JP2007003786A - ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、液晶装置、プロジェクタ - Google Patents
ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、液晶装置、プロジェクタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007003786A JP2007003786A JP2005183338A JP2005183338A JP2007003786A JP 2007003786 A JP2007003786 A JP 2007003786A JP 2005183338 A JP2005183338 A JP 2005183338A JP 2005183338 A JP2005183338 A JP 2005183338A JP 2007003786 A JP2007003786 A JP 2007003786A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive film
- film
- light
- grid polarizer
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】 ワイヤーグリッド偏光子の製造方法が、金属薄膜101上に感光性膜103を成膜する工程と、感光性膜103に対して二光束干渉露光を施す工程と、感光性膜103に対して干渉波の位相をずらして二光束干渉露光を再度施す工程と、感光性膜103を現像して多数の略平行な直線状の突起部103aを出現させる工程と、感光性膜103に対して耐エッチング材料を斜方成膜して耐エッチング膜111を形成する工程と、耐エッチング膜111をマスクとして感光性膜103をエッチングする工程と、感光性膜103をマスクとして金属薄膜101をエッチングする工程と、を有する。
【選択図】 図3
Description
ワイヤーグリッド偏光板の製造方法としては、フォトリソグラフィー法が用いられており、例えば、レーザ光を利用した二光束干渉露光法を用いる方法が知られている(特許文献1参照)。この方法によれは、干渉光(例えば、固体レーザ光:波長266nm)の波長の約半分のグリッドピッチを有する偏光板を製造することが可能である。
このため、より波長の短い干渉光を用いることが考えられるが、例えば、F2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外線は、酸素分子に吸収されやすいという性質を有するので、その取り扱いが容易でなく、このため、製造装置(干渉露光装置)の高コスト化を招いてしまうという問題がある。
第1の発明は、ワイヤーグリッド偏光子の製造方法が、金属薄膜上に感光性膜を成膜する工程と、前記感光性膜に対して二光束干渉露光を施す工程と、前記感光性膜に対して干渉波の位相をずらして二光束干渉露光を再度施す工程と、前記感光性膜を現像して多数の略平行な直線状の突起部を出現させる工程と、前記感光性膜に対して耐エッチング材料を斜方成膜して耐エッチング膜を形成する工程と、前記耐エッチング膜をマスクとして前記感光性膜をエッチングする工程と、前記感光性膜をマスクとして前記金属薄膜をエッチングする工程と、を有するようにした。
この発明によれば、入射する光の波長よりも微細なグリッドピッチを有する偏光子を容易かつ効率的に製造することができる。
前記感光性膜が、化学増幅型レジストであることを特徴とするものでは、二光束干渉露光により、良好に感光性膜上に微細なストライプ状のパターンを形成することができる。
前記二光束干渉露光に用いられる光が、固体レーザから照射されるものでは、取り扱いが容易であるため、製造装置の低コスト化が実現できる。
この発明によれば、微細なグリッドピッチを有する偏光子が用いられるので、高精細な表示が可能な液晶装置を得ることができる。
この発明によれば、光変調が良好に行うことができるので、高精細で高輝度な表示が可能なプロジェクタを得ることができる。
図1は、ワイヤーグリッド偏光子を製造する露光装置の構成を示す模式図である。
露光装置1は、感光性膜を露光するために用いられるものであり、レーザ光源10、ミラー11、12、シャッター13、回折型ビームスプリッタ14、モニタ15、レンズ16a,16b、空間フィルタ17a,17b、ミラー18a,18b、ステージ19、位相変調手段20を含んで構成されている。
そして、レーザ光源10からレーザービームB0(例えば、ビーム径約1mm)が出射されると、各ミラー11、12により進路(光路)を変更され、シャッター13を通過した後に回折型ビームスプリッタ14へ入射する。
回折型ビームスプリッタ14は、1本のレーザービームB0を分岐して2本のレーザービームB1,B2を生成する分岐手段である。この回折型ビームスプリッタ14は、石英等の表面に施した微細な凹凸形状による形状効果を用いてその機能を実現する凹凸型回折素子である。当該スプリッタはその全体が石英等のみからなり耐久性が高いため、高出力のUVレーザを照射した場合でも損傷を被ることがなく、ほぼ永久に使用できる。回折型ビームスプリッタ14の形状ならびに深さは最適設計されており、入射するビームをTE偏光とした場合に、等しい強度の2本の回折ビーム(±1次)を発生させる。
