JP2006516068A - 発熱デバイスにおける温度均一性及びホットスポット冷却を実現する方法及び装置 - Google Patents

発熱デバイスにおける温度均一性及びホットスポット冷却を実現する方法及び装置 Download PDF

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Abstract

実質的に平面に揃えられている熱交換器の熱交換面に接触する熱源の温度を制御する熱源温度制御方法を開示する。熱源温度制御方法は、第1の温度の流体を熱交換面に流し、第1の温度の流体が熱交換面に沿って、熱源と熱交換を行う工程を有する。更に、熱源温度制御方法は、熱交換面から第2の温度の流体を流し、第2の温度の流体が熱源に沿って、温度差を最小化する工程を有する。熱交換器における流体抵抗及び熱抵抗を最適化し及び制御することによって熱源における温度差が最小化される。流体への抵抗は、熱輸送構造体のサイズ、体積及び表面積、多連ポンプ、固定又は可変のバルブ、流路内のフロー規制要素、流体の圧力及び流量制御及びこの他の要素によって制御される。

Description

関連出願
この特許出願は、引用により本願に援用される、2003年4月11日に出願された、係属中の米国仮特許出願第60/462,245号、発明の名称「リング補強プロテクタ及びリムーバブルスプレッダリッド(RING STIFFENER PROTECTOR AND REMOVEABLE SPREADER LID)」について、米国特許法第119条(e)項35米国連邦法規類集119に基づく優先権を主張する。また、この特許出願は、引用により本願に援用される、2002年11月1日に出願された、係属中の米国仮特許出願第60/423,009号、発明の名称「柔軟な流体輸送及びマイクロチャネルヒートシンクによるホットスポット冷却のための方法(METHODS FOR FLEXIBLE FLUID DELIVERY AND HOTSPOT COOLING BY MICROCHANNEL HEAT SINKS)」について、米国特許法第119条(e)項35米国連邦法規類集119に基づく優先権を主張する。また、この特許出願は、引用により本願に援用される、2003年1月24日に出願された、継続中の米国仮特許出願第60/442,383号、発明の名称「CPU冷却用に最適化されたプレートフィン熱交換器(OPTIMIZED PLATE FIN HEAT EXCHANGER FOR CPU COOLING)」について、米国特許法第119条(e)項に基づく優先権を主張する。更に、この特許出願は、引用により本願に援用される、2003年3月17日に出願された係属中の米国仮特許出願第60/455,729号、発明の名称「多孔質構造を有するマイクロチャネル熱交換装置及びその製造方法(MICROCHANNEL HEAT EXCHANGER APPARATUS WITH POROUS CONFIGURATION AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF)」について、米国特許法第119条(e)項に基づく優先権を主張する。
本発明は、発熱デバイスを冷却する方法及び装置に関し、詳しくは、熱源における温度差を低減し、熱源のホットスポットを冷却する方法及び装置に関する。
マイクロチャネルヒートシンクは、1980年代前半に登場して以来、高い熱流束の冷却用途への適用可能性を示し、産業界において使用されてきた。しかしながら、既存のマイクロチャネルでは、従来の平行チャネル構成(parallel channel arrangements)が用いられており、これは、熱負荷が空間的に変化する発熱デバイスの冷却には適していない。このような発熱デバイスは、他の領域よりも多くの熱を発生する領域を有する。本明細書では、このような、より熱い領域を「ホットスポット(hot spot)」と呼び、ホットスポットより発熱量が少ない領域を「ウォームスポット(warm spot)」と呼ぶ。最も単純なケースでは、ホットスポットは、熱源の他の領域に比べて実質的により高い熱流束を有する例えば、マイクロプロセッサ等の熱源の領域である。更に、熱源の表面に亘って実質的に異なる熱流束が発生すると、熱源の表面に沿って温度差が生じ、複数のホットスポットが出現する。
図1Aは、複数のホットスポットを有する熱源99の斜視図である。図1Aに示すように、ホットスポットは、熱源の他の領域より高い熱流束を有するが、熱源の材料を介する熱の伝播のために、ホットスポットに近い周囲の領域も、非ホットスポット領域に比べて温度が高くなっている。すなわち、図1Aにおいて破線で囲まれたホットスポットの周囲の領域も、この破線の外側の領域に比べて高い温度を有する。そこで、ホットスポット領域及びこれに隣接する領域をホットスポットと定義し、ここでは、接触層ホットスポット領域と呼ぶ
また、熱源99は、図1Bに示すように、如何なるホットスポットも有さない場合もある。図1Bは、ホットスポットを全く有さない熱源99の斜視図と、X及びY方向における距離の関数として温度の変動を表すグラフを示している。図1Bの熱源99は、ホットスポットを有していないが、材料における熱伝播の原理に従い、熱源99の中央は、熱源99の周囲又はエッジに比べて、より高い熱流束を発生する。この現象は、図1Bのグラフに示されている。従来の熱交換器は、熱源の冷却のみを目的とし、その結果、従来の熱交換器では、ホットスポット冷却又は総合的な温度均一性が考慮されていない。
そこで、本発明の目的は、様々な設計管理及び冷却法を用いて、熱源における温度均一性を実現する熱交換器を有する流体冷却循環システムを提供することである。更に、本発明の目的は、様々な設計管理及び冷却法を用いて、熱源のホットスポットを効果的に冷却する熱交換器を有する流体冷却循環システムを提供することである。
本発明に係る熱源温度制御方法は、実質的に平面に揃えられている熱交換器の熱交換面に接触する熱源の温度を制御する。熱源温度制御方法は、第1の温度の流体を熱交換面に流し、第1の温度の流体が熱交換面に沿って、熱源と熱交換を行う工程を有する。更に、熱源温度制御方法は、熱交換面から第2の温度の流体を流し、第2の温度の流体が熱源に沿って、温度差を最小化する工程を有する。
更に、本発明は、熱源の温度を制御する熱交換器を提供する。熱交換器は、熱源に実質的に接触する第1の層を備える。第1の層は、第1の平面に揃えられ、流体と熱交換を行うように構成されている。更に、熱交換器は、第1の層に連結され、第1の層に流体を流し、及び第1の層から流体を受け取る第2の層を備える。熱交換器は、熱源に沿って、温度差を最小化するよう構成されている。
更に、本発明は、熱源の温度を制御する封水循環システム(hermetic closed loop system)を提供する。封水循環システムは、熱源の温度を制御する少なくとも1つの熱交換器を備える。熱交換器は、第1の平面に沿って構成され、熱源に実質的に接触し、少なくとも1つの熱交換流路に沿って流体を流すように構成された接触層を備える。更に、熱交換器は、少なくとも1つのインレット流路に沿ってインレット流体を供給し、少なくとも1つのアウトレット流路に沿ってアウトレット流体を取り除くマニホルド層を備える。熱交換器は、熱源における実質的な温度均一性を実現するように構成される。更に、封水循環システムは、封水循環システム内に流体を循環させる少なくとも1つのポンプを備える。少なくとも1つのポンプは、少なくとも1つの熱交換器に連結される。封水循環システムは、更に、少なくとも1つのポンプ及び少なくとも1つの熱交換器に連結された少なくとも1つの除熱器を備える。
一実施形態においては、第2の層は、第1の平面に実質的に垂直な複数のインレット流路を備える。更に、第2の層は、第1の平面に実質的に垂直な複数のアウトレット流路を備え、インレット及びアウトレット流路は、互いに平行に構成される。他の実施形態においては、第2の層は、第1の平面に実質的に垂直な複数のインレット流路を備える。更に、第2の層は、第1の平面に実質的に垂直な複数のアウトレット流路を備え、インレット及びアウトレット流路は、互いに非平行に構成される。更に他の実施形態においては、第2の層は、第1の層に流体を流す少なくとも1つの第1のポートを有する第1の層と、少なくとも1つの第2のポートを有する第2の層とを備える。第2の層は、第1の層から第2のポートに流体を流し、第1の層の流体は、第2の層の流体から独立して流れる。
上述の実施形態において、流体は、単相流であっても二相流であってもよく、又は、単相流及び二相流の間で遷移してもよい。流体は、流体に所望の流体抵抗を加える少なくとも1つの流路に沿って流される。各流路は、フロー長寸法及び流体接触寸法を有し、流路の流体接触寸法は、フロー長寸法に対して変化する。流体接触寸法は、熱交換器の1又は複数の動作条件に応じて調整することができる。本発明は、流路に沿った所定の位置における所望の特徴を検出する検出器を含む。流体は、熱交換面の第1の所望の領域に沿う第1の循環流路に流される。更に、流体は、熱交換面の第2の所望の領域に沿う第2の循環流路にも流され、第1の循環流路は、第2の循環流路から独立している。熱交換面の1つ以上の選択された領域は、熱抵抗を制御するための所望の熱伝導率を有する。熱交換面には、複数の熱輸送構造体が配設され、熱は、流体及び複数の熱輸送構造体の間で輸送される。熱交換面の少なくとも一部を所望の粗さに粗くすることによって、流体及び熱抵抗の少なくとも1つのを制御してもよい。更に、熱輸送構造体の少なくとも1つは、ピラー、マイクロチャネル及び/又は微孔構造を含む。熱交換面には、単位面積あたり所望の数の熱輸送構造体が配設され、流体抵抗が制御される。一実施形態においては、流体抵抗は、微孔構造における適切な孔寸法及び適切な孔−体積率を選択することによって最適化される。他の実施形態においては、流体抵抗は、単位面積あたりのピラーの数及び適切なピラー−体積率を選択することによって最適化される。更に他の実施形態においては、流体抵抗は、少なくとも1つのマイクロチャネルの適切な水力半径を選択することによって最適化される。熱輸送構造体は、流体への流体抵抗を制御するために最適化された長さ寸法を有する。熱輸送構造体の少なくとも一部の少なくとも1つの寸法は、流体への流体抵抗を制御するように最適化される。これに代えて、2つ以上の熱輸送構造体間の距離を最適化して、流体への流体抵抗を制御してもよい。これに代えて、少なくとも1つの熱輸送構造体の少なくとも一部にコーティングを施し、熱抵抗及び流体抵抗の少なくとも1つのを制御してもよい。また、少なくとも1つの熱輸送構造体の表面積を最適化することによって、流体への熱抵抗及び流体抵抗を制御してもよい。流路に沿って、少なくとも1つのが流体抵抗を制御する少なくとも1つのフロー規制要素を配設してもよい。更に、流路に沿った所定の位置で流体の圧力を調整して、流体の一時的な温度を制御してもよい。或いは、更に、流路に沿った所定の位置で流体の流量を調整して、流体の一時的な温度を制御してもよい。
