JP5182060B2 - 偏光素子および偏光素子の製造方法、液晶装置、電子機器および投射型表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、偏光素子および偏光素子の製造方法、液晶装置、電子機器および投射型表示装置に関するものである。

様々な電気光学装置の光変調装置として、液晶装置が用いられている。液晶装置の構造として、対向配置された一対の基板間に液晶層が挟持されているものが広く知られ、所定の偏光された光を液晶層に入射するための偏光素子や、電圧無印加時に液晶分子の配列を制御する配向膜が備えられる構成が一般的である。

偏光素子としては、ヨウ素や二色性染料を含む樹脂フィルムを一方向に延伸することで、ヨウ素や二色性染料を延伸方向に配向させて製造するフィルム型の偏光素子や、透明な基板上にナノスケールの金属細線を敷き詰めて形成されるワイヤーグリッド型の偏光素子が知られている。

ワイヤーグリッド型偏光素子は、無機材料から構成するため、耐熱性に優れているという特長を有しており、特に耐熱性が要求される箇所に好適に使用される。例えば、液晶プロジェクタのライトバルブ用の偏光素子として好適に用いられる。このようなワイヤーグリッド型の偏光素子としては、例えば特許文献１のような技術が開示されている。
特開２００７−１４８３４４号公報

偏光素子の光学特性は、金属細線の周囲に配置される材料の屈折率に影響を受け、屈折率が１であることが望ましいとされる。すなわち、金属細線の周囲は空気（もしくは真空）であることが望ましい。しかしながら、金属細線だけでは自身を支えることが困難であるため、透明基板等の上に形成されることが一般的となっている。そのため、透明基板の屈折率の影響を受け、理想的な状態よりは物性が低下していると考えられる。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、光学特性の低下を少なく抑えたワイヤーグリッド型の偏光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。また、このような偏光素子を備えることにより、表示品質が高く信頼性に優れた液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するため、本発明の偏光素子は、基板と、前記基板の一面側に平面視略ストライプ状に設けられた複数の凸条部と、各々の前記凸条部上に設けられるとともに前記凸条部の延在方向に沿って延びる金属細線とを備えた偏光素子であって、前記凸条部の側面が前記基板の前記一面に対して傾斜した傾斜面とされ、前記金属細線が、前記傾斜面によって片持ちに支持されていることを特徴とする。

この構成によれば、金属細線は、凸条部と接触しない部分が、屈折率が１と見なせる空気に触れることとなるため、良好な光学物性を有する偏光素子とすることができる。

本発明においては、前記凸条部の上端面が略平坦面であり、前記金属細線が、前記凸条部の上端面の少なくとも一部を平面視で覆うように前記傾斜面から前記上端面に張り出していることが望ましい。
この構成によれば、金属細線の幅の自由度が高くなる。

本発明においては、前記金属細線は、シリコン、ゲルマニウム、モリブデンの中から選ばれる金属材料を用いて形成されることが望ましい。
これらの材料は、酸化し難いため、劣化しにくく信頼性の高い偏光素子とすることができる。特に、偏光素子が高温となる用途に用いる場合、高温環境下では酸化反応が促進されるが、これら材料を用いることで耐久性の高い偏光素子とすることが可能となる。

本発明の偏光素子の形成方法は、基板の一面側に設けられた平面視略ストライプ状の複数の凸条部の側面と、前記凸条部の上部の各々に設けられたマスクの側面とにおいて、各々の一方の側面にまたがって金属材料を堆積させ、前記凸条部に沿って延在する複数の金属細線を形成する工程と、前記マスクを除去する工程と、を備えることを特徴とする。
この方法によれば、金属細線の形成時にはマスクがあるため、不要な箇所への金属材料の堆積を防ぐことができ、凸条部とマスクとにまたがって金属材料を堆積させるため、堆積箇所の面積を広くとることができ、堆積量を稼ぐことができる。したがって、優れた光学特性を備えた偏光素子を容易に製造することができる。