本実施形態では、これらの±1次回折ビームを各レーザービームB1,B2として用いている。また、本実施形態では、0次ビームに僅かにエネルギーを残すように回折型ビームスプリッタ14を設計している。光学系を組上げる際に、当該0次ビームB3を参照することにより、各レーザービームB1,B2の基板100上での交叉角度の設定や、基板100の位置合わせを容易に行うことが可能となる。さらに、分岐された2本のレーザービームB1,B2が左右反転せずに干渉するため、コントラストの高い干渉縞を得ることができ、アスペクト比が高いパターンを形成するためには有利である。
同様に、レンズ16bは、回折型ビームスプリッタ14により生成された他方のレーザービームB2が入射するように配置されており、当該レーザービームB2を集光する。空間フィルタ17bは、ピンホールを有しており、レンズ16bによる集光後のレーザービームB2が当該ピンホールに入射するように配置されている。すなわち、レンズ16bと空間フィルタ17bによってビームエキスパンダが構成されており、これらによってレーザービームB2のビーム径が拡大される。
例えば、本実施形態では、各レーザービームB1,B2は、各ビームエキスパンダによってそれぞれビーム径が200mm程度に拡げられる。各空間フィルタ17a,17bの作用により、不要散乱光が除かれた後のビーム波面を露光へ用いることができるので、欠陥やノイズのない、きれいな露光パターンを形成でき、したがって、きれいな潜像を形成できる。
同様に、ミラー18bは、空間フィルタ17bを通過後のレーザービームB2が入射するように配置されており、当該レーザービームB2を反射して基板100の方向へ導く。
これらのミラー18a,18bは、2本のレーザービームB1,B2が所定角度で交叉して干渉光を発生するように当該各レーザービームの進路を設定する光学的手段として機能する。
なお、本例ではレーザービームB2の進路上に位相変調手段20を配置するが、レーザービームB1の進路上に位相変調手段を配置してもよし、各レーザービームの進路上にそれぞれ位相変調手段を配置してもよい。
図2から図4は、ワイヤーグリッド偏光板の製造方法を工程順に示す図である。
まず、図2(A)に示すように、基板100の一面に金属薄膜101と反射防止膜102とを形成する。
基板100は、被加工体としての金属薄膜101を支持するものであり、ガラス基板、樹脂基板など透光性のものを用いる。本例では、基板100として板厚1mmのガラス基板を用いる。
反射防止膜102としては、干渉光を吸収する等によって当該反射を抑制し得るものであれば、無機材料、有機材料のいずれも採用し得る。特に、日産化学工業株式会社製のDUV44などの有機材料であれば後工程での剥離(除去)が容易となる。これにより、干渉定在波のない良好なパターンを形成できる。
次に、図2(B)に示すように、被加工体としての金属薄膜101の上側(本例では反射防止膜102の上面)に感光性膜103を形成する。
感光性膜103としては、光照射を受けた部分に変質を生じ、後の所定処理によって当該光照射部分又は非光照射部分のいずれかを選択的に除去し得る性質を備える材料を用いられる。例えば、本実施形態では、UV波長(λ〜250nm)用に調整された化学増幅型レジストが用いられる。そして、この化学増幅レジストをスピンコート法などの成膜方法によって成膜することにより、膜厚450nm程度の感光性膜103を形成する。
次に、図3(A)に示すように、可視光波長よりも短い波長(本例では266nm)の2本のレーザービームB1,B2を所定角度で交叉させて干渉光を発生させ、当該干渉光を照射することによって感光性膜103を露光する。例えば、2本のレーザービームB1,B2の交叉角度を71.8度とすることにより、周期約140nmの干渉縞が得られ、当該干渉縞に対応した潜像パターン104aが感光性膜103に形成される。
次に、図3(B)に示すように、位相変調手段を操作し、2本のレーザービームB1,B2の相互間に上記第1の露光工程の際とは異なる位相差を与えながら当該各レーザービームB1,B2を所定角度で交叉させて干渉光を発生させ、当該干渉光を照射することによって感光性膜103を露光する。
例えば、2本のレーザービームB1,B2の交叉角度を70度とすることにより、上記のように周期約140nmの干渉縞が得られ、当該干渉縞に対応した潜像パターン104bが感光性膜103に形成される。
このとき、レーザービームB2に対し、1回目の露光と2回目の露光との相互間に、1/2波長分の位相差が与えられる。具体的には、位相変調手段20の方位をπ/2回転させる。その結果、第1の露光工程における潜像パターン104aを、半ピッチ(P/2)だけずらした位置に新たな潜像パターン104bが形成される。
次に、図3(C)に示すように、露光後の感光性膜103を焼成(ベーキング)し、その後に現像することにより、第1及び第2の露光工程における干渉光のパターンに対応する形状を感光性膜103に発現させる。