本発明のこの他の特徴及び利点は、以下に示す好適な実施形態の詳細によって明らかとなる。
本発明に基づく流体循環システムは、包括的に言えば、熱交換器と協働して、熱源に接触する接触層の選択領域(selective areas)を介して流体を流通させることによって、熱源からの熱エネルギを捕捉する。具体的には、単層流又は二相流で流体を接触層の特定の領域に流すことにより、熱交換器内における最適な圧力降下を維持しながら、ホットスポットを冷却し、及び/又は熱源に亘る温度差を低減することができる。この温度均一性の実現とは、熱源に自動的に生じる温度勾配を最小化することである。更に、熱源における温度均一性の実現は、図1Bのようにホットスポットがない場合の温度勾配を最小化することを含む。すなわち、温度均一性の実現とは、熱源におけるより熱い領域、暖かい領域及び冷たい領域の間の温度の差異を減少させることを含む。後述するように、本発明に基づく循環システム及び熱交換器異なる設計条件及び制御手法を用いて、熱源における温度均一性を実現する。
ここでは、デバイスのホットスポット位置を冷却するために流体を柔軟に輸送するマイクロチャネル熱交換器を説明するが、これに代えて、本発明の熱交換器は、デバイスのコールドスポット位置を加熱するための柔軟な流体輸送に用いてもよいことは、当業者にとって明らかである。更に、本発明は、マイクロチャネル熱交換器として説明するが、本発明は、この説明に制限されず、他の用途にも用いることができる。
図2Aは、本発明に基づくマイクロチャネル熱交換器100を備える封水的に密閉された循環冷却装置30の概略を示している。更に、図2Bは、変形例として、多連ポンプ32’及び分流バルブ33’に連結された複数のポート108、109を有するマイクロチャネル熱交換器100’を備える、封水的に密閉された循環冷却装置30’の概略を示している。分流バルブ33’及び多連ポンプ32’は、2つ以上の流体のストリームを熱交換器100’に供給する。なお、システム30、30’は、図2A、図2Bに示す以外の更なる部品を備えていてもよく、ここに示す構成によっては制限されない。
図2Aに示すように、流体ポート108、109は、ポンプ32及び熱コンデンサ30に連結された流体ライン38に連結されている。ポンプ32は、流体をポンピングし、循環システム30内で循環させる。一実施形態においては、各流体ポート108’、109’を介して、一定の均一な流量の流体が熱交換器100に出入りする。これに代えて、インレット及びアウトレットポート108、109を介して熱交換器100’に出入りする流量を時間的に変化させてもよい。これに代えて図2Bに示すように、1又は複数のバルブ33’を介して、2つ以上のポンプ32’が複数の指定されたインレットポート108に流体を提供するような構成としてもよい。なお、図2A及び図2Bに示す構成は、例示的なものである。ポンプ及び流体ポートの数は、幾つであってもよい。
図2A及び図2Bに示すように、熱交換器100及び/又は熱源99には、1つ以上のセンサ130が連結され、センサ130は、熱交換器100の動作状態に関する情報を動的感知及び制御モジュール34に提供する。制御モジュール34は、ポンプ32’及び/又は熱交換器100’に連結され、1つ以上のセンサ130から受け取った温度、ホットスポット位置、流量、液体の温度、流体の圧力、システム30内の包括的な動作等に関する情報に対応して熱交換器100’を出入りする流体の量及び流量を動的に制御する。例えば、制御モジュール34は、ホットスポット位置の熱量の増加に応じて、2つのポンプ32’を始動する。なお、図2A及び図2Bに示すように、感知及び制御モジュール34は、両方の冷却装置に適用可能である。
本発明の設計概念及び方法をより明瞭に示すために、流体循環システム30、30’においては、幾つかの熱交換器を用いてもよく、これらの熱交換器は、以下に説明する本発明のあらゆる側面を備えるように構成することができる。以下に示す熱交換器の特徴及び詳細については、引用により本願に援用される、2003年10月6日に出願された、係属中の米国特許出願代理人整理番号Cool−01301、発明の名称「発熱デバイスを冷却するための効率的な垂直流体輸送のための方法及び装置(METHOD AND APPARATUS FOR EFFICIENT VERTICAL FLUID DELIVERY FOR COOLING A HEAT PRODUCING DEVICE)」にも開示されている。本発明は、この代理人整理番号Cool−01301に開示されている熱交換器には制限されず、本発明は、他の如何なる適切な熱交換器又はヒートシンクにも適用できることは当業者にとって明らかである。
接触層102(図の3A及び4A)は、好ましくは、熱源に接触し、熱源99を適切に冷却する熱交換能力を提供する。これに代えて接触層102は、1つの全体の部品として、熱源と一体に形成してもよい。これに代えて接触層102は、ヒートスプレッダ(図示せず)に組み込んでもよく、このヒートスプレッダは、熱源に連結してもよく、又は熱源内に一体に形成してもよい。熱交換器100の接触層102は、流体が流されるように構成される。接触層102によって、熱伝導及び対流により、熱源99から流体に熱を輸送することができる。接触層120は、類似する又は異なる熱輸送構造体を幾つ含んでいてもよく、これらの構造体の幾つかについては、後に説明する。熱輸送構造体は、以下に説明する形状には制限されず、他の適切な如何なる形状及び設計を用いてもよいことは当業者にとって明らかである。
図3Aは、本発明に基づく複数のマイクロチャネル壁110が形成された接触層102の斜視図である。マイクロチャネル壁110により、流体は、接触層102の全体に沿って及び/又は接触層ホットスポット領域の選択されたホットスポット位置に対して熱交換を行うことができ、これにより熱源99を冷却することができる。マイクロチャネル壁110は、図3Aに示すように、接触層の底面から垂直に立ち上がり、好ましくは、互いに平行になるように構成される。これに代えてマイクロチャネル壁110は、非平行に構成してもよい。
図3Bは、接触層に沿って配置された幾つかの異なる熱輸送構造体を有する本発明に基づく接触層302の斜視図である。接触層102’は、複数のマイクロチャネル109を備え、そのうち、2つのマイクロチャネルは、同じ形状を有し、1つのマイクロチャネル111は、自らの他の部分より高く突きだしている部分を有する。更に、接触層102’上には、本発明に基づく様々な高さ寸法を有する複数のピラー132、134が設けられている。図2Bに示すように、ピラー134は、接触層102’の底面から所定の高さに垂直に延び、この高さは、潜在的に接触層102’の全体の高さであってもよい。ピラー132は、マイクロピラー134より低く垂直に延びている。ピラー134は、如何なる形状を有していてもく、例えば、以下に限定されるものではないが、ピン(図3B)、正方形(図示せず)、ダイヤモンド形(図示せず)、楕円形(図示せず)、六角形(図示せず)、円形の又は他の如何なる形であってもよい。或いは、接触層102’上には、異なる形状のマイクロピラーを併設してもよい。更に、図1Bには、接触層102’上に配設された微孔構造136が示されている。
本発明の熱交換器100は、熱源99より大きい幅を有することが望ましい。熱交換器100が熱源99より大きい場合、張り出し寸法(overhang dimension)が存在する。張り出し寸法とは、熱源99の1つの外壁と、熱交換器100の内部の流体チャネル壁との間の最も遠い距離である。好適な実施形態では、張り出し寸法は、単相流の場合、0〜5ミリメートルであり、二相流の場合0〜15ミリメートルである。更に、本発明の接触層102の厚さ寸法は、好ましくは、単相流の場合、0.3〜0.7ミリメートルであり、二相流の場合、0.3〜1.0ミリメートルである。
本発明の実施形態における熱交換器100は、接触層102上に設けられた微孔構造136を用いる。微孔構造136は、単層流の場合も二相流の場合も、10〜200ミクロンの範囲内の平均孔寸法を有する。更に、微孔構造136の多孔度は、単層流の場合も二相流の場合も、50〜80パーセントの範囲内とすることが望ましい。微孔構造136の高さは、単層流の場合も二相流の場合も、0.25〜2.00ミリメートルの範囲内とすることが望ましい。
接触層102に沿ってピラー132、134(以下、132で代表させる。)及び/又はマイクロチャネル109、111、113(以下、10で代表させる。)を用いる実施形態では、本発明に基づく接触層102は、単相流の場合、0.3〜0.7ミリメートルの範囲内の厚さ寸法を有し、二相流の場合、0.3〜1.0ミリメートルの範囲内の厚さ寸法を有する。更に、単相流の場合も、二相流の場合も、少なくとも1つのピラー132は、(10ミクロン)〜(100ミクロン)の範囲内の面積を有する。更に、ピラー132及び/又はマイクロチャネル109の少なくとも2つの間の離間寸法は、単相流の場合も、二相流の場合も、10〜150ミクロンの範囲内とする。マイクロチャネル109の幅寸法は、単層流の場合も、二相流の場合も、10〜100ミクロンの範囲内とする。マイクロチャネル109及び/又はピラー132の高さ寸法は、単相流の場合、50〜800ミクロンの範囲内とし、二相流の場合、50ミクロン〜2ミリメートルの範囲内とする。但し、上述した以外の寸法を用いてもよいことは、当業者にとって明らかである。
例えば、図3Dに示すように、接触層102”は、矩形フィン136の幾つかの組を備え、各組内の矩形フィン136を互いに放射状に配置してもよい。更に、接触層302は、一組の矩形フィン136の間に配置された複数のピラー134を備えていてもよい。接触層102は、1つの種類の熱輸送構造体を備えていてもよく、又は異なる種類の熱輸送構造体(例えば、マイクロチャネル、ピラー、微小孔構造)の任意の組合せを備えていてもよいことは明らかである。
接触層102は、熱源99と、接触層302に沿って流れる流体との間の温度差を最小化するために、高い熱伝導率を有することが好ましい。接触層は、100W/m−K程度の高い熱伝導率を有する材料から形成することが好ましい。熱輸送構造体は、好ましくは、少なくとも10W/m−Kの熱伝導率特性を有する。但し、接触層102及び熱輸送構造体は、上述した値より高い又は低い熱伝導率を有していてもよく、好適な値として上述した値に制限されないことは当業者にとって明らかである。接触層及び熱輸送構造体に関するその他の詳細は、引用により本願に援用される、2003年10月6日に出願された、係属中の米国特許出願代理人整理番号Cool−01301、発明の名称「発熱デバイスを冷却するための効率的な垂直流体輸送のための方法及び装置(METHOD AND APPARATUS FOR EFFICIENT VERTICAL FLUID DELIVERY FOR COOLING A HEAT PRODUCING DEVICE)」にも開示されている。
