JP2007024571A - 形状測定機 - Google Patents
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Abstract
【課題】 被測定物の頂点位置を高精度かつ容易に検出することができる形状測定機を提供すること。
【解決手段】 被測定物Wの表面に触針センサ13を接触させた状態で、前記被測定物Wと前記触針センサ13とを相対的に走査させ、この走査の間の前記被測定物Wの測定したい高さ方向における前記触針センサ13の変位量により前記被測定物Wの表面形状を測定する形状測定機1であって、前記触針センサ13の前記高さ方向の変位量を測定する変位量測定手段と、この変位量測定手段からの出力信号に基づいてリサージュ波形を生成するリサージュ波形生成手段と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
本発明に係る形状測定機は、被測定物の表面に触針センサを接触させた状態で、前記被測定物と前記触針センサとを相対的に走査させ、この走査の間の前記被測定物の測定したい高さ方向における前記触針センサの変位量により前記被測定物の表面形状を測定する形状測定機であって、前記触針センサの前記測定したい高さ方向の変位量を測定する変位量測定手段と、この変位量測定手段からの出力信号に基づいてリサージュ波形を生成するリサージュ波形生成手段と、を備えることを特徴とする。
そこで、リサージュ波形の変化を見ることによって、触針センサの変位の方向が反対方向に切り替わるタイミングを容易に把握することができる。
なお、ここで、高さ方向とは、被測定面の形状から一義的に決まるものではなく、あくまで形状を測定したい方向を言うものである。具体的には、触針センサを支持する軸方向、被測定物が光学素子やその成形型であれば光軸方向を言うことが多い。
これにより、リサージュ波形を迅速かつ確実に生成することができる。
これにより、リサージュ波形の様子を容易に目視することができ、精度良く頂点位置を検出することができる。
以下、本発明の実施形態に係る形状測定機について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施形態としての形状測定機に、例えば凸レンズからなるワーク(被測定物)を取り付けた様子を示したものである。
図1において、符号1は形状測定機、符号Wはワークを示している。
形状測定機1は、ワークWの測定を行う測定部2と、ワークWを保持する保持部3とを備えており、これら測定部2と保持部3とが基台6の上に対向して配置されている。
測定部2は、基台6上に設置された駆動ステージ7と、ワークWを測定するための測定ユニット8とを備えている。
測定ユニット8は、柱状に形成された作動軸11と、この作動軸11を、保持部3に向けて基台6と平行な状態で支持する静圧軸受12とを備えている。静圧軸受12は、エアーを噴出することにより、作動軸11を非接触で支持するようになっており、エアーの噴出方向を調整することにより、作動軸11をその先端側に向けて付勢するようになっている。
このような測定ユニット8が、駆動ステージ7の上に設置されている。駆動ステージ7は、測定ユニット8をX軸方向及びY軸方向に移動させるようになっている。なお、X軸方向とは、軸線L方向と直交する方向であって、基台6に沿って延びる方向をいう。また、Y軸方向とは、基台6の延在方向に直交する方向、すなわち軸線LとX軸とに直交する方向をいう。また、軸線L方向はZ軸方向となる。
なお、駆動ステージ7のX軸方向及びY軸方向の位置座標は、駆動ステージ7の近傍に設けられたXY軸方向検出部17によって検出されるようになっている。
まず、測定しようとするワークWを、取付部を介して保持部3に取り付ける。そして、後述するように、プローブ13をY軸方向に走査させて、Y軸方向から見た場合にワークWが測定部2に向けてZ軸方向に最も突出する位置、すなわち、Y軸方向から見た場合のZ軸方向における最大高さにある頂点位置Pを検出する。それから、頂点位置Pを通るようにして、プローブ13をX軸方向に走査させる。この走査の間の作動軸11のZ軸方向の座標位置、すなわちプローブ13のZ軸方向の変位量が測定される。それと同時に、プローブ13のX軸方向の変位量が、XY軸方向検出部17によって測定される。これにより、ワークWの表面形状が測定される。