第1の露光工程において感光性膜103に形成される潜像パターン104a、及び第2の露光工程において感光性膜103に形成される潜像パターン104bの断面形状は、理論的には矩形となるはずである。しかし、実際には、各条件を調整することにより、矩形の角が丸くなった形状(略サイン波形)となる(図3(A),(B)参照)。
このため、潜像パターン104aと潜像パターン104bとを重ねることにより、図3(C)に示すように、感光性膜103の表面には、多数の略平行な直線状の突起部103aからなるパターン(ストライプ状のパターン)が約70nm程度のピッチを有して発現される。そして、この突起部103は、それぞれ傾斜側面103sを有する形状となる。
次に、図3(D)に示すように、感光性膜103の表面に、SiO2等の誘電体材料(耐エッチング材料)からなる誘電体膜(耐エッチング層)111をスパッタ等の成膜方法によって成膜する。
誘電体材料は、基板100に対して斜め方向、且つ感光性膜103の表面に形成された多数の略平行な直線状の突起部103aのパターンに対して略法線方向から、放出する。この際、基板100に対する誘電体材料の放出角度は、浅い角度である必要がある。浅い角度とすることで、感光性膜103上の各突起部103aの一方の傾斜側面103sのみに誘電体膜111が付着する。他方の傾斜側面103sは、突起部103aの陰となるので、誘電体膜111の付着はない。
このようにして、感光性膜103の表面に、ストライプ状のパターンを有する誘電体膜111が形成される。
なお、基板100に対する誘電体材料の放出角度を制御することにより、誘電体膜111の形成範囲が調整でき、この形成範囲により、製造されるワイヤーグリッド偏光子200のデューティ比が規定される。
次に、図4(A)に示すように、感光性膜103上に成膜された誘電体膜111をエッチングマスクとして用いて、感光性膜103を、例えば異方性エッチングする。これにより、上面に誘電体膜111が配置された感光性膜103は残存し、露出していた感光性膜103は除去されて、感光性膜103がストライプ状のパターンを有するように加工される。そして、感光性膜103を除去した部分に、金属薄膜101を露出させる。
次に、図4(B)に示すように、残存した感光性膜103をエッチングマスクとして用いて、金属薄膜101を、例えば異方性エッチングする。これにより、金属薄膜101へレジストパターンが転写され、金属薄膜101がストライプ状のパターンを有するように加工される。
エッチング方法としては、原理的にはウェットエッチング、ドライエッチングのいずれも採用することが可能である。特に、ICP(誘導結合プラズマ)やECR(電子サイクロトロン共鳴)等の方法でドライエッチングすることが好適である。
次に、図4(C)に示すように、反射防止膜102、感光性膜103及び誘電体膜111を除去する。これにより、微細なアルミパターンからなるワイヤーグリッド偏光子200が得られる。
なお、反射防止膜102、感光性膜103及び誘電体膜111の除去は、必ずしも必須ではない。ワイヤーグリッド偏光子200に要求される光学特性に応じて、例えば、反射防止膜102、感光性膜103及び誘電体膜111の全てを残存させたり、また、反射防止膜102のみを残存させたりしてもよい。
図5(B)及び図5(C)から明らかなように、ワイヤーグリッド偏光子200は、グリッドピッチを従来に比べて微細化しているので、透過率、コントラストがそれぞれ向上している。なお、ワイヤーグリッド偏光子200のデューティは0.5、ワイヤーグリッドの高さは150nmである。
このように、ワイヤーグリッド偏光子200は、優れた光学特性(透過率、反射率等)を有するので、例えば液晶プロジェクタなどの電子機器へ適用することができる。特に、高分子を用いた偏光子を用いた場合では、高輝度ランプを長時間照射することによる特性の劣化が著しいために液晶プロジェクタの長寿命化の妨げとなっていたが、本実施形態のワイヤーグリッド偏光子200を用いることにより、液晶プロジェクタの長寿命化を図ることが可能となる。
こうして得られた潜像パターン104a,104bにより、感光性膜103上に多数の略平行な直線状の突起部103aを出現させることができ、この直線状の突起部103aを利用することにより、金属薄膜101をエッチングする際のマスクを形成することができる。
これにより、入射する光の波長よりも短いグリッドピッチのワイヤーグリッド偏光子200を低コストに実現することが可能となる。
また、固体UVレーザをレーザ光源10として用いているので、真空紫外線を用いた場合に比べて、製造装置を簡便な構成とすることができる。
また、本実施形態によれば、比較的に大面積の露光領域に対しても容易に対応可能であり、例えば8インチ程度の領域であっても短時間で処理可能である。
次に、上記ワイヤーグリッド偏光子200を備える液晶装置、プロジェクタについて、図を用いて説明する。
図6は、液晶装置600の構成を示す概略断面図である。
液晶装置600は、TFTアレイ基板610と、これに対向配置された対向基板620と、これらの間に挟持された液晶層650とを主体として構成されている。
TFTアレイ基板610は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体610A、およびその内側に形成されたTFT素子630や画素電極609、配向膜616などを主体として構成されている。