本発明においては、前記マスクの前記一方の側面は、前記凸条部の上部の少なくとも一部を平面視で覆う傾斜面であることが望ましい。
この方法によれば、マスクの一方の側面に形成される金属細線は、自ずと凸条部の上部と平面的に重なることとなる。そのため、容易に凸条部の上部を覆う金属細線をもうけることができ、金属細線の幅を制御しやすくなる。

本発明においては、前記金属細線を形成する工程に先だって、前記基板の形成材料である基材の一面側に、所定のパターンを有するレジストを形成する工程と、前記レジストを介して前記基材をエッチングし、前記所定のパターンを呈する凸条部を備えた前記基板を形成すると共に、前記凸条部の上部に前記レジストの一部を残存させるエッチング工程と、を有し、残存する前記レジストの一部を前記マスクとして用いることが望ましい。
この方法によれば、凸条部の形成と同時にマスクを設ける事ができるため、工程を簡略化することが可能であると共に、凸条部の形状に即したマスクを容易に設けることができる。

本発明の投射型表示装置は、光を射出する照明光学系と、前記光を変調する液晶ライトバルブと、前記液晶ライトバルブで変調された光が入射する上述の偏光素子と、前記偏光素子を透過した偏光光を被投射面に投射する投射光学系と、を備えることを特徴とする。

この構成によれば、耐熱性の高い偏光素子を備えるため、高出力の光源を用いても偏光素子の熱劣化および加熱により促進される酸化劣化が抑えられる。そのため、信頼性が高く優れた表示特性を有する投射型表示装置とすることができる。

本発明の液晶装置は、一対の基板間に液晶層を挟持してなり、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の前記液晶層側に上述の偏光素子が形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、光学特性に優れた偏光素子を具備した液晶装置を提供できる。

本発明の電子機器は、上述の液晶装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、表示品質に優れる表示部ないし光変調手段を備えた電子機器を提供することができる。

［第１実施形態］
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る偏光素子及び偏光素子の製造方法について説明する。図１は本実施形態の偏光素子１の概略図であり、図１（ａ）は部分斜視図、図１（ｂ）は偏光素子１をＹＺ平面で切った部分断面図である。

なお、以下の説明においてはＸＹＺ座標系を設定し、このＸＹＺ座標系を参照しつつ各部材の位置関係を説明する。この際、水平面内における所定の方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向とＹ軸方向のそれぞれの直交する方向をＺ軸方向とする。本実施形態の場合、金属細線の延在方向をＸ軸方向とし、金属細線の配列軸をＹ軸方向としている。また、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせている。

（偏光素子）
図１（ａ）に示すように、偏光素子１は、基板１１と、基板１１上に一方向に延在して形成された金属細線１４と、を備えている。

基板１１は、ガラスや石英、プラスチック等の透光性材料を形成材料としている。偏光素子１を適応する用途によっては、偏光素子１が蓄熱し高温になるため、基板１１は、耐熱性の高いガラスや石英を形成材料とすることが好ましい。

基板１１の表面には、Ｘ軸方向に延在する複数の溝部１２が形成されており、隣り合う溝部１２の間の部分は、Ｘ軸方向に延在する凸条部１３となっている。溝部１２は、可視光の波長よりも短い周期でＹ軸方向に均等な間隔で形成されており、凸条部１３も同周期で配列している。

金属細線１４は、凸条部１３の側面（傾斜面）１３ａに付設されており、凸条部１３の延在方向と同じくＸ軸方向に延在して形成されている。金属細線１４は、自身の延在方向と直交する方向（Ｙ軸方向）に振動する直線偏光を透過させ、自身の延在方向（Ｘ軸方向）に振動する直線偏光を反射させる。金属細線１４の形成材料としては、例えばアルミニウムのような金属材料が用いられる。