本発明に基づく冷却装置30(図2A)及び熱交換器100は、ここに開示する方法及び設計を用いて、温度均一性を実現し、熱源99’のホットスポットを空間的且つ時間的に、効果的に冷却する。図4Aは、本発明に基づく熱交換器100の一実施形態の分解図である。図4Aでは、マニホルド層106のボディ内のチャネル116、122及びフィンガ118、120を示すために、マニホルド層106の上面を切り取って示している。上述のように、高い熱を発生する熱源99’の位置及びその位置の周囲の領域は、ここでは、接触層ホットスポット領域と呼び、これより低い熱を発生する熱源99’の位置は、ここでは、ウォームスポット領域と呼ぶ図4Aでは、熱源99’のホットスポット領域を位置A及び位置Bとして示している。更に、図4Aに示すように、接触層102は、ホットスポット位置Aの上に位置する接触層ホットスポット領域Aと、ホットスポット位置Bの上に位置する接触層ホットスポット領域Bとを有している。
図4Aに示すように、流体は、まず、好ましくは、1つのインレットポート108を介して、熱交換器100に流入する。そして、流体は、好ましくは1つのインレットチャネル116に流入する。これに代えて、熱交換器100は、2つ以上のインレットチャネル116を備えていてもよい。図4A及び図4Bに示すように、インレットポート108からインレットチャネル116に沿って流れる流体は、まず、フィンガ118Aに分岐する。更に、インレットチャネル116の残りの部分に沿って流れる流体は、フィンガ118B及びフィンガ118C等の個々のフィンガに注ぎ込まれる。この具体例では、流体をフィンガ118Aに注ぎ込むことによって、接触層ホットスポット領域Aに流体を供給する。すなわち、流体は、Z方向に、フィンガ118Aを介して、中間層104に流れ下る。次に、流体は、フィンガ118Aの下に配設された中間層104のインレット導管105Aを介して、接触層102に流れ込む。流体は、好ましくは、図4Bに示すように、マイクロチャネル110に沿って移動し、熱源99’に対して熱交換を行う。次に、加熱された流体は、導管105Bを介して、アウトレットフィンガ120Aに流れ上がる。
同様に、流体は、フィンガ118E、118Fを介して、中間層104に、Z−方向に流れ下る。次に、流体は、Z−方向に、インレット導管105Cを介して、接触層102に流れ下る。そして、加熱された流体は、接触層102からアウトレット導管105Dを介してアウトレットフィンガ120E、120Fに、Z−方向に流れ上がる。熱交換器100は、アウトレットフィンガ120を介して、マニホルド層106で加熱された流体を取り除き、アウトレットフィンガ120は、アウトレットチャネル122に連結されている。アウトレットチャネル122により、流体は、好ましくは、1つのアウトレットポート109を介して、熱交換器100から排出される。
図5は、本発明の他の実施形態である熱交換器200の一部を切欠いて示す斜視図である。図5に示すように、熱交換器200は、熱源99”のボディに沿って発生する熱量カロリーに基づいて、個別の領域に分割される。これらの領域は、垂直な中間層204及び/又は接触層202内のマイクロチャネル壁構造体210によって分割される。これに代えて図5の破線によって示すように、接触層202の領域は、接触層及び中間層204の間に延びる垂直な壁によって分割してもよい。但し、図5に示すアセンブリは、例示的なものであり、ここに示す構成に制限されるものではないことは、当業者にとって明らかである。
熱源99”は、位置A’のホットスポットと、位置B’のウォームスポットとを有し、位置A’のホットスポットは、位置B’のウォームスポットより高い熱を発生する。なお、熱源99”は、如何なる時刻及び如何なる位置において、2つ以上のホットスポット及びウォームスポットを有していてもよいことは明らかである。したがって、熱交換器200では、位置A’を適切に冷却するために、より多くの流体及び/又はより高い流量の流体を接触層ホットスポット領域A’に提供する。なお、この具体例では、接触層ホットスポット領域B’は、接触層ホットスポット領域A’より大きく示されているが、熱交換器200内の接触層ホットスポット領域A’、B’及び他のあらゆる接触層ホットスポット領域は、如何なるサイズを有していてもよく及び/又は相対的に如何なる構成を有していてもよいことは明らかである。一実施形態においては、熱交換器200は、図5に示すように、2個以上のポンプに連結され、各ポンプ32’(図2B)は、熱交換器200内において、それ自身の又は複数の流体循環を提供する。これに代えて各ポンプ32’(図2B)がバルブ33’によって制御される1つの流体循環に寄与してもよい。変形例として、熱交換器200を1つのポンプ32(図2A)に連結してもよい。
図5に示すように、流体は、流体ポート208Aを介して熱交換器200に入り、中間層204Aから流入導管205Aに流れることによって、接触層ホットスポット領域Aに供給される。次に、流体は、流入導管205AをZ−方向に流れ下り、接触層202の接触層ホットスポット領域Aに至る。流体は、マイクロチャネル210Aの間を流れ、これにより、位置A’からの熱は、接触層202を介した熱伝導によって、流体に輸送される。加熱された流体は、接触層ホットスポット領域A’内の接触層202に沿って、アウトレットポート209Aに向かって流れ、熱交換器200から排出される。特定の接触層ホットスポット領域又は一組の接触層ホットスポット領域について、如何なる数のインレットポート208及びアウトレットポート209を用いてもよいことは、当業者にとって明らかである。
また、図5に示す具体例では、熱源99”は、熱源99”の位置A’より低い熱を発生するウォームスポットを位置B’に有している。ポート208Bを介して流入する流体は、中間層204Bに沿って流入導管205Bに流れることによって、接触層ホットスポット領域B’に供給される。次に、流体は、流入導管205BをZ−方向に流れ下り、接触層202の接触層ホットスポット領域Bに至る。流体は、マイクロチャネル210Aの間を流れ、これにより、位置B’からの熱は、流体に輸送される。加熱された流体は、中間層204の流出導管205Bを介して接触層ホットスポット領域B’内の全体の接触層202Bに沿って、排出ポート209Bを流れ上がる。そして、流体は、排出ポート209Bを介して、熱交換器200から排出される。
一実施形態においては、熱交換器200は、循環システム30(図2A)に示すように、1つのポンプ32に連結される。他の実施形態においては、熱交換器200は、2つ以上のポンプ32’に連結され、一方のポンプ32’(ポンプ1)には、一組の流入ポート208A及び流出ポート209Aが連結され、他方のポンプ32’(ポンプ2)には、他の一組の流入ポート208B及び流出ポート209Bが連結される。これに代えて、バルブ33’(図2B)は、ポート208A、208Bに対し、それぞれ異なる流量を供給してもよい。
一実施形態では、熱交換器200は、流体のフローを適切に区別し、あるポンプからの流体と、他のポンプからの流体が混ざらないように設計してもよい。これにより、熱交換器200内を循環する2つ以上の独立した流体循環路が形成される。具体的には、図5に示す熱交換器200は、接触層ホットスポット領域A’への独立した流体循環路と、接触層ホットスポット領域B’への他の独立した流体循環路とを含んでいる。以下に詳細に説明するように、熱交換器200の独立したループを用いることにより、温度均一性を実現でき、及び熱源99”のホットスポットを効果的に冷却することができる。独立した流体循環路を用いることにより、1つ以上の接触層ホットスポット領域及び接触層の残りの部分に一定量の流体を供給することができる。
図6は、本発明の他の実施形態である熱交換器300の分解図である。図6に示すマニホルド層306は、3個の個別のレベルを含んでいる。詳しくは、マニホルド層306は、循環レベル304、インレットレベル308及びアウトレットレベル312を有している。これに代えて循環レベル304を設けず、接触層302をインレットレベル308に直接連結してもよい。図6の矢印で示すように、冷却された流体は、アウトレットレベル312のインレットポート315を介して熱交換器300に入る。冷却された流体は、インレットポート315からインレットレベル308のインレットポート314に流れ下る。次に、流体は、コリダ(corridor)320から循環レベル304のインレットアパーチャ322を介してZ−方向に流れ下り、接触層302に至る。なお、インレットコリダ320の冷却された流体は、熱交換器300から排出される如何なる加熱された流体と混合されることも、接触することもない。接触層302に入る流体は、固体材料と熱交換を行い、熱源99に発生した熱を吸収する。インレットアパーチャ322及びアウトレットアパーチャ324は、流体が、接触層302に沿って、各インレットアパーチャ322から隣接するアウトレットアパーチャ324までの最適な最も近い距離を移動するように構成される。インレット及びアウトレットアパーチャの間の距離を最適化することにより、熱源99を効果的に冷却することができる。加熱された流体は、インレットレベル308を介して、接触層302から幾つかのアウトレットアパーチャ324を介してアウトレットレベル312のアウトレットコリダ328にZ方向に流れ上がる。或いは、加熱された流体は、接触層302からアウトレットレベル312内のアウトレットコリダ328に直接、Z−方向に流れ上がる。加熱された流体は、アウトレットレベル312のアウトレットコリダ328に入り、アウトレットポート316を介して、熱交換器300から排出される。加熱された流体は、熱交換器300から排出されるので、マニホルド層306に供給される他の如何なる冷却された流体とも混合されず、接触もしない。なお、図6の矢印で示すフローの方向は、正反対にしてもよいことは明らかである。
図7Aは、本発明の他の実施形態である熱交換器の斜視図である。図7Aのマニホルド層406は、互いに絡み合う又は組み合う複数の平行な流体フィンガ411、412を備え、これにより、熱交換器400及びシステム30、30’(図2A、図2B)内で実質的な圧力降下を発生させることなく、単層流及び/又は二相流が接触層402に循環される。一実施形態においては、インレットフィンガ411及びアウトレットフィンガ412は、熱交換器400で交互に配設される。
