JP2007017290A - 欠陥データ処理方法、およびデータの処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検査装置から出力される欠陥・画像情報と、観察装置から出力されるADR・ADC情報とをデータ処理装置上で突き合わせをし、一覧表示させると共に、そのデータを用いて欠陥特徴量と平均検出率の関係や、レビューカテゴリごとにその欠陥特徴量と検出数を示す。
【選択図】 図7
Description
一方、半導体デバイスの微細化に伴い、より外観不良を検出できる能力・性能が検査装置に求められ、高感度に外観不良を検出できる検査装置が登場してきている。この高感度化により、微小欠陥の検出が可能になるに伴い、検出される欠陥数は膨大なものとなってきている。その中には、ノイズを検出していることも多くなり、外観不良の形状をレビュー作業で確認しなければならない欠陥数もそれに伴い膨大なものとなるが、レビュー作業で何も欠陥が見出せないケースが増え、作業効率を落とすことがある。また、そのノイズを減らすために、検査・RDC条件出しにフィードバックしなくてはならない情報量は爆発的に増加し、正確に検査条件を決めることはますます困難になってきている。
平均検出率が高くなる様に検査条件を最適化するための手がかりを提供することができる。また、DOI検出するために、ひいては検査条件を最適化するまでに掛かる時間を大幅に減少することができる。
良い。
4回検出 5個
3回検出 10個
2回検出 3個
1回検出 2個
0回検出 0個
この場合、5回検出は100%、4回検出は80%、0回検出は0%として、その加重平均から、平均検出率[%]は、
(100%×80個+80%×5個+60%×10個+40%×3個+20%×2個+0%×0個)/100個
=91.6%
と計算される。
7同様のグラフが表示される。これらパラメータによる平均検出率依存性を表示させることにより、これらのパラメータに対して平均検出率依存性があるかチェックすることができ、もしその依存性が見出された場合、このグラフから容易にその検査条件を設定することが出来る。
出来る。
Claims (14)
- 外観検査装置から、被検体を複数回検査して得た欠陥の座標及び特徴量に関する複数の情報を取得する工程と、
前記座標情報を用いて、前記複数の情報の中から、同一の欠陥に対する情報を判別する工程と、
前記欠陥特徴量のうち大きさと欠陥の平均検出率の関係を算出する工程と、
算出した関係をグラフ表示する工程と
を有することを特徴とする欠陥データ処理方法。 - 請求項1記載の欠陥データ処理方法において、前記複数回の検査はそれぞれ検査条件を変えて行われたものであることを特徴とする欠陥データ処理方法。
- 請求項1記載の欠陥データ処理方法において、前記欠陥特徴量は、欠陥として判定されたときの画像とその参照部の画像の差画像から得られる欠陥部の明るさの絶対値であることを特徴とする欠陥データ処理方法。
- 外観検査装置から、被検体を検査して得た欠陥の座標及び特徴量に関する複数の情報を取得する工程と、
欠陥の画像を取得する観察装置から、前記被検体の前記座標が指示する位置の画像に基づいて検出した欠陥の有無及び欠陥の分類情報とを取得する工程と、
前記欠陥の分類毎に、前記欠陥特徴量の大きさと欠陥の検出数の関係を算出する工程と、
算出した関係をグラフ表示する工程と
を有することを特徴とする欠陥データ処理方法。 - 請求項4記載の欠陥データ処理方法において、前記外観検査装置からの情報はそれぞれ検査条件を変えて得られた情報であることを特徴とする欠陥データ処理方法。
- 請求項4記載の欠陥データ処理装置において、前記欠陥の分類には擬似欠陥、短絡が含まれることを特徴とする欠陥データ処理方法。
- 請求項4記載の欠陥データ処理装置において、前記欠陥特徴量は、欠陥として判定されたときの画像とその参照部の画像の差画像から得られる欠陥部の明るさの絶対値であることを特徴とする欠陥データ処理方法。
- 被検体を検査する検査装置で該被検体を複数回検査して得た欠陥の座標及び特徴量に関する複数の情報の中から、前記座標に関する情報を用いて同一の欠陥に対する情報を判別し、前記欠陥の特徴量のうち大きさと欠陥の平均検出率の関係をグラフ表示することを特徴とするデータの処理装置。
- 請求項8記載のデータの処理装置において、前記複数回検査はそれぞれ検査条件を変えておこなわれたものであることを特徴とするデータの処理装置。
- 請求項8記載のデータの処理装置において、前記欠陥の特徴量は、前記検査装置で欠陥として判定されたときの画像とその参照部の画像の差画像から得られる欠陥部の明るさの絶対値であることを特徴とするデータの処理装置。
- 被検体を検査する検査装置で該被検体を複数回検査して得た欠陥の座標によって示される位置の観察装置で取得された画像に基づいて得られた前記欠陥の分類情報毎に、前記欠陥の大きさと検出数との関係をグラフ表示することを特徴とするデータの処理装置。
- 請求項11記載のデータ処理装置において、前記複数回検査はそれぞれ検査条件を変えて行われたものであることを特徴とするデータの処理装置。
- 請求項11記載のデータ処理装置において、前記欠陥の分類情報は擬似欠陥、短絡を含む分類情報であることを特徴とするデータの処理装置。
- 請求項11記載のデータ処理装置において、前記欠陥の特徴量は、前記検査装置で欠陥として判定されたときの画像とその参照部の画像の差画像から得られる欠陥部の明るさの絶対値であることを特徴とするデータの処理装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008224638A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 解析装置、プログラム、欠陥検査装置、レビュー装置、解析システム及び解析方法 |
JP2008227027A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Hitachi High-Technologies Corp | データ処理装置,検査システム、およびデータ処理方法 |
JP2008294361A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥観察装置及び欠陥観察方法 |
JP2008300670A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Hitachi High-Technologies Corp | データ処理装置、およびデータ処理方法 |
JP2009156574A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2009229218A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Nuflare Technology Inc | 欠陥検出レベル調整方法および欠陥検査システム |
US8041443B2 (en) | 2008-05-21 | 2011-10-18 | Hitachi High-Technologies Corporation | Surface defect data display and management system and a method of displaying and managing a surface defect data |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3139998B2 (ja) * | 1998-12-01 | 2001-03-05 | 株式会社東京精密 | 外観検査装置及び方法 |
JP2004053338A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリコンウエハ欠陥検査方法 |
JP2004177139A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Renesas Technology Corp | 検査条件データ作成支援プログラム及び検査装置及び検査条件データ作成方法 |
JP2004239728A (ja) * | 2003-02-05 | 2004-08-26 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン検査方法及び装置 |
JP2005017159A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置における検査レシピ設定方法および欠陥検査方法 |
JP2006173589A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-29 | Hitachi High-Technologies Corp | データ処理装置,検査作業支援システム、およびデータ処理方法 |
JP2006525523A (ja) * | 2003-04-29 | 2006-11-09 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 単一ツール欠陥分類ソリューション |
-
2005
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3139998B2 (ja) * | 1998-12-01 | 2001-03-05 | 株式会社東京精密 | 外観検査装置及び方法 |
JP2004053338A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリコンウエハ欠陥検査方法 |
JP2004177139A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Renesas Technology Corp | 検査条件データ作成支援プログラム及び検査装置及び検査条件データ作成方法 |
JP2004239728A (ja) * | 2003-02-05 | 2004-08-26 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン検査方法及び装置 |
JP2006525523A (ja) * | 2003-04-29 | 2006-11-09 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 単一ツール欠陥分類ソリューション |
JP2005017159A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置における検査レシピ設定方法および欠陥検査方法 |
JP2006173589A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-29 | Hitachi High-Technologies Corp | データ処理装置,検査作業支援システム、およびデータ処理方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008227027A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Hitachi High-Technologies Corp | データ処理装置,検査システム、およびデータ処理方法 |
JP2008224638A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 解析装置、プログラム、欠陥検査装置、レビュー装置、解析システム及び解析方法 |
JP2008294361A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥観察装置及び欠陥観察方法 |
JP2008300670A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Hitachi High-Technologies Corp | データ処理装置、およびデータ処理方法 |
JP2009156574A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2009229218A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Nuflare Technology Inc | 欠陥検出レベル調整方法および欠陥検査システム |
US8041443B2 (en) | 2008-05-21 | 2011-10-18 | Hitachi High-Technologies Corporation | Surface defect data display and management system and a method of displaying and managing a surface defect data |
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