図１（ｂ）に示すように、凸条部１３の側面１３ａは、溝部１２の底面１２ａから遠ざかる方向にテーパ状の傾斜を備えて形成されており、凸条部１３の頂面１３ｂは溝部１２の底面と略平行な平坦面となっている。溝部１２および凸条部１３の寸法は、例えば、凸条部１３の高さｈ１：１００ｎｍ、幅Ｌ：７０ｎｍ、底面１２ａの幅Ｓ：７０ｎｍ、周期（ピッチ）ｄ：１４０ｎｍ、である。

金属細線１４は、凸条部１３に面する対向面１４ａの一部において凸条部１３の側面１３ａに付設されており、対向面１４ａの残りの部分は凸条部１３とは離間している。また、金属細線１４の上端部（Ｚ軸方向の端部）１４ｂは、凸条部１３の頂面１３ｂの上部に至るまで形成されており、対向面１４ａのうち側面１３ａと接していない面は、頂面１３ｂと平面的に重なるように形成されている。

金属細線１４の幅は、偏光素子の性能と密接な関係にあるが、金属細線１４の幅を、側面１３ａから＋Ｙ軸方向への幅で管理しようとすると、最大で溝部１２の幅でしか金属細線１４を幅広くすることができない。しかし、金属細線１４が頂面１３ｂを覆う様に形成されているため、金属細線１４の幅の自由度が高くなる。金属細線１４の寸法は、例えば、金属細線１４の幅ｂ：３０ｎｍ、高さｈ２：３０ｎｍ、である。

偏光素子の光学特性は、金属細線の周囲に配置される材料の屈折率に影響を受け、屈折率が１であることが望ましいとされる。図２は、ワイヤーグリッド型の偏光素子が有する金属細線の周囲に配置された物質の屈折率により光学特性が変化することを示す説明図である。

図２（ａ）は、偏光素子を大気中（屈折率１）に解放した構成における光学特性（透過率及びコントラスト）を示すグラフと概略構成図である。同様に、図２（ｂ）は、金属細線の周囲に液晶（屈折率１．６）を充填したときの光学特性を示すグラフと概略構成図である。

図２に示すグラフは、上記各条件の偏光素子の透過軸に平行な振動方向（金属細線の延在方向に対して垂直な振動方向）を有する直線偏光を入射させた透過率Ｔｐを計算した結果と、透過率Ｔｐに対し、偏光素子の反射軸に平行な振動方向の直線偏光の透過率Ｔｓとの比率として得られるコントラスト（Ｔｐ／Ｔｓ）の計算結果とを示すものである。

図２（ａ）に示されるように、大気中に金属細線を開放した偏光素子は、可視光領域において良好な特性を有していることが分かる。これに対して、図２（ｂ）に示す金属細線の開口部内に液晶が充填されている条件では、可視光領域における透過率の均一性が低下しており、特に青色領域（４４０ｎｍ付近）の落ち込みが激しい。したがって、金属細線の周囲に、１よりも高い屈折率を有する物質が配置されると、光学特性が低下することを示している。

本実施形態の偏光素子１は、金属細線１４が対向面１４ａにおいて、屈折率を１とみなせる空気と接することとなる。したがって、良好な光学特性を得ることができる。

（偏光素子の製造方法）
図３は偏光素子１の形成工程の説明図である。図３は図１（ｂ）の断面図に対応する図である。

まず、図３（ａ）に示すように、ガラス基板等の基板材料（基材）１１Ａを用意し、基板材料１１Ａの一面側にレジスト材料をスピンコートにより塗布し、これをプリベークすることでレジスト層２０ａを形成する。レジスト材料としては、例えば、化学増幅型のポジ型フォトレジストＴＤＵＲ−Ｐ３３８ＥＭ（東京応化工業（株）社製）を用いる。本実施形態では、レジスト層２０ａを２００ｎｍに形成する。

次いで、図３（ｂ）に示すように、例えば波長が２６６ｎｍのレーザ光を露光光として用いた二光束干渉露光法によりレジスト層２０ａを露光し、更にレジスト層２０ａをベーク（ＰＥＢ）した後、レジスト層２０ａを現像する。これにより、縞状のパターンを有するレジスト２０を形成する。本実施形態のレジスト２０の高さは２００ｎｍである。

ここで、二光束干渉露光法を行う露光装置は、例えば図４に示すものを用いることができる。露光装置１２０は、露光光を照射するレーザ光源１２１と、回折型ビームスプリッタ１２２と、モニタ１２３と、ビームエキスパンダ１２４、１２５と、ミラー１２６、１２７と、基板１１を載置するステージ１２８とを備えている。

レーザ光源１２１は、例えば第４高調波の波長が２６６ｎｍであるＮｄ：ＹＶＯ４レーザ装置である。回折型ビームスプリッタ１２２は、レーザ光源１２１から出力された１本のレーザビームを分岐して２本のレーザビームを生成する分岐手段である。そして、回折型ビームスプリッタ１２２は、入射するレーザビームをＴＥ偏光としたときに強度の等しい２本の回折ビーム（±１次）を発生させる構成となっている。モニタ１２３は、回折型ビームスプリッタ１２２から出射した光を受光して電気信号に変換する。露光装置１２０では、この変換された電気信号に基づいて２本のレーザビームの交差角度などを調整できるようになっている。

ビームエキスパンダ１２４は、レンズ１２４ａと空間フィルタ１２４ｂとを備えており、回折型ビームスプリッタ１２２で分岐された２本のレーザビームのうちの一方のビーム径を例えば３００ｍｍ程度に広げる構成となっている。同様に、ビームエキスパンダ１２５も、レンズ１２５ａと空間フィルタ１２５ｂとを備えており、２本のレーザビームのうちの他方のビーム径を広げる構成となっている。

ミラー１２６、１２７は、ビームエキスパンダ１２４、１２５を透過したレーザビームをそれぞれステージ１２８に向けて反射させる構成となっている。ここで、ミラー１２６、１２７は、反射したレーザビームを交差させることで干渉光を発生させ、この干渉光を基板１１上のレジスト層２０ａに照射する。

このような露光装置１２０を用いてレジスト層２０ａに干渉光を照射することで、レーザ光源１２１の波長よりも狭い形成ピッチでレジスト層２０ａを露光することができる。

次に、図３（ｃ）に示すように、レジスト２０を介してドライエッチング処理を行い、基板材料１１Ａを５０〜１００ｎｍ程度掘り下げることで基板材料１１Ａをパターニングして、溝部１２、凸条部１３を有する基板１１を形成する。本実施形態では、溝部１２が１００ｎｍの深さとなるまでエッチングを行う。また、同じくドライエッチング処理において、基板材料１１Ａ表面に形成されたレジスト２０もエッチングされ、後の工程でマスクとして使用する残存レジスト２１が凸条部１３の頂面１３ｂに残存する。

本実施形態では、エッチングガスにＣ_２Ｆ_６，ＣＦ_４，ＣＨＦ_３の混合ガスを用い、反応条件として、ガス流量：Ｃ_２Ｆ_６／ＣＦ_４／ＣＨＦ_３＝２０／３０／３０ｓｃｃｍ、放電出力：３００Ｗ、圧力：５Ｐａ、反応時間：３０〜４０ｓｅｃでエッチングを行う。

次いで、図３（ｄ）に示すように、公知のマグネトロンスパッタ装置を用い、凸条部１３の側面１３ａ及び残存レジスト２１の側面２１ａにまたがって金属細線１４を形成する。図では、スパッタ粒子の飛来方向を矢印で示している。残存レジスト２１があるために、不要な箇所に金属膜が堆積することを防ぎ、また、側面１３ａ及び側面２１ａにまたがってスパッタ粒子を堆積させることができるため、底面積が広く体積の大きい金属細線１４を形成することができる。

金属細線１４は、少なくとも基板１１において偏光素子が形成される領域の全面に形成する。金属細線１４を形成する方法としては、マグネトロンスパッタの他にもイオンビームスパッタなど公知の斜方成膜方法を用いることができる。本実施形態における反応条件は、ガス流量：Ａｒ＝１０ｓｃｃｍ、放電出力：１０００Ｗ、圧力：０．１Ｐａ、反応時間：２〜４ｍｉｎである。

ここで、本実施形態では金属細線１４の形成材料としてアルミニウムを用いるが、アルミニウム以外にも、シリコン、ゲルマニウム、モリブデン、を好適に用いることができる。金属細線１４の形成材料にアルミニウムを用いると、加工がしやすい反面、アルミニウムが酸化しやすい金属材料であるため劣化のおそれがある。そのため、上述した金属材料のうち酸化し難いシリコン、ゲルマニウム、モリブデンを用いると、劣化し難い金属細線１４とすることができ好ましい。

例えば、偏光素子が高温となる用途に用いる場合、高温環境下では酸化反応が促進されるが、上記材料を用いて金属細線１４を形成すると、耐久性の高い偏光素子とすることが可能となる。また、必要に応じて、これらの材料を主として含む合金を形成材料として用いることとしても構わない。

次に、図３（ｅ）に示すように、アッシングを行って凸条部１３の頂面１３ｂに残されていた残存レジスト２１を除去する。残存レジスト２１を除去することで、金属細線１４のうち残存レジスト２１の側面と接していた対向面１４ａが一部露出するため、金属細線１４は凸条部１３の側面１３ａとのみ接することとなる。反応条件は、ガス流量：Ｏ_２＝５０ｓｃｃｍ、圧力：１０Ｐａ、反応時間：３０ｓｅｃ、出力：ＩＣＰ／Ｂｉａｓ＝６００／３０Ｗ、である。以上のようにして、本実施形態の偏光素子１が完成する。

以上のような構成の偏光素子１によれば、対向面１４ａのうち凸条部１３と接触しない部分では、屈折率が１と見なせる空気に触れることとなるため、良好な光学物性を有する偏光素子１とすることができる。

また、以上のような構成の偏光素子１の製造方法によれば、金属細線１４の形成時には残存レジスト２１があるため、不要な箇所への金属材料の堆積を防ぐことができる。また、凸条部１３と残存レジスト２１とにまたがって金属材料を堆積させるため、堆積箇所の面積を広くとることができ、堆積量を稼ぐことができる。したがって、優れた光学特性を備えた偏光素子１を容易に製造することができる。

［投射型表示装置］
次に、本発明の電子機器の実施形態について説明する。図５に示すプロジェクタ（投射型表示装置）８００は、光源（照明光学系）８１０、ダイクロイックミラー８１３、８１４、反射ミラー８１５、８１６、８１７、入射レンズ８１８、リレーレンズ８１９、射出レンズ８２０、光変調部８２２、８２３、８２４、クロスダイクロイックプリズム８２５、投射レンズ（投射光学系）８２６、を有している。

光源８１０は、メタルハライド等のランプ８１１とランプの光を反射するリフレクタ８１２とからなる。なお、光源８１０としては、メタルハライド以外にも超高圧水銀ランプ、フラッシュ水銀ランプ、高圧水銀ランプ、Ｄｅｅｐ ＵＶランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ等を用いることも可能である。

ダイクロイックミラー８１３は、光源８１０からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー８１７で反射されて、赤色光用の光変調部８２２に入射される。また、ダイクロイックミラー８１３で反射された青色光と緑色光のうち、緑色光は、ダイクロイックミラー８１４によって反射され、緑色光用光変調部８２３に入射される。青色光は、ダイクロイックミラー８１４を透過し、長い光路による光損失を防ぐために設けられた入射レンズ８１８、リレーレンズ８１９及び出射レンズ８２０を含むリレー光学系８２１を介して、青色光が光変調部８２４に入射される。

光変調部８２２〜８２４は、液晶ライトバルブ８３０を挟んで両側に、入射側偏光素子８４０と射出側偏光素子部８５０と、が配置されている。入射側偏光素子８４０と射出側偏光素子部８５０とは、互いの透過軸が直交して（クロスニコル配置）配置されている。

入射側偏光素子８４０は反射型の偏光素子であり、透過軸と直交する振動方向の光を反射させる。

一方、射出側偏光素子部８５０は、第１偏光素子（プリ偏光板、プリポラライザ）８５２と、第２偏光素子８５４と、を有している。第１偏光素子８５２には、上述した本発明の偏光素子を用いる。また、第２偏光素子８５４は、有機材料を形成材料とする偏光素子である。射出側偏光素子部８５０は、いずれも吸収型の偏光素子であり、偏光素子８５２，８５４が協働して光を吸収している。

一般に、有機材料で形成される吸収型の偏光素子は、熱により劣化しやすいことから、高い輝度が必要な大出力のプロジェクタの偏光手段として用いる事が困難である。しかし、本発明のプロジェクタ８００では、第２偏光素子８５４と液晶ライトバルブ８３０との間に、耐熱性の高い無機材料で形成された第１偏光素子８５２を配置しており、偏光素子８５２，８５４が協働して光を吸収している。そのため、有機材料で形成される第２偏光素子８５４の劣化が抑えられる。

各光変調部８２２〜８２４により変調された３つの色光は、クロスダイクロイックプリズム８２５に入射する。このクロスダイクロイックプリズム８２５は４つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがＸ字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ８２６によってスクリーン８２７上に投写され、画像が拡大されて表示される。

以上のような構成のプロジェクタ８００は、射出側偏光素子部８５０に、上述した本発明の偏光素子を用いることとしているため、高出力の光源を用いても偏光素子の劣化が抑えられる。そのため、信頼性が高く優れた表示特性を有するプロジェクタ８００とすることができる。

［液晶装置］
図６は、本発明にかかる偏光素子を備えた液晶装置３００の一例を示した断面模式図である。本実施形態の液晶装置３００は、素子基板３１０，対向基板３２０の間に液晶層３５０が挟持され構成されている。

素子基板３１０及び対向基板３２０は、偏光素子３３０、３４０を備えている。偏光素子３３０、３４０は、前述した本発明の偏光素子であり、それぞれガラスや石英、プラスチック等の透光性の基板上に金属細線が形成された構造を備えている。

偏光素子３３０は基板本体３３１と金属細線３３２を、偏光素子３４０は基板本体３４１と金属細線３４２をそれぞれに備えている。本実施形態では、基板本体３３１、３４１は偏光素子の基板であると同時に液晶装置用の基板も兼ねている。また、金属細線３３２と金属細線３４２は、互いに交差するように配置されている。いずれの偏光素子も、金属細線が内面側（液晶層３５０側）に配置されている。

偏光素子３３０の内面側には、偏光素子３３０の保護層３１３、画素電極３１４、不図示の配線やＴＦＴ素子を備え、配向膜３１６が設けられている。同様に、偏光素子３４０の内面側には、偏光素子３４０の保護層３２３、共通電極３２４、配向膜３２６が設けられている。

このような構成の液晶装置においては、基板本体３３１，３４１が、液晶装置用の基板と、偏光素子用の基板との機能をかねることから、部品点数を削減することができる。そのため、装置全体が薄型化でき、液晶装置３００の機能を向上させることができる。更に、装置構造が簡略化されるので、製造が容易であるとともにコスト削減を図ることができる。

［電子機器］
次に、本発明の電子機器に係る他の実施形態について説明する。図７は、図６に示した液晶装置を用いた電子機器の一例を示す斜視図である。図７に示す携帯電話（電子機器）１３００は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。これにより、信頼性に優れ、高品質な表示が可能な表示部を具備した携帯電話１３００を提供することができる。

