JP2007017973A5 - - Google Patents

Claims (23)

1. 上部に一つ以上の第１画素領域、及び第１サブ領域と第２サブ領域とを含む一つ以上の第２画素領域が形成されたベース基板と、
   前記第１画素領域及び前記第２画素領域の第１サブ領域に形成された第１カラーフィルタと、
   前記第２画素領域の第２サブ領域に形成された第２カラーフィルタと、
   を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板。
2. 前記第１カラーフィルタは、レッド、グリーンまたはブルー色を含むことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
3. 前記第１画素領域は、レッド画素領域、グリーン画素領域及びブルー画素領域を含み、
   前記第１カラーフィルタは前記レッド画素領域に形成されたレッドカラーフィルタ、前記グリーン画素領域に形成されたグリーンカラーフィルタ及び前記ブルー画素領域に形成されたブルーカラーフィルタを含むことを特徴とする請求項２記載のカラーフィルタ基板。
4. 前記第２画素領域は、シアン画素領域、マゼンタ画素領域及びイエロー画素領域を含み、
   前記シアン画素領域の前記第１サブ領域には前記ブルーカラーフィルタが形成され、前記シアン画素領域の前記第２サブ領域には前記グリーンカラーフィルタが形成され、
   前記マゼンタ画素領域の第１サブ領域には前記レッドカラーフィルタが形成され、前記第２サブ領域には前記ブルーカラーフィルタが形成され、
   前記イエロー画素領域の第１サブ領域には前記レッドカラーフィルタが形成され、前記第２サブ領域には前記グリーンカラーフィルタが形成されることを特徴とする請求項３記載のカラーフィルタ基板。
5. 前記第１及び第２サブ領域は、互いに同一の面積であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
6. 前記第１及び第２サブ領域の面積は、互いに異なることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
7. 前記第２画素領域それぞれは第３サブ領域をさらに含み、前記第３サブ領域は前記第１サブ領域と前記第２サブ領域との間に配置されることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
8. 前記第１及び第２サブ領域の境界は、前記第２画素領域の幅方向に形成されることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
9. 前記第１及び第２サブ領域の境界は、前記第２画素領域の長さ方向に形成されたことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
10. 前記第１及び第２サブ領域の境界は、メッシュ形状であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
11. 前記第１及び第２サブ領域は、ドット（ＤＯＴ）形状であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
12. レッド画素領域、グリーン画素領域、ブルー画素領域及び第１サブ領域と第２サブ領域とを含む混色画素領域を含むベース基板と、
    前記レッド画素領域に形成されたレッドカラーフィルタと、
    前記グリーン画素領域に形成されたグリーンカラーフィルタと、
    前記ブルー画素領域に形成されたブルーカラーフィルタと、
    を含み、
    前記第１及び第２サブ領域には前記レッドカラーフィルタ、前記グリーンカラーフィルタ及び前記ブルーカラーフィルタのうち選択された２つの互いに異なる色を有するカラーフィルタがそれぞれ形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
13. 上部に一つ以上の第１画素領域、及び第１サブ領域と第２サブ領域とを含む一つ以上の第２画素領域が形成されたベース基板に、前記第１及び第２画素領域を露出させる開口部を含むブラックマトリックスを形成する段階と、
    前記第１画素領域及び前記第２画素領域の第１サブ領域に第１カラーフィルタを形成する段階と、
    前記第２画素領域の第２サブ領域に第２カラーフィルタを形成する段階と、
    を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
14. 前記第１及び第２カラーフィルタは、レッドカラーフィルタ、グリーンカラーフィルタ及びブルーカラーフィルタのうち選択された２つのカラーフィルタであることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板製造方法。
15. 前記第１及び第２サブ領域は、互いに同一の面積であることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板製造方法。
16. 前記第１及び第２サブ領域の面積は、互いに異なることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
17. 前記第２画素領域それぞれは、第３サブ領域をさらに含み、前記第３サブ領域は前記第１サブ領域と前記第２サブ領域との間に配置されることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
18. 前記第１及び第２サブ領域の境界は、前記第２画素領域の幅方向に形成されることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板製造方法。
19. 前記第１及び第２サブ領域の境界は、前記第２画素領域の長さ方向に形成されることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板製造方法。
20. 前記第１及び第２サブ領域の境界は、メッシュ形状であることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
21. 前記第１及び第２サブ領域は、ドット形状であることを特徴とする請求項１３記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
22. 前記請求項１〜１２のいずれかに記載のカラーフィルタ基板と、
    前記ベース基板の前記第１画素領域と前記第２画素領域に形成される光を発光する発光素子と、
    を含むことを特徴とする表示装置。
23. 前記請求項１〜１２のいずれかに記載のカラーフィルタ基板と、
    前記カラーフィルタ基板に対向し、画素電極及び前記画素電極に画素電圧を印加するスイッチング素子を含むアレイ基板と、
    前記アレイ基板と前記カラーフィルタ基板との間に介在された液晶層と、
    を含むことを特徴とする表示装置。