この構成では、概略的に言えば、流体は、流体ポート408を介してマニホルド層406に流入し、流路414を移動し、流体フィンガ又は流路411に向かう。流体は、インレットフィンガ411の開口(opening)に流入し、矢印によって示すように、X−方向に、フィンガ411の長さに沿って流れる。更に、流体は、Z−方向に、マニホルド層406の下に設けられた接触層402に流れ下る。図7Aに示すように、接触層402において、流体は、接触層402のX及びY方向の底面に沿って流れ、熱源99と熱交換を行う。加熱された流体は、アウトレットフィンガ412を介してZ−方向を上向きに流れ上がって接触層402から流出し、アウトレットフィンガ412は、X−方向及びY方向に沿って、マニホルド層406の流路418に加熱された流体を流す。そして、流体は、流路418に沿って流れ、ポート409から流れ出ることによって熱交換器から排出される。
上述のように、流体循環システム30、30’(図2A、図2B)及び熱交換器100は、熱源99のホットスポットを冷却し及び/又は熱源99における全体的な温度均一性を実現する。一実施形態においては、本発明は、より高い流量の流体及び/又はより冷たい流体を接触層ホットスポット領域に供給することによってホットスポットを効果的に冷却する。これについては、図4〜図7Aに示す熱交換器100、200、300、400を用いて上述した通りである。説明を簡潔に行うために、以下の説明では、上述した全ての熱交換器を熱交換器100に代表させる。但し、特定の熱交換器に関する特定の言及が必要である場合は、その熱交換器を対応する参照符号とともに示す。
熱源99の温度均一性を実現するとともに、ホットスポットを有効に冷却する一手法として、熱交換器100における流体抵抗及び熱抵抗を制御するとよい。また、温度差を低減し、ホットスポットを有効に冷却する他の手法として、マニホルド層106、接触層102及び/又は中間層104に沿って可変の流体抵抗を有するように熱交換器100を構成してもよい。また、熱源99における温度の変動を低減し、温度均一性を実現するための他の手法として、多連ポンプを用いて、又は1つ以上のポンプから、流量が異なる流体を流すことによって、接触層102の特定の所望の領域を個別に冷却するようにしてもよい。
図8Aは、流体が熱交換器を介して循環する際に受ける水圧又は流体抵抗を示している。図4Aに示す具体例では、熱交換器100には、図面の左側の経路として示す1つの接触層ホットスポット領域と、図面の右側の経路として示す1つの接触層ウォームスポット領域とがある。なお、図8Aに示す抵抗は、図4Aの熱交換器100に制限されず、他の如何なる熱交換器にも適用可能であることは当業者にとって明らかである。また、図8Aには、それぞれ1つのホットスポット及びウォームスポット抵抗経路のみを示しているが、ホットスポット及びより温度が低いスポットの経路をそれぞれ幾つ設けてもよいことは、明らかである。
図8Aに示すように、流体は、インレット500から流れ込み、マニホルド層106(図4A)を流れる。マニホルド層106内の流路は、その特性及び構成により、RHOT_MANIFOLD502及びRWARM_MANIFOLD304として示される、流体抵抗を生来的に有する。換言すれば流体は、接触層102に流れる際に、マニホルド層106において抵抗RHOT_MANIFOLD502及びRWARM_MANIFOLD504を受ける。同様に、流体は、中間層104(図4A)を流れ、中間層104は、その流路の特性及び構成により、RHOT_INTERMEDIATE506及びRWARM_INTERMEDIATE508として示される流体抵抗を生来的に有する。したがって、流体は、中間層104を流れる際に、抵抗RHOT_INTERMEDIATE506及びRWARM_INTERMEDIATE508を受ける。流体は、接触層102(図4A)に沿って流れ、接触層102は、その流路の特性及び構成により、RHOT_INTERFACE510及びRARM_INTERFACE512として示される抵抗を生来的に有し、したがって、流体は、接触層102において、抵抗RHOT_INTERFACE510及びRWARM_INTERFACE512を受ける。加熱された流体は、中間層104及びマニホルド層106を介して流れ上がり、したがって、加熱された流体は、中間層104及びマニホルド層106において、それぞれ抵抗RHOT_INTERMEDIATE514、RWARM INTERMEDIATE516及びRHOT_MANIFOLD518、RWARM_MANIFOLD520を受ける。そして、加熱された流体は、アウトレット522を介して熱交換器100から排出される。
図8Aは、流体が熱交換器を介して循環する際に受ける水圧又は流体抵抗を示している。また、図8Bには、それぞれ1つのホットスポット及びウォームスポット抵抗経路のみを示しているが、ホットスポット及びより温度が低いスポットの経路をそれぞれ幾つ設けてもよいことは、明らかである。図8Bの抵抗図は、図8Aに示す抵抗図と基本的に同じであるが、図8Bでは、2個の流体ポンプが熱交換器100に連結されている。図8Bに示すように、ポンプ1は、ホットスポットに流体を循環させ、接触層ホットスポット領域に/から流れる流体は、熱交換器において、個々の抵抗を受ける。同様にポンプ2は、より温度が低い領域(例えば、ウォームスポット)に流体を循環させ、より温度が低い領域に/から流れる流体は、熱交換器において、個々の抵抗を受ける。
図8Aに示す実施形態では、本発明に基づく熱交換器100は、熱源99における温度差を低減し、温度均一性を実現するとともに、ホットスポットを冷却するように、流体抵抗及び熱抵抗が個別に又は一括して制御できるように構成される。例えば、システム30’(図2B)において、2つ以上のポンプを用いて、より多くの及び/又はより温度が低い流体をホットスポット領域に流し、より少ない及び/又はより温度が高い流体をウォームスポット領域に流すようにしてもよい。したがって、熱交換器100は、ホットスポット経路に沿って、RHOT_MANIFOLD502、RHOT_INTERMEDIATE506、RHOT_INTERFACE510で示される流体抵抗が低くなり、及びウォームスポット経路に沿って、RWARM_MANIFOLD504、RWARM_INTERMEDIATE516、RWARM_INTERFACE512で示される流体抵抗が高くなるように構成される。また、後に詳細に説明するように、ホットスポットに流された流体が、より温度が低い領域に流された流体に比べて、より良好な熱交換を行い及びより多くの熱を吸収するように熱抵抗を制御してもよい。
これは、特に図5の熱交換器200及び図8Bの抵抗図に示すように、一方のポンプ(ポンプ1)が領域Aに流体を循環させ、他方のポンプ(ポンプ2)が領域Bに流体を循環させることによって実現してもよい。多連ポンプからの流体は、熱交換器200の任意の点で混合してもよいが、熱交換器200内では、2つ流体経路を互いに完全に分離してもよい。この場合、熱交換器200には、複数の独立した冷却ループが形成され、熱源の冷却及び流量の特性を制御して、熱源を効果的に冷却し、及び温度差を低減させることができる。
流体抵抗及び熱抵抗を制御又は変更する方法及び設計については、後に更に詳細に説明する。なお、流体抵抗は、熱交換器内の何れの層又はレベルでも制御でき、熱抵抗は、接触層において制御できる。更に、システム及び熱交換器に複数の設計及び方法の任意の組合せを適用して、熱源99における温度差を低減し、温度均一性を実現してもよいことは当業者にとって明らかである。
熱交換器100の流体抵抗を制御するために、マニホルド層106及び中間層104の個々の特性及び設計は、個別に変更してもよく、一括して変更してもよい。マニホルド層106では、特定の流体抵抗を実現するために、フィンガ118、120及びチャネル116、122の形状及び横断面寸法を調整する。中間層104では、特定の必要な流体抵抗を実現するために、導管105の形状及び横断面寸法を調整する。例えば、好ましくは、接触層ホットスポット領域上の位置に沿って、マニホルド層106の特定のフィンガ118、120の断面寸法を大きくし、接触層ウォームスポット領域上の位置に沿っては、フィンガ118、120の断面寸法を小さくするとよい。このように断面寸法を変化させることにより、ホットスポットに対する冷却能力を高めることができる。また、図4Bに示すように、マニホルド層106の長さに沿って、チャネル116、122の幅又は流体接触寸法(流体の寸法→hydraulic dimension)を変更してもよい。一実施形態においては、チャネル116、122の流体接触寸法を、接触層ホットスポット領域上では大きくし、温度が低い領域上では小さくする。これにより、所定の時間における流量は、ウォームスポットよりホットスポットの方が大きくなる。一実施形態においては、図4B及び図7Bに示すように、チャネル及び/又はフィンガの流体接触寸法は、一定に又は変化するように、マニホルド層106の設計に永久的に組み込まれる。これに代えて、後述するように、チャネル及び/又はフィンガの流体接触寸法を動的に変更してもよい。
また、ホットスポットの冷却及び熱源99の温度均一性のために、フィンガ118、120及び/又はチャネル116、122の垂直寸法を変化させてもよい。マニホルド層106内のチャネル116、122及び/又はフィンガ118の側壁をより高くすることにより、より多くの流体を、垂直に接触層102に直接供給することができる。対照的に、接触層102にまで延びる垂直壁を有さないマニホルド層106のフィンガの場合、より多くの流体が、接触層102に直接当たらず、接触層上を水平に移動する。例えば、フィンガ118、120の、接触層ホットスポット領域上のセクションは、その特定のフィンガ118、120の他のセクションより長い側壁を有する。側壁が高い部分では、より多くの流体が接触層ホットスポット領域に集中して提供され、側壁が低い部分では、流体は、接触層のより広い面積に流される。なお、上述したフィンガ118、120及びチャネル116、122の様々な寸法は、ここに示す実施形態に制限されず、他の実施形態にも適用できる。
これに代えて、熱交換器100は、接触層102における流体抵抗RINTERFACEを制御することによって、熱源99の温度均一性を実現し、及びホットスポットを冷却するように設計してもよい。好ましくは、接触層102の、接触層ホットスポット領域上又は接触層ホットスポット領域近傍に位置する熱輸送構造体は、接触層102の他の領域の熱輸送構造体より低い流体抵抗を有する。接触層ホットスポット領域の流体抵抗を低くすることにより、接触層の他の領域に対して、一定時間あたり、より多くの流体を接触層ホットスポット領域に供給することができる。