一方の対向基板620は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体620A、およびその内側に形成された共通電極621や配向膜622などを主体として構成されている。
各偏光板618,628は、その吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する機能を有する。偏光板618,628のワイヤーグリッドに入射した光は、その偏光成分のうち平行導体線の方向と一致した偏光状態の光は反射され、平行導体線の方向に対して垂直の偏光状態の光は反射されることなく、透過する。
TFTアレイ基板610側の偏光板618は、その透過軸が配向膜616の配向規制方向と略一致するように配置される。一方、対向基板620側の偏光板628は、その透過軸が配向膜622の配向規制方向と略一致するように配置されている。
非選択電圧印加時の液晶装置600では、基板に対して水平配向した液晶分子が液晶層650の厚さ方向に約90°ねじれたらせん状に積層配置されている。そのため、液晶装置600に入射した直線偏光は、約90°旋光されて液晶装置600から出射する。この直線偏光は、偏光板618の透過軸と一致するため、偏光板618を透過する。したがって、非選択電圧印加時の液晶装置600では、白表示が行われるようになっている。
また、選択電圧印加時の液晶装置600では、液晶分子が基板に対して垂直配向している。そのため、液晶装置600に入射した直線偏光は、旋光されることなく液晶装置600から出射する。この直線偏光は、偏光板618の透過軸と直交するため、偏光板618を透過しない。したがって、選択電圧印加時の液晶装置600では黒表示が行われるようになっている。
なお、液晶装置600は、両基板610,620の外側に偏光板618,628を配置した構成であるが、両基板610,620の内側偏光板618,628を配置(内蔵)した構成であってもよい。
このプロジェクタ800は、光源810、ダイクロイックミラー813,814、反射ミラー815,816,817、入射レンズ818、リレーレンズ819、出射レンズ820、光変調手段822,823,824、クロスダイクロイックプリズム825、投射レンズ826を備える。
このプロジェクタ800は、上記液晶装置600を光変調手段822,823,824として備えている。
合成された光は、投射光学系である投射レンズ826によってスクリーン827上に投影され、画像が拡大されて表示される。
また、その他の電子機器としては、例えばICカード、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、さらに表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、DSP装置、PDA、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイ等が挙げられる。
Claims (6)
- 金属薄膜上に感光性膜を成膜する工程と、
前記感光性膜に対して二光束干渉露光を施す工程と、
前記感光性膜に対して干渉波の位相をずらして二光束干渉露光を再度施す工程と、
前記感光性膜を現像して多数の略平行な直線状の突起部を出現させる工程と、
前記感光性膜に対して耐エッチング材料を斜方成膜して耐エッチング膜を形成する工程と、
前記耐エッチング膜をマスクとして前記感光性膜をエッチングする工程と、
前記感光性膜をマスクとして前記金属薄膜をエッチングする工程と、
を有することを特徴とするワイヤーグリッド偏光子の製造方法。 - 前記突起部は、傾斜側面を有することを特徴とする請求項1に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
- 前記感光性膜は、化学増幅型感光性膜であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
- 前記二光束干渉露光に用いられる光は、固体レーザから照射されることを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載のワイヤーグリッド偏光子の製造方法。
- 請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の製造方法により得られたワイヤーグリッド偏光子を備えることを特徴とする液晶装置。
- 請求項5に記載の液晶装置を光変調手段として備えることを特徴とするプロジェクタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005183338A JP4449833B2 (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、液晶装置、プロジェクタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005183338A JP4449833B2 (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、液晶装置、プロジェクタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007003786A true JP2007003786A (ja) | 2007-01-11 |