すなわち、ワークWを保持部3に取り付けた後、駆動ステージ7を駆動し、図3に示すように、測定ユニット8を、頂点位置Pを通る光軸Cよりも下(基台6側)の所定の位置に移動させる。このとき、プローブ13も光軸Cより下に配される。なお、光軸Cの向く方向は、保持部3に保持されたときのワークWの測定したい高さ方向となる。それから、静圧軸受12から所定の方向にエアーを噴出させて、作動軸11を先端方向に付勢する。これにより、作動軸11が前方向に移動し、あるタイミングでプローブ13がワークWの表面に接触する。このプローブ13とワークWとの最初の接触点を初期接触点という。このように接触した状態で、駆動ステージ7により、測定ユニット8をY軸方向上方に向けて移動させる。すると、プローブ13とワークWとの接触点が、頂点位置Pに向けて順次移動するとともに、プローブ13がワークWの表面にならって移動する。
さらに測定ユニット8をY軸方向上方に移動させると、図5に示すように、接触点が頂点位置Pに配される。頂点位置Pの近傍は、ワークW表面の傾斜が緩やかであるため、点像の回転速度も緩やかになり、頂点位置Pに配されたときにその回転移動は停止する。それから、さらに測定ユニット8を同方向に移動させると、図7に示すように、接触点が、頂点位置Pから、光軸Cよりも上側に位置する測定終了位置まで移動する。これら頂点位置Pから測定終了位置までを接触点が移動している間においては、プローブ13が前方向に移動することになるため、点像は図8に示すように反時計回りに回転移動する。すなわち、プローブ13が頂点位置Pを越えると、その瞬間に点像が逆回転する。
このように、モニタ26上における点像の回転方向や速度を見ながら、駆動ステージ7を駆動してプローブ13の走査を調整する。そして、点像の時計回りの回転から、停止して逆回転へと切り換わる状態を見出すことにより、ワークWの頂点位置が検出される。
また、形状測定機1が振動などの誤差要因を有する場合には、リサージュ波形27の点像は、ある振幅幅を持って表示されるが、その点像は、ほぼ一定の振幅幅を持ったまま全体として円弧状に描かれるため、巨視的に回転方向の逆転を見出すことができる。そのため、振動下においても頂点検出を容易に行うことができる。
また、本実施形態においては、プローブ13をY軸方向に移動させることにより頂点検出を行ったが、ワークW、またはプローブ13とワークWの双方を移動させてもよく、かつ移動方向がX軸方向であってもよい。
さらに、本実施形態においては、変位量測定手段からの出力信号をレーザ測長信号としているが、これに限るものではない。
さらに、測定対象はレンズ以外のものであってもよく、例えば、光学素子成形用の金型などでも構わない。
また、プローブ13の材質をルビーとしたが、これに限らず、ダイヤモンド、ガラス、サファイヤ、セラミクス等であってもよい。
なお、本発明の技術範囲は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変更を加えることが可能である。
13 プローブ(触針センサ)
16 Z軸方向検出部(変位量測定手段)
18 変位計アンプ(リサージュ波形生成手段、信号生成手段)
21 A−D変換回路(リサージュ波形生成手段、A−D変換手段)
23 制御部(リサージュ波形生成手段、処理手段)
26 モニタ(表示手段)
27 リサージュ波形
31a 表示部(表示手段)
W ワーク(被測定物)
Claims (3)
- 被測定物の表面に触針センサを接触させた状態で、前記被測定物と前記触針センサとを相対的に走査させ、この走査の間の前記被測定物の測定したい高さ方向における前記触針センサの変位量により前記被測定物の表面形状を測定する形状測定機であって、
前記触針センサの前記測定したい高さ方向の変位量を測定する変位量測定手段と、
この変位量測定手段からの出力信号に基づいてリサージュ波形を生成するリサージュ波形生成手段と、を備えることを特徴とする形状測定機。 - 前記リサージュ波形生成手段が、
前記変位量測定手段からの出力信号に基づいて、正弦波信号及び余弦波信号を生成する信号生成手段と、
この信号生成手段からの出力信号をディジタル信号に変換するA−D変換手段と、
このA−D変換手段からの出力信号をリサージュ波形として二次元表示処理する処理手段と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の形状測定機。 - 前記リサージュ波形生成手段によって生成されたリサージュ波形を表示する表示手段を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の形状測定機。
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2005
- 2005-07-13 JP JP2005204212A patent/JP4712464B2/ja active Active
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