接触層102の流体チャネルの流体抵抗は、熱輸送構造体の流体接触寸法を最適化することによって制御できる。例えば、マイクロチャネル110の水力半径を調整することによって、マイクロチャネル110の長さに沿って流体の流量を制御することができる。したがって、接触層102の1つ以上のマイクロチャネルの接触層ホットスポット領域上の直径をマイクロチャネル110の他の部分の直径より大きくしてもよい。これにより、大きな直径のマイクロチャネル110は、より高い抵抗を有する小さな直径のマイクロチャネル110に比べて、より多くの流体を接触層ホットスポット領域に流通させる。これに代えてピラー134間の距離を変更することによって、接触層102に沿って流れる流体の流体抵抗の高さを制御してもよい。したがって、ウォームスポット領域の上のピラー134より、接触層ホットスポット領域のそれぞれのピラー134の間隔が広くなるように配設することにより、所定の時間について、ウォームスポット領域より接触層ホットスポット領域に多くの流体を流すことができる。なお、接触層102における圧力降下の大きさと、熱輸送構造体によって提供される熱伝導のための表面積の大きさとを考慮して水力半径の寸法を最適化するべきであることは言うまでもない。
また、流路の長さを最適化することによって、接触層102に沿って、流路の流体抵抗を変更することもできる。流路の長さが長くなるほど、流体抵抗が高くなることが知られている。したがって、流路の長さを最適化することによって、流体の圧力特性を維持しながら、接触層102に沿って、流体抵抗を最小化することができる。一具体例においては、接触層ホットスポット領域に位置するマイクロチャネル110を、ウォームスポット領域のマイクロチャネル110に比べて、より短くする。これにより、マイクロチャネル110流路に沿って接触層ホットスポット領域を流れる流体が移動する距離は短く、したがって、この流体が接触層から流れ出るまでに受ける流体抵抗は低く、一方、より長いマイクロチャネル110を流れる流体は、接触層に沿って流れている間、徐々に暖まる。なお、流路の長さは、単相流用に最適化されているが、後に詳細に説明するように、これに代えて、二相流を誘導するために、マイクロチャネル110の流路の長さをより長くしてもよい。
他の実施形態においては、熱源の温度均一性を実現し、ホットスポットを冷却するために、接触層102での熱伝導率特性を制御するように熱交換器100を構成する。詳しくは、上述した熱輸送構造体は、熱輸送構造体から流体に熱を輸送する能力を制御するように構成される。すなわち、接触層102が、接触層102内の他の部分に比べて、より高い熱伝導率を有する1つ以上の部分を有するように熱輸送構造体及び接触層102自体を構成してもよい。
接触層102及び/又は熱輸送構造体110における熱伝導率を制御する1つの手法として、所望の熱伝導率値を有する適切な材料から接触層102及び/又は熱輸送構造体110を形成してもよい。例えば、図1Bに示すように、如何なるホットスポットも有さない熱源99は、その中心でより強い熱流束を発生させる。図1Bに示すような熱源99での温度均一性を実現するために、接触層102及び/又は熱輸送構造体は、接触層102の中心でより高い熱伝導率を実現するように形成される。更に、接触層102及び/又は熱輸送構造体110の熱伝導率を中心から周辺に向けて徐々に低下させることによって、熱源99の全体を実質的に均一な温度に冷却することができる。
更に、これに代えて、接触層102の熱輸送構造体の表面積対体積の比を選択的に調整することによって、熱交換器100の熱抵抗を制御してもよい。熱輸送構造体又は接触層102自体の表面積対体積の比を高めることによって、熱輸送構造体及び/又は接触層102の熱抵抗は低下する。接触層102内での表面積対体積の比を高める1つの手法として、1単位面積あたりの熱輸送構造体の密度を高めるように接触層102を構成してもよい。例えば、図3Bに示すように、マイクロチャネル110、111を互いに近くに配設し、マイクロチャネル113を、マイクロチャネル110、111から遠ざけて配設してもよい。マイクロチャネル110、111は、より離れて配設されているマイクロチャネル113に比べて、接触層102’における熱輸送構造体の表面積対体積の比が高いために、流体への熱抵抗が低い。接触層102’に微孔構造136(図3B)を設ける実施形態では、微孔の寸法をより小さくすることによって、微孔構造の熱抵抗を下げることができる。
図3Cに示す他の具体例では、熱源99は、各コーナにホットスポットを有する。したがって、図3Cに示すように、接触層102”は、各コーナにおいて、対応する接触層ホットスポット領域を有している。この場合、接触層102”の外周のコーナに沿って熱抵抗を減少させるように接触層102”を構成することによって、熱源99の温度均一性を実現することができる。すなわち、図3Cに示すように、底面101の外側の端部の近傍により多くのピラー134を設け、中心付近では、ピラー134の密度が低くなるように、接触層102”を構成する。この結果、接触層102”の外周のコーナにおける、密度の高いピラー134は、より高い表面積対体積の比を実現し、したがって、より低い熱抵抗を実現する。なお、図3Cに示す設計は、一具体例にすぎず、この実施形態はこのような設計に制限されるものではない。また、ピラー134の寸法及び体積は、接触層に沿った流体抵抗が熱抵抗より大きくならないように最適化される。
接触層102における表面積対体積の比を高める他の手法として、接触層ホットスポット領域又は接触層ホットスポット領域の近傍において、接触層102’の他の領域の熱輸送構造体110より高い垂直寸法を有する熱輸送構造体110を設けてもよい。図3Bに示すように、熱源99は、ボディの前半分に亘る大きなホットスポットを有する。この場合、熱源99を有効に冷却するために、マイクロチャネル111及びピラー134は、接触層102’の前半分の付近では、高い垂直寸法を有し接触層102’の後半分の付近では、低い垂直寸法を有するように構成するとよい。
二相流の場合、熱輸送構造体の形状を変更し、流体に接触する表面積を大きくすることによって、熱輸送構造体の表面積対体積の比を高めてもよい。例えば、図9に示す具体例では、マイクロチャネル600は、壁の側面に食い込むような縦のスロット604を備えている。更に、ピラー602は、ピラー602のボディを切り込んで形成されたノッチ606を有している。マイクロチャネル600のスロット602は、流体が接触する表面積を増加させる。同様にピラー602のノッチ606は、流体が接触する表面積を増加させる。表面積を増加させると、熱を流体に輸送する空間が増え、この結果、接触層での熱抵抗が低下する。スロット604及びノッチ606の表面積を増加させることによって、ホットスポットの近傍における過熱が抑制されるとともに、二相流における流体の安定した沸騰が促進される。なお、熱輸送構造体は、流体に接触する表面積を増加させるために如何なる構成を有していてもよく、図9のマイクロチャネル600及びピラー602について示した表面積を増加させるための手法は、例示的なものに過ぎないことは明らかである。
二相流を用いる場合、更に、より多くの熱輸送が望まれる位置において、熱輸送構造体の表面がある程度粗くなるように熱輸送構造体を構成してもよい。粗い面は、液体からの気泡のポケットを形成し、すなわち、表面に沿った表面張力によって、粗い面に気泡が保持される。例えば、マイクロチャネル壁110の粗さを変更することによって、マイクロチャネル壁110に沿った表面張力を変更することができ、これにより、液体の沸騰を開始するために必要な蒸気圧を高める又は低めることができる。すなわち、表面を実質的に粗くすることにより、沸騰を開始するための蒸気圧が低くなり、表面を実質的に滑らかにすることにより、沸騰を開始するための蒸気圧が高くなる。二相流を用いる場合、後に詳細に説明するように、ホットスポットを有効に冷却するために、接触層ホットスポット領域における沸騰が望まれる。したがって、熱輸送構造体110及び接触層102の表面を適切に粗くすることによって、ホットスポットを有効に冷却することができる。
接触層102の所望の1又は複数の表面は、周知の表面加工技術を用いて粗くすることができる。これに代えて、所望の表面にコーティングを適用することによって、接触層102の所望の1又は複数の表面を粗くしてもよい。接触層102及び/又は熱輸送構造体110に表面コーティングを適用することによって、表面張力を変更することができる。更に、これに代えて、二相流が表面に接触する接触角度を変更するために表面コーティングを適用することもできる。表面コーティングは、接触層102及び/又は熱輸送構造体110の熱伝導率を変更するために適用された材料と同じ材料であることが好ましく、コーティングの熱伝導率は、少なくとも10W/m−Kであることが望ましい。これに代えて表面コーティングの材料として、接触層102の材料とは異なる材料を用いてもよい。
熱抵抗及び流体抵抗を変更することによって熱交換器100の冷却能力を制御することに加えて、熱交換器100は、流体の温度に依存する粘性を利用することによって、ホットスポットを効果的に冷却し、及び熱源99における温度均一性を実現する。当分野において周知であるように、殆どの流体は、温度が上昇すると粘性が低下し、したがって、流体温度が高くなると、流体抵抗は低くなる。したがって、接触層102のより温度が高い領域は、このような流体抵抗及び粘性の低下のために、より温度が低い領域に比べて、より多くの流体を流す。
一実施形態においては、本発明に基づく熱交換器100は、設計において、流体のこの性質を利用する。詳しくは、熱交換器100は、まず、接触層ホットスポット領域に流体を流し、ホットスポットからの熱輸送により、流体の温度は、自然に上昇する。流体の温度が上昇すると、流体自体の粘性が低下する。例えば、先に接触層102内のより熱い領域に流体を流通させ、流体温度を高めるように熱交換器100を構成することができる。この加熱された、より粘性が低い流体は、より速い流速で、接触層102の残りの領域を流れる。粘性を低くするために流体を加熱すると、流体が沸騰し、蒸気として加速する場合があり、この結果、接触層102に沿って大きな圧力降下が生じることがある。一実施形態においては、熱交換器100は、流れを制限し、流体が加速することを防止することによって潜在的な圧力降下の発生を防いでいる。これは、様々な手法で実現でき、例えば、非常に狭い孔、チャネル及び/又は熱輸送構造体間の間隔を有する流路を設計し、又は上述したように、多連ポンプを利用することによって実現してもよい。他の実施形態においては、後述するように、流体を意図的に沸騰させ、接触層102の所望の領域の冷却を促進してもよい。
他の実施形態においては、本発明の熱交換器100は、熱源99における温度均一性を実現し、及びホットスポットを有効に冷却するための内部バルブメカニズムを備える。具体的には、熱交換器100の内部バルブメカニズムは、接触層102の選択された領域への流量を制御する。熱交換器100の内部バルブメカニズムは、システム30、30’(図2A、図2B)において必要な冷却効果を実現するために、流路に沿って流体抵抗及び熱抵抗を動的に制御する。熱交換器100の内部バルブメカニズムによって、システム30、30’は、流体の流量と、熱交換器100に流れる流体の量とを制御できることは当業者にとって明らかである。更に、内部バルブメカニズムを用いて、流体の圧力に依存する特性及び粘性に依存する特性に加えて、熱交換器100内の流体の相特性を制御することもできる。
図4B及び図7Bは、内部に複数のバルブが構成されたマニホルド層106’、406’の変形例を示している。図4Bに示すように、マニホルド層106’は、チャネル116’に沿って、インレットポート108’の近傍において、拡張可能バルブ124’を備え、及びインレットチャネル116’に沿って、コーナの周りで拡張する他の拡張可能バルブ126’を備える。更に、マニホルド層106’は、アウトレットフィンガ内に拡張可能バルブ128’を備えている。図4Bでは、バルブ124’、128’は、拡張され、バルブ126’は、収縮されている。流体は、バルブ124’、128’において、流体が流れる流路寸法が小さくなっているために、より高い流体抵抗を受ける。拡張バルブ124’は、流れを制限することに加えて、インレットチャネル116’の残りの部分に流される流体の流速及び流量を制御する。例えば、バルブ124’が収縮すると、バルブ124’の流路の寸法が大きくなるので、アパーチャ119’を通過する流体の量が多くなる。また、アウトレットフィンガ120’の拡張バルブ128’は、流れを制限することに加えて、アウトレットフィンガ120’残りの部分に流される流体の流速及び流量を制御する。バルブ126’は、図4Bに示すように、バルブ124’より流体の流体抵抗を低くするよう動作しているが、必要に応じて、バルブ126’を拡張して、流体への流体抵抗を高めてもよい。
図7Bに示すように、マニホルド層406’は、インレットフィンガの内壁411’に連結された拡張可能バルブ424’、428’を備える。更に、マニホルド層406’は、アウトレットフィンガ412’の片面に連結された拡張可能バルブ426’を備える。図4B及び図7Bでは、完全に拡張又は収縮した幾つかのバルブを示しているが、これに代えて、バルブ424’の一部を、他の部分とは独立して拡張及び/又は収縮させることもできる。例えば、図形7Bでは、バルブ424’の片面が拡張され、バルブ424’の反対の片面は、収縮されている。一方、図形7Bのバルブ426’は、全体的に拡張され、バルブ428’は、全体的に収縮されている。なお、図には示さないが、マニホルド層の如何なるチャネル又は流路に沿って拡張可能バルブを配設してもよい。また、図には示さないが、図6に示す熱交換器300のアパーチャ322、324内に1つ以上の拡張可能バルブを配設してもよい。これに代えて、拡張可能バルブは、中間層104の導管105に設けてもよい。これに代えて、接触層102に沿って拡張可能バルブを配設してもよい。更に、図7Bのバルブ428’のように、壁の表面に沿って、均一にバルブを配設してもよい。これに代えて、壁面に対して非一様にバルブを配設してもよく、例えば、個別に伸長及び収縮可能な複数の隆起又は突起を形成してもよい。或いは、接触層102における表面積対体積の比を選択的に変更するために、個々の突起状のバルブを用いてもよい。また、図には示さないが、図6に示す実施形態において、固定の又は可変のバルブを設けてもよい。
一実施形態においては、拡張可能バルブは、形状記憶合金又は熱膨張率が異なる要素の組合せによって形成してもよい。他の実施形態として、拡張可能バルブは、周知の又はMEMS型のバルブを用いてもよい。これに代えて、拡張可能バルブは、温度によって駆動される2つの材料から作成してもよく、このバルブは、温度差を検知し、温度差に対応して自動的に収縮又は拡張する。また、これに代えて、拡張可能バルブを熱空圧材料から形成してもよい。或いは、バルブは、高い膨張係数を有する拡張可能な有機材料を含むブラダ(bladder)を用いて形成してもよい。他の実施形態においては、拡張可能バルブは、収縮状態と拡張状態との間で能動的に偏位し、所望の領域への流体の量を制御又は規制するキャパシティブバルブ(capacitive valve)であってもよい。
上述のように、冷却装置30、30’(図2A、図2B)は、熱交換器100内のセンサ130を用いて、熱交換器100の内部又は外部の1つ以上のポンプ32’(図2B)及び/又はバルブを動的に制御する。また、上述のように、熱源99において実行する必要があるタスクが変わると、熱源99のホットスポットの位置が変化することがある。更に、熱源99において実行する必要があるタスクが変わると、熱源99のホットスポットの1つ以上の熱流束が時間的に変化することがある。センサ130は、以下に限定されるものではないが、例えば、接触層ホットスポット領域を流れる流体の流量、接触層102及び/又は熱源99のホットスポット領域の温度、流体の温度等の情報を制御モジュール34に提供する。
効果的に熱源99を冷却し、温度均一性を実現するために、これらの空間的及び時間的な熱流束の変化の観点から、システム30、30’は、センサ130によって提供される情報に応じて、熱交換器100に流れ込む流体の流速及び/又は流量を動的に変更する感知及び制御モジュール34、34’(図2A、図2B)を備える。
図2A及び図2Bは、熱源99の状態を感知し、及びこの他の情報を制御モジュール34、34’に供給する複数のセンサ130、130’が組み込まれた熱交換器100を示している。一実施形態においては、1又は複数のセンサ130は、接触層102に配置してもよく、或いは、熱源99の如何なる所望の位置に配置してもよい。図2A、図2Bに示すように、センサ130、130’及び制御モジュール34、34’は、1つ以上のポンプ32’(図2A、図2B)に連結され、制御モジュール34は、センサ130から提供される情報に基づき、ポンプ32を能動的に制御する。複数のセンサ130’は、制御モジュール34’に連結され、制御モジュール34’は、図2A、図2Bに示すように、好ましくは、熱交換器100から上流に配置される。これに代えて制御モジュール34は、循環システム30内の他の如何なる位置に配置してもよい。例えば、低いパワーで動作している1つのポンプ3’が、接触層102の特定の領域の温度が上昇したことを示す情報を受信することによって、送り出す流量を増加させ、これにより、その特定の領域により多くの流体を供給する。熱交換器100の内部又は外部で1又は複数のバルブに連結された多連ポンプ32’(図2B)を用いる場合、センサ130’及び制御モジュール34’は、1又は複数のバルブを介して、必要な接触層ホットスポット領域への流体のフローを制御する。例えば、図7Bに示す拡張可能バルブ426’は、センサ130によって提供される情報に応じて拡張又は収縮するように構成してもよい。
本発明に基づくシステム内で用いられる上述した設計及び手法に加えて、熱交換器100は、圧力に依存する沸点条件を用いて、熱源99のホットスポットを有効に冷却し、温度均一性を実現してもよい。熱交換器100の流体のフロー特性に応じて、接触層ホットスポット領域には、単相である液相又は二相の沸騰条件に晒すことが有利である。
例えば、液体等の単相流の場合、上述した設計を用いて、接触層ホットスポット領域により温度が低い流体を高い流速で供給することが好ましい。また、例えば、蒸気及び液体の混合である二相流の場合、流体をホットスポットで沸騰させることによって、ホットスポットを効果的に冷却することができる。二相流の温度及び沸点は、流体の圧力に正比例することが知られている。詳しくは、流体の圧力が上昇すると、流体の温度及び沸点は上昇する。一方、流体の圧力が低下すると、流体の温度と沸点も低下する。熱交換器100は、単相流又は二相流の下での流体のこの圧力/温度の関係を利用して、効果的にホットスポットを冷却し、熱源99における温度均一性を実現する。
単相流の場合、熱交換器100は、1つ以上の必要な接触層ホットスポット領域に圧力及び温度が比較的低い流体を流し、接触層102の他の部分には、熱交換器100は、圧力及び温度が比較的高い流体を流すように構成される。温度が低い流体をホットスポットに供給することによって、ホットスポットを所望の温度に効果的に冷却し、温度が比較的高い流体をウォームスポット又は温度がより低いスポットに供給することにより、これらの領域を同様の温度に冷却することができる。このように、単相流の場合、適切な温度の流体を接触層102の所望の領域に流し、各領域を所望の温度に効果的に冷却することによって、熱源99における温度均一性を実現することができる。
二相流の場合、本発明に基づく熱交換器100は、上述したような圧力−温度の関係を利用して、流体を流通させるように構成される。詳しくは、本発明に基づく熱交換器100は、圧力が低い流体を接触層ホットスポット領域に供給することによって、接触層ホットスポット領域において、意図的に圧力降下を生じさせる。二相流が沸騰すると、二相流の加速度が著しく増加するため、大きな圧力降下が生じることが知られている。圧力−温度の関係に関連して上述したように、流体圧が大幅に低下すると、流体の温度は、低下された圧力に対応する温度に自然に引き下げられる。したがって、熱交換器100は、既に圧力が低下された二相流を接触層ホットスポット領域に流通させるように構成することができる。更に、熱交換器100は、接触層102の、より温度が高い領域に圧力が比較的高い流体を流通させるように構成してもよい。圧力が低い流体が接触層ホットスポット領域に接触すると、この流体は、加熱され、かなり低い沸点で沸騰を開始し、この結果、圧力降下を生じさせる。このような圧力の減少の結果、沸騰している二相流の温度は、効果的に低下する。この結果、二相流の温度がより低くなり、より効果的にホットスポットを冷却することができる。二相流を単相流に置き換えて、同じ手法を適用して、熱源99で温度均一性を実現してもよいことは明らかである。
他の実施形態においては、本発明の熱交換器100は、熱源99の全体に沿って、単相流及び二相流の複数の動作点を用いて温度均一性を実現する。図10は、マイクロプロセッサチップに連結される一般的な熱交換器における流体の圧力降下対流量のグラフを示している。図10に示すように、接触層102に沿って流れる流体の圧力は、液体領域では、流量に対して線形に増加する。一方、流体の流量が減少すると、流体は、沸騰領域に入り、二相流となる。沸騰領域では、流体の流量が減少するに従って、流体の圧力は非線形的に高くなる。更に、かなり少ない流量では、流体の圧力が大幅に高くなり、この場合、流量が少ない流体は、乾燥し始める。