JP4449833B2 JP4449833B2 (ja) | 2010-04-14 |
Family
ID=37689489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005183338A Expired - Fee Related JP4449833B2 (ja) | 2005-06-23 | 2005-06-23 | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、液晶装置、プロジェクタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4449833B2 (ja) |
-
2005
- 2005-06-23 JP JP2005183338A patent/JP4449833B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4449833B2 (ja) | 2010-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4389791B2 (ja) | 微細構造体の製造方法および露光装置 | |
US7573546B2 (en) | Wire grid polarizer having dual layer structure and method of fabricating the same | |
US6947215B2 (en) | Optical element, optical functional device, polarization conversion device, image display apparatus, and image display system | |
US7894020B2 (en) | Polarizing device, method for manufacturing the same, liquid crystal device, and projection display device | |
TW200307164A (en) | Image display device and image projector device | |
KR20090012115A (ko) | 와이어 그리드형 편광 소자, 그 제조 방법, 액정 장치 및투사형 표시 장치 | |
JP2001343514A (ja) | ホログラムカラーフィルタ | |
JP2006215427A (ja) | 空間光変調装置及び画像表示装置 | |
JP5045249B2 (ja) | 偏光素子の製造方法 | |
JP2006330108A (ja) | 偏光制御素子 | |
JP5055639B2 (ja) | 偏光解消板、光学装置及び画像表示装置 | |
JP2007219340A (ja) | 複合ワイヤーグリッド偏光子、複合光学素子及び偏光光源 | |
JP2008008990A (ja) | 波長板、画像投射装置、及び光ピックアップ装置 | |
JP2006047829A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2009210750A (ja) | 光学素子及び液晶表示装置 | |
JP5359128B2 (ja) | 偏光素子及びその製造方法 | |
JP2007101921A (ja) | 液晶装置、及び投射型表示装置 | |
JP4449841B2 (ja) | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、液晶装置、プロジェクタ | |
JP5182060B2 (ja) | 偏光素子および偏光素子の製造方法、液晶装置、電子機器および投射型表示装置 | |
TW200817843A (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
JP6047051B2 (ja) | 光学素子および光学装置 | |
JP2006339359A (ja) | 微細構造体の製造方法、電子機器 | |
JP2007052317A (ja) | 光学素子の製造方法及び投射型表示装置 | |
JP4449833B2 (ja) | ワイヤーグリッド偏光子の製造方法、液晶装置、プロジェクタ | |
JP2010101965A (ja) | 光学素子及び表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070731 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070801 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4449833 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |