μm in the hard coat layer and making the surface shape uneven. These fine particles are not particularly limited as long as they are transparent, but a low refractive index material is preferable, and silicon oxide and magnesium fluoride are preferable in terms of stability, heat resistance, and the like. If the film thickness is 3 μm or more, the strength is sufficient, but the range of 4 to 7 μm is preferable from the viewpoint of transparency, coating accuracy, and handling.
また、前述した高屈折率層に機能性の材料を含ませることが好ましいが、ハードコート層中に、帯電防止、紫外線吸収、赤外線吸収、可塑、滑剤、着色、酸化防止、難燃等の機能を持たせても良い。 In addition, it is preferable to include a functional material in the above-described high refractive index layer, but the hard coat layer has functions such as antistatic, ultraviolet absorption, infrared absorption, plasticity, lubricant, coloring, antioxidant, and flame retardancy. May be given.
本発明では、高屈折率層と低屈折率層を設ける順番はどちらでもよいが、基材の一方の面上に低屈折率層を設けた後に、基材のもう一方の面上に低屈折率層を設ける法が好ましい。このようにすれば、高屈折率層に有機系の機能材料を含む場合、低屈折率層の形成時の紫外線または熱などによる有機材料の劣化がないからである。
また、ハードコート層を設ける場合は、最初に基材の一方の面上に設け、その上に低屈折率層を設けた後に基材のもう一方の面上に低屈折率層を設ける。
In the present invention, the order of providing the high refractive index layer and the low refractive index layer may be any, but after providing the low refractive index layer on one surface of the base material, the low refractive index is provided on the other surface of the base material. A method of providing a rate layer is preferred. This is because when the high refractive index layer contains an organic functional material, the organic material is not deteriorated by ultraviolet rays or heat when the low refractive index layer is formed.
In the case of providing a hard coat layer, first, a low refractive index layer is provided on the other surface of the base material after the low refractive index layer is provided on the first surface of the base material.
本発明の反射防止材は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの各種ディスプレイの前面に設けて使用することができる。また、高屈折率相に近赤外線吸収能などを有することで好適にプラズマディスプレイの前面板として用いることができる。 The antireflection material of the present invention can be used by being provided on the front surface of various displays such as a liquid crystal display and a plasma display. Moreover, it can use suitably as a front plate of a plasma display by having a near-infrared absorptivity etc. in a high refractive index phase.
以下、本発明を具体的な実験例を元に詳細に説明する。
各実験例で作成したフィルムの性能は、下記の方法に従って評価した
（反射率）
日立製作所製Ｕ−４０００を用い５°反射にて測定した。
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠し、試験機法により５００ｇ荷重で評価した。
（碁盤目剥離試験）
密着性はＪＩＳ Ｋ５４００に準拠し、１ｍｍ幅クロスカットテープ剥離試験で残存するピールの割合を％で示した
（全光線透過率およびヘーズ）
全光線透過率およびヘーズは日本電色製 Ｈａｚｅ Ｍｅｔｅｒ ＮＤＨ ２０００で測定を行った。
（粘着力）
ＪＩＳ Ｚ−０２３７に準じてインストロン型引張試験機によって３００ｍｍ／分の引張速度で１８０°の角度で剥離した際の荷重を測定した。
（表面抵抗値）
ダイアインスツルメンツ製ハイレスタを用い５００Ｖにて測定した。結果を表１に示す。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on specific experimental examples.
The performance of the film prepared in each experimental example was evaluated according to the following method (reflectance).
It measured by 5 degree reflection using Hitachi Ltd. U-4000.
(Pencil hardness)
Based on JIS K5400, it evaluated with the load of 500g by the testing machine method.
(Cross-cut peel test)
The adhesion was in accordance with JIS K5400, and the percentage of peel remaining in the 1 mm width cross-cut tape peel test was expressed in% (total light transmittance and haze).
The total light transmittance and haze were measured with Nippon Denshoku Haze Meter NDH 2000.
(Adhesive force)
The load at the time of peeling at an angle of 180 ° at a tensile speed of 300 mm / min was measured with an Instron type tensile tester according to JIS Z-0237.
(Surface resistance value)
The measurement was performed at 500 V using a Hiresta made by Dia Instruments. The results are shown in Table 1.
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌して紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。またＰＥＴフィルムのもう一方の面に大日本塗料製ＥＩ−３をバーコート法により０．１μｍ塗布し、紫外線硬化させ、高屈折率層を形成させた。屈折率は１．７０であった。このフィルムの最小反射率は２．０％であり、表面抵抗値５．０＋Ｅ１１（Ω／□）、密着性もクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９１％という結果が得られた。結果を表１に示す。 On one side of Toyobo PET film A4300 (refractive index = 1.65), dilute pentaerythritol triacrylate with isopropyl alcohol to a solid content of 50%, add Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) as an initiator, and stir well. And then applied by a bar coating method. After drying in a drying oven at 70 ° C., 4 μm was applied and cured by ultraviolet curing. The refractive index was 1.52. On the coating film, 12.7 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 2.2 parts of Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals), 6.0 parts of toluene, 40.1 parts of methanol and 40 parts of IPA as a low refractive index layer. Add 50 parts of UV curable resin composition obtained by adding 1 part and stir well, then add methanol sol consisting of composite colloidal particles of silica-magnesium fluoride hydrate (solid content: 12.3% by weight; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) In addition to 50 parts, the mixture was well stirred to obtain a UV curable low refractive index coating solution, which was applied by a bar coating method and cured with UV rays. The refractive index was 1.41. Further, EI-3 made by Dainippon Paint Co., Ltd. was applied to the other surface of the PET film by a bar coating method and cured with ultraviolet rays to form a high refractive index layer. The refractive index was 1.70. The minimum reflectance of this film is 2.0%, the surface resistance value is 5.0 + E11 (Ω / □), the adhesion is 100/100 (both sides) in the crosscut test, and the total light transmittance is 91%. was gotten. The results are shown in Table 1.
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。またＰＥＴフィルムのもう一方の面には総研化学製粘着剤１８８８を３０重量部とシーアイ化成製ＮａｎｏＴｅｋ Ｓｌｕｒｒｙ ＴｉＯ２ ７０重量部を混合した塗液をバーコート法により０．５μｍ塗布し、１００℃にて２分乾燥後、１週間２５℃にて養生した。屈折率は１．７０であった。このフィルムの最小反射率は２．０％であり、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（低屈折率面）、ガラス面に対する粘着力は１Ｎ／２５ｍｍ（１８０°ピール試験）という結果が得られた。結果を表１に示す。 To one side of Toyobo PET film A4300 (refractive index = 1.65), dilute pentaerythritol triacrylate with isopropyl alcohol to a solid content of 50%, add Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) as an initiator, and stir well. And then applied by a bar coating method. After drying in a drying oven at 70 ° C., 4 μm was applied and cured by ultraviolet curing. The refractive index was 1.52. On the coating film, 12.7 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 2.2 parts of Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals), 6.0 parts of toluene, 40.1 parts of methanol and 40 parts of IPA as a low refractive index layer. Add 50 parts of UV curable resin composition obtained by adding 1 part and stir well, then add methanol sol consisting of composite colloidal particles of silica-magnesium fluoride hydrate (solid content: 12.3% by weight; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) In addition to 50 parts, the mixture was well stirred to form an ultraviolet curable low refractive index coating solution, coated with 0.1 μm by a bar coating method, and cured with ultraviolet rays. The refractive index was 1.41. On the other side of the PET film, 0.5 μm of a coating solution prepared by mixing 30 parts by weight of Soken Chemical's pressure sensitive adhesive 1888 and 70 parts by weight of NanoTek Slurry TiO2 made by CI Kasei Co., Ltd. was applied by a bar coating method at 100 ° C. After drying for 2 minutes, it was cured at 25 ° C. for 1 week. The refractive index was 1.70. As a result, the minimum reflectance of this film is 2.0%, the adhesion is 100/100 in the crosscut test remaining peel (low refractive index surface), and the adhesion to the glass surface is 1 N / 25 mm (180 ° peel test). was gotten. The results are shown in Table 1.
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。またＰＥＴフィルムのもう一方の面にはペンタエリスリトール３０重量部、ＮａｎｏＴｅｋ Ｓｌｕｒｒｙ ＴｉＯ２（シーアイ化成製） ７０重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ） １．５重量部を加え、イソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈しよく攪拌した塗料をバーコート法により５μｍ塗布し紫外線にて硬化させた。屈折率は１．７０であった。このフィルムの最小反射率は２．０％であり、鉛筆硬度３Ｈ、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９１．５％という結果が得られた。結果を表１に示す。 To one side of Toyobo PET film A4300 (refractive index = 1.65), dilute pentaerythritol triacrylate with isopropyl alcohol to a solid content of 50%, add Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) as an initiator, and stir well. And then applied by a bar coating method. After drying in a drying oven at 70 ° C., 4 μm was applied and cured by ultraviolet curing. The refractive index was 1.52. On the coating film, 12.7 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 2.2 parts of Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals), 6.0 parts of toluene, 40.1 parts of methanol and 40 parts of IPA as a low refractive index layer. Add 50 parts of UV curable resin composition obtained by adding 1 part and stir well, then add methanol sol consisting of composite colloidal particles of silica-magnesium fluoride hydrate (solid content: 12.3% by weight; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) In addition to 50 parts, the mixture was well stirred to form an ultraviolet curable low refractive index coating solution, coated with 0.1 μm by a bar coating method, and cured with ultraviolet rays. The refractive index was 1.41. On the other side of the PET film, 30 parts by weight of pentaerythritol, 70 parts by weight of NanoTek Slurry TiO2 (Cai Kasei) and 1.5 parts by weight of Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) are added, and the solid content is made 50% with isopropyl alcohol. The diluted and well-stirred paint was applied by 5 μm by the bar coating method and cured with ultraviolet rays. The refractive index was 1.70. The minimum reflectance of this film was 2.0%, the pencil hardness was 3H, the adhesion was 100/100 (both sides) in the crosscut test, and the total light transmittance was 91.5%. The results are shown in Table 1.
＜比較例１＞
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。このフィルムの最小反射率は２．５％であり、鉛筆硬度２Ｈ、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９１．５％だった。結果を表１に示す。
<Comparative Example 1>
To one side of Toyobo PET film A4300 (refractive index = 1.65), dilute pentaerythritol triacrylate with isopropyl alcohol to a solid content of 50%, add Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) as an initiator, and stir well. And then applied by a bar coating method. After drying in a drying oven at 70 ° C., 4 μm was applied and cured by ultraviolet curing. The refractive index was 1.52. On the coating film, 12.7 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 2.2 parts of Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals), 6.0 parts of toluene, 40.1 parts of methanol and 40 parts of IPA as a low refractive index layer. Add 50 parts of UV curable resin composition obtained by adding 1 part and stir well, then add methanol sol consisting of composite colloidal particles of silica-magnesium fluoride hydrate (solid content: 12.3% by weight; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) In addition to 50 parts, the mixture was well stirred to form an ultraviolet curable low refractive index coating solution, coated with 0.1 μm by a bar coating method, and cured with ultraviolet rays. The refractive index was 1.41. The minimum reflectance of this film was 2.5%, the pencil hardness was 2H, the adhesiveness was 100/100 (both sides) in the crosscut test, and the total light transmittance was 91.5%. The results are shown in Table 1.
＜比較例２＞
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００の片面（屈折率＝１．６５）にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。さらにＰＥＴフィルムの他方の面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた膜を形成させた。屈折率は１．５２であった。このフィルムの最小反射率は２．８％、鉛筆硬度３Ｈ、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９２％だった。結果を表１に示す。
<Comparative example 2>
To one side of Toyobo PET film A4300 (refractive index = 1.65), dilute pentaerythritol triacrylate with isopropyl alcohol to a solid content of 50%, add Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) as an initiator, and stir well. And then applied by a bar coating method. After drying in a drying oven at 70 ° C., 4 μm was applied and cured by ultraviolet curing. The refractive index was 1.52. On the coating film, 12.7 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 2.2 parts of Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals), 6.0 parts of toluene, 40.1 parts of methanol and 40 parts of IPA as a low refractive index layer. Add 50 parts of UV curable resin composition obtained by adding 1 part and stir well, then add methanol sol consisting of composite colloidal particles of silica-magnesium fluoride hydrate (solid content: 12.3% by weight; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) In addition to 50 parts, the mixture was well stirred to form an ultraviolet curable low refractive index coating solution, coated with 0.1 μm by a bar coating method, and cured with ultraviolet rays. The refractive index was 1.41. Further, pentaerythritol triacrylate was diluted with isopropyl alcohol to a solid content of 50% on the other surface of the PET film, Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) was added as an initiator, and the mixture was well stirred and applied by a bar coating method. After drying in a drying oven at 70 ° C., a film was formed by applying and curing 4 μm by ultraviolet curing. The refractive index was 1.52. The minimum reflectance of this film was 2.8%, the pencil hardness was 3H, the adhesion was 100/100 (both sides) in the crosscut test, and the total light transmittance was 92%. The results are shown in Table 1.
表より、実施例のサンプルは比較例のサンプルに比べ、反射率が低く、良好な反射防止効果が得られた。また、他の機能も低下することのないものとなった。 From the table, the sample of the example had a lower reflectance than the sample of the comparative example, and a good antireflection effect was obtained. In addition, other functions were not degraded.
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