上述のように、流体の圧力は、流体の温度に正比例する。更に、図10に示すように、流体の圧力は、流体の流量とも相関関係を有している。したがって、流体の流量を及び/又は圧力を制御することによって、流体の沸点及び温度を制御することができる。
このように、本発明に基づく熱交換器100は、複数の流体条件を利用して、熱源99の温度均一性を効果的に実現する。1つのポンプ32(図2A)を用いて、所望の領域における流体の流量及び/又は圧力を調整することによって、各所望の領域における流体の冷却効果を制御するように熱交換器100を構成してもよい。これに代えて、熱交換器100は、多連ポンプ32’(図2B)を用いて、所望の領域における流体の流量及び/又は圧力を調整することによって、各所望の領域における流体の冷却効果を制御してもよい。
特に、熱交換器100は、所望の流路における流体の圧力及び/又は流量を制御し、接触層102の特定の領域において、それぞれ異なる効果を生じさせてもよい。図10に示すグラフに関連して、30ミリリットル/分の流量で熱交換を行う流体は、二相流になる。一方、40ミリリットル/分以上の流量の流体は、液体領域に留まり、単相流のまま流れる。例えば、図5に示す熱源99は、位置Aにホットスポット領域を有し、位置Bにウォームスポット領域を有する。この特定の具体例では、熱交換器200は、接触層ホットスポット領域Aに流れる流体と、接触層ホットスポット領域Bを流れる流体とを接触させない。但し、幾つかの流路は、分離する必要はないことは当業者にとって明らかである。このようにして、流体の流量は、熱交換器100内の流路全体に沿って、熱交換器100内の流体抵抗及び熱抵抗を変更することによって必要に応じて増減される。なお、ここに示した熱交換器200に関連する説明は、例示的なものであり、上述した熱交換器の何れにも、及び熱源99における幾つの数のホットスポット/ウォームスポットにも同様に適用可能である。
圧力−温度の関係に関連して上述したように、単相流と二相流の間で遷移するフローは、流体の沸騰によって発生する圧力降下のために温度が低下する。このため、熱交換器200は、接触層ホットスポット領域Aに二相流を流し、同時に、接触層ウォームスポット領域Bに単相流を流すことにより、熱源99全体の温度を均一にすることができる。本発明に基づく熱交換器200は、接触層ホットスポット領域Aに、加圧された流体を低い流量で流すことによって、及び接触層ウォームスポット領域Bに、同じ圧力でより高い流量の流体を流すことによってこの効果を実現する。この具体例では、熱交換器200は、接触層ホットスポット領域Aに20ミリリットル/分の流量で、1psiで流体を流し、この流体は、二相流の特性を有する。同時に、熱交換器200は、接触層ウォームスポット領域Bに40ミリリットル/分の流量で、1psiで流体を流し、この流体は、単相流の特性を有する。
流体抵抗に関連して上述した設計及び手法の何れかを用いることによって、流体の流量を制御することができる。例えば、接触層102内の熱輸送構造体は、接触層102に沿って流量を制御することによって異なる流量をサポートする。更に、これに代えて、フィンガ、チャネル及び/又はアパーチャの構成を最適化することによって流体の流量を制御してもよい。これに代えて、流体に対する熱抵抗の制御に関連して上述した手法及び設計の何れかを用いて、流体へのより効果的な熱輸送を実現するように熱交換器100を構成してもよい。これに代えて熱交換器100を1つ以上のポンプに連結し、複数のポンプ32’が、熱交換器100内で異なる動作条件を有する独立したループに流体を循環させるようにしてもよい。また、同じ原理を熱交換器100に適用し、流体の流量を一定に保ち、必要な流路の圧力を変更又は制御することによっても同様の効果を得ることができる。
本発明の構成及び動作原理を明瞭に説明するために、様々な詳細を含む特定の実施例を用いて本発明を説明した。このような特定の実施例の説明及びその詳細は、特許請求の範囲を制限するものではない。本発明の主旨及び範囲から逸脱することなく、例示的に選択された実施例を変更できることは、当業者にとって明らかである。
複数のホットスポットを有する熱源の斜視図である。 均一に加熱された熱源の温度−位置の関係を示すグラフ図である。 本発明に基づくマイクロチャネル熱交換器が組み込まれた循環冷却装置の構成を示す図である。 本発明に基づく多連ポンプを有するマイクロチャネル熱交換器が組み込まれた循環冷却装置の構成を示す図である。 複数のマイクロチャネルが配設された接触層の斜視図である。 異なる寸法を有する複数の異なる熱輸送構造体が配設された接触層の斜視図である。 密度が異なる複数のマイクロピラーが配設された接触層の斜視図である。 複数のマイクロピラー及びフィンが配設された接触層の斜視図である。 図4Aは、熱源に連結された、本発明に基づく熱交換器の一実施形態の分解図である。 熱源に連結され、可変のフィンガを有する本発明に基づく熱交換器の一実施形態の平面図である。 本発明に基づく熱交換器の変形例の一部切欠透視図である。 本発明に基づく熱交換器の他の実施形態の分解図である。 本発明に基づく熱交換器の他の実施形態の斜視図である。 熱源に連結され、可変のフィンガを有する本発明に基づく熱交換器の一実施形態の平面図である。 1つのポンプによって、本発明に基づく熱交換器を循環する流体に対する熱抵抗を概略的に示す図である。 複数のポンプによって、本発明に基づく熱交換器を循環する流体に対する熱抵抗を概略的に示す図である。 本発明に基づく、カットアウェイ構造を有するマイクロチャネル及びマイクロピラーの斜視図である。 熱交換器を循環する流体の圧力対流量のグラフ図である。

Claims (123)

  1. 実質的に平面に揃えられている熱交換器の熱交換面に接触する熱源の温度を制御する熱源温度制御方法において、
    a.第1の温度の流体を上記熱交換面に流し、該第1の温度の流体が該熱交換面に沿って、上記熱源と熱交換を行う工程と、
    b.上記熱交換面から第2の温度の流体を流し、該第2の温度の流体が熱源に沿って、温度差を最小化する工程とを有する熱源温度制御方法。
  2. 上記流体は、単相流状態にあることを特徴とする請求項1記載の熱源温度制御方法。
  3. 上記流体は、二相流状態にあることを特徴とする請求項1記載の熱源温度制御方法。
  4. 上記流体の少なくとも一部は、上記熱交換器において、単層流状態と二相流状態の間で遷移することを特徴とする請求項1記載の熱源温度制御方法。
  5. 上記第1の温度の流体及び第2の温度の流体は、上記平面に対して実質的に垂直に流されることを特徴とする請求項1記載の熱源温度制御方法。
  6. 上記流体に所望の流体抵抗を加えて、該流体を所望の温度に制御するように構成された少なくとも1つの流路に沿って該流体を流す工程を更に有する請求項1記載の熱源温度制御方法。
  7. 上記流体は、1つ以上の流路に沿って流され、該各流路は、フロー長寸法及び流体接触寸法を有していることを特徴とする請求項6記載の熱源温度制御方法。
  8. 上記流路の流体接触寸法は、フロー長寸法に対して変化することを特徴とする請求項7記載の熱源温度制御方法。
  9. 上記流体接触寸法は、上記熱交換器における1又は複数の動作条件に対応して調整可能に適応化され、該調整可能な流体接触寸法は、流体抵抗を制御するように調整されることを特徴とする請求項8記載の熱源温度制御方法。
  10. 上記流路に沿った所定の位置における所望の特徴を検出する検出器を接続する工程を更に有する請求項7記載の熱源温度制御方法。
  11. a.上記流体の第1の部分を上記熱交換面の第1の所望の領域に沿う第1の循環流路に流す工程と、
    b.上記流体の第2の部分を上記熱交換面の第2の所望の領域に沿う第2の循環流路に流す工程とを有し、
    上記第1の循環流路は、上記第2の循環流路から独立し、上記熱源における温度差を最小化することを特徴とする請求項1記載の熱源温度制御方法。
  12. 上記熱交換面の1つ以上の選択された領域を所望の熱伝導率に適応化し、局所的な熱抵抗を制御する工程を更に有する請求項7記載の熱源温度制御方法。
  13. 上記熱交換面に複数の熱輸送構造体を配設する工程を有し、上記熱は、上記流体及び該複数の熱輸送構造体の間で輸送されることを特徴とする請求項7記載の熱源温度制御方法。
  14. 上記熱交換面の少なくとも一部を所望の粗さに粗くし、上記流体及び熱抵抗の少なくとも1つのを制御する工程を更に有する請求項7記載の熱源温度制御方法。
  15. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、ピラーを含むことを特徴とする請求項13記載の熱源温度制御方法。
  16. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、マイクロチャネルを含むことを特徴とする請求項13記載の熱源温度制御方法。
  17. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、微孔構造を含むことを特徴とする請求項13記載の熱源温度制御方法。
  18. 上記ピラーの少なくとも1つは、(10ミクロン)以上(100ミクロン)以下の範囲内の面積寸法を有することを特徴とする請求項15記載の熱源温度制御方法。
  19. 上記ピラーの少なくとも1つは、50ミクロン以上2ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項15記載の熱源温度制御方法。
  20. 上記ピラーの少なくとも2つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の間隔寸法で互いに離間されていることを特徴とする請求項15記載の熱源温度制御方法。
  21. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、(10ミクロン)以上(100ミクロン)以下の範囲内の面積寸法を有することを特徴とする請求項16記載の熱源温度制御方法。
  22. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、50ミクロン以上2ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項16記載の熱源温度制御方法。
  23. 上記マイクロチャネルの少なくとも2つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の間隔寸法で互いに離間されていることを特徴とする請求項16記載の熱源温度制御方法。
  24. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の幅寸法を有することを特徴とする請求項16記載の熱源温度制御方法。