また、本発明の液晶装置は、上記携帯電話の他にも、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、プロジェクタ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。

本発明の偏光素子の概略図である。 構造の差異による偏光素子の光学特性の変化を示すグラフと概略構成図である。 偏光素子の製造工程を示す工程断面図である。 偏光素子の製造に用いる露光装置の一例を示す概略構成図である。 電子機器の一形態であるプロジェクタの概略図である。 本実施形態の偏光素子を備えた液晶装置の一例を示す概略構成図である。 電子機器の一形態である携帯電話の斜視図である。

符号の説明

１、３３０、３４０…偏光素子、１１…基板、１１Ａ…基板材料（基材）、１２…溝部、１３…凸条部、１３ａ…側面（傾斜面）、１３ｂ…頂面（上端）、１４…金属細線、２０…レジスト、２１…残存レジスト、３００…液晶装置、３１０…素子基板（一対の基板）、３２０…対向基板（一対の基板）、３５０…液晶層、８００…プロジェクタ（投射型表示装置）、８１０…光源（照明光学系）、８２６…投射レンズ（投射光学系）、８５２…第１偏光素子（偏光素子）、１３００…携帯電話（電子機器）、

Claims (9)

1. 基板と、
   前記基板の一面側に平面視略ストライプ状に設けられた複数の凸条部と、
   前記複数の凸条部のうち一の凸条部上に設けられるとともに、前記一の凸条部の延在方向に沿って延びる金属細線と、を備え、
   前記一の凸条部は前記基板の前記一面に対して傾斜した傾斜面を備え、
   前記金属細線は、前記傾斜面によって片持ちに支持されているとともに、前記傾斜面から前記一の凸条部の上端面に張り出していることを特徴とする偏光素子。
2. 前記一の凸条部の前記上端面が略平坦面であり、
   前記金属細線が、前記一の凸条部の前記上端面の少なくとも一部を平面視で覆うように前記傾斜面から前記一の凸条部の前記上端面に張り出していることを特徴とする請求項１に記載の偏光素子。
3. 前記金属細線は、シリコン、ゲルマニウム、モリブデンの中から選ばれる金属材料を用いて形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光素子。
4. 基板と、
   前記基板の一面側に平面視略ストライプ状に設けられた複数の凸条部と、
   前記複数の凸条部のうち一の凸条部上に設けられるとともに、前記一の凸条部の延在方向に沿って延びる金属細線と、を備える偏光素子の製造方法であって、
   前記一の凸条部の側面と、前記一の凸条部の上部に設けられたマスクの側面とにまたがって金属材料を堆積させることによって、前記金属細線を形成する工程と、
   前記マスクを除去する工程と、を備えることを特徴とする偏光素子の製造方法。
5. 前記マスクの前記側面は、前記一の凸条部の上部の少なくとも一部を平面視で覆う傾斜面であることを特徴とする請求項４に記載の偏光素子の製造方法。
6. 前記金属細線を形成する工程に先だって、前記基板の形成材料である基材の一面側に、所定のパターンを有するレジストを形成する工程と、
   前記レジストを介して前記基材をエッチングし、前記所定のパターンを呈する凸条部を備えた前記基板を形成すると共に、前記凸条部の上部に前記レジストの一部を残存させるエッチング工程と、を有し、
   残存する前記レジストの一部を前記マスクとして用いることを特徴とする請求項４または５に記載の偏光素子の製造方法。
7. 光を射出する照明光学系と、
   前記光を変調する液晶ライトバルブと、
   前記液晶ライトバルブで変調された光が入射する請求項１から３のいずれか１項に記載の偏光素子と、
   前記偏光素子を透過した偏光光を被投射面に投射する投射光学系と、を備えることを特徴とする投射型表示装置。
8. 一対の基板間に液晶層を挟持してなり、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の前記液晶層側に請求項１から３のいずれか１項に記載の偏光素子が形成されていることを特徴とする液晶装置。
9. 請求項８に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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