  25. 上記微孔構造は、50パーセント以上80パーセント以下の範囲内の多孔度を有することを特徴とする請求項17記載の熱源温度制御方法。
  26. 上記微孔構造は、10ミクロン以上200ミクロン以下の範囲内の平均孔寸法を有することを特徴とする請求項17記載の熱源温度制御方法。
  27. 上記微孔構造は、0.25ミリメートル以上2.00ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項17記載の熱源温度制御方法。
  28. 単位面積あたり所望の数の上記熱輸送構造体が配設され、流体抵抗が制御されることを特徴とする請求項13記載の熱源温度制御方法。
  29. 上記流体抵抗は、上記微孔構造における適切な孔寸法及び適切な孔−体積率を選択することによって最適化されることを特徴とする請求項28記載の熱源温度制御方法。
  30. 上記流体抵抗は、単位面積あたりのピラーの数及び適切なピラー−体積率を選択することによって最適化されることを特徴とする請求項28記載の熱源温度制御方法。
  31. 上記流体抵抗は、少なくとも1つの上記マイクロチャネルの適切な水力半径を選択することによって最適化されることを特徴とする請求項28記載の熱源温度制御方法。
  32. 上記流体抵抗は、上記微孔構造の適切な多孔度を選択することによって最適化されることを特徴とする請求項17記載の熱源温度制御方法。
  33. 上記流体抵抗は、少なくとも2つの上記ピラー間の適切な間隔寸法を選択することによって最適化されることを特徴とする請求項15記載の熱源温度制御方法。
  34. 上記熱輸送構造体の長さ寸法を最適化して、上記流体への流体抵抗を制御する工程を更に有する請求項13記載の熱源温度制御方法。
  35. 上記熱輸送構造体の少なくとも一部の少なくとも1つの寸法を最適化して、上記流体への流体抵抗を制御する工程を更に有する請求項13記載の熱源温度制御方法。
  36. 上記2つ以上の熱輸送構造体間の距離を最適化して、上記流体への流体抵抗を制御する工程を更に有する請求項13記載の熱源温度制御方法
  37. 上記少なくとも1つの熱輸送構造体の少なくとも一部にコーティングを施し、熱抵抗及び流体抵抗の少なくとも1つのを制御する工程を更に有する請求項13記載の熱源温度制御方法。
  38. 上記少なくとも1つの熱輸送構造体の表面積を最適化して、上記流体への流体抵抗を制御する工程を更に有する請求項13記載の熱源温度制御方法。
  39. 上記流路に沿って、少なくとも1つのが上記流体抵抗を制御する少なくとも1つのフロー規制要素を配設する工程を更に有する請求項13記載の熱源温度制御方法。
  40. 上記流路に沿う所定の位置における上記流体の圧力を調整し、該流体の一時的な温度を制御する工程を更に有する請求項7記載の熱源温度制御方法。
  41. 上記流路に沿う所定の位置における上記流体の流量を調整し、該流体の一時的な温度を制御する工程を更に有する請求項7記載の熱源温度制御方法。
  42. 熱源の温度を制御する熱交換器において、
    a.第1の平面に揃えられ、上記熱源に実質的に接触し、流体と熱交換を行うように構成された第1の層と、
    b.上記第1の層に連結され、該第1の層に流体を流し、及び該第1の層から流体を受け取る第2の層とを備え、
    上記熱源に沿って、温度差を最小化する熱交換器。
  43. 上記第2の層は、
    a.上記第1の平面に実質的に垂直な複数のインレット流路と、
    b.上記第1の平面に実質的に垂直な複数のアウトレット流路とを備え、
    上記インレット及びアウトレット流路は、互いに平行に構成されることを特徴とする請求項42記載の熱交換器。
  44. 上記第2の層は、
    a.上記第1の平面に実質的に垂直な複数のインレット流路と、
    b.上記第1の平面に実質的に垂直な複数のアウトレット流路とを備え、
    上記インレット及びアウトレット流路は、互いに非平行に構成されることを特徴とする請求項42記載の熱交換器。
  45. 上記第2の層は、
    a.第1の層に流体を流す少なくとも1つの第1のポートを有する第1の層と、
    b.少なくとも1つの第2のポートを有する第2の層とを備え、
    上記第2の層は、第1の層から第2のポートに流体を流し、上記第1の層の流体は、上記第2の層の流体から独立して流れることを特徴とする請求項42記載の熱交換器。
  46. 上記流体は、単相流状態にあることを特徴とする請求項42記載の熱交換器。
  47. 上記流体は、二相流状態にあることを特徴とする請求項42記載の熱交換器。
  48. 上記流体の少なくとも一部は、当該熱交換器において、単層流状態と二相流状態の間で遷移することを特徴とする請求項42記載の熱交換器。
  49. 上記流体に所望の流体抵抗を加えて、該流体を所望の温度に制御するように適応化された少なくとも1つの流路を更に備える請求項42記載の熱交換器。
  50. 上記少なくとも1つの流路は、上記第1の層に配設されていることを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  51. 上記少なくとも1つの流路は、上記第2の層に配設されていることを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  52. 上記少なくとも1つの流路は、上記第1の層と上記第2の層の間に設けられた第3の層に配設されていることを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  53. 上記流路は、フロー長寸法及び流体接触寸法を有することを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  54. 上記流体接触寸法は、所望の位置において、フロー長寸法に対して変化し、流体への流体抵抗が制御されることを特徴とする請求項53記載の熱交換器。
  55. 上記流路の壁に連結され、1又は複数の動作条件に応じて、流体抵抗を可変に制御するよう調整される少なくとも1つの拡張可能バルブを更に備える請求項49記載の熱交換器。
  56. 上記流路に沿う所定の位置に配設され、上記熱源の温度に関する情報を提供する1つ以上のセンサを更に備える請求項49記載の熱交換器。
  57. 上記流路の一部は、上記第1の層に沿う第1の循環流路に向けられ、該第1の循環流路内の流体は、該第1の層の第2の循環流路内の流体とは独立して流れることを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  58. 上記第1の層の1つ以上の選択された領域は、所望の熱伝導率を有し、上記流体への熱抵抗を制御することを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  59. 上記第1の層は、複数の熱輸送構造体を備えることを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  60. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、ピラーを含むことを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  61. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、マイクロチャネルを含むことを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  62. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、微孔構造を含むことを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  63. 上記ピラーの少なくとも1つは、(10ミクロン)以上(100ミクロン)以下の範囲内の面積寸法を有することを特徴とする請求項60記載の熱交換器。
  64. 上記ピラーの少なくとも1つは、50ミクロン以上2ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項60記載の熱交換器。
  65. 上記ピラーの少なくとも2つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の間隔寸法で互いに離間されていることを特徴とする請求項60記載の熱交換器。
  66. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、(10ミクロン)以上(100ミクロン)以下の範囲内の面積寸法を有することを特徴とする請求項61記載の熱交換器。
  67. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、50ミクロン以上2ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項61記載の熱交換器。
  68. 上記マイクロチャネルの少なくとも2つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の間隔寸法で互いに離間されていることを特徴とする請求項61記載の熱交換器。
  69. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の幅寸法を有することを特徴とする請求項61記載の熱交換器。
  70. 上記微孔構造は、50パーセント以上80パーセント以下の範囲内の多孔度を有することを特徴とする請求項62記載の熱交換器。
  71. 上記微孔構造は、10ミクロン以上200ミクロン以下の範囲内の平均孔寸法を有することを特徴とする請求項62記載の熱交換器。
  72. 上記微孔構造は、0.25ミリメートル以上2.00ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項62記載の熱交換器。
  73. 上記第1の層の少なくとも一部は、所望の粗さを有し、流体抵抗を制御することを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  74. 単位面積あたり所望の数の上記熱輸送構造体が配設され、流体抵抗が制御されることを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  75. 上記熱輸送構造体の長さ寸法は、上記流体への流体抵抗を制御するように構成されていることを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  76. 上記熱輸送構造体の高さ寸法は、上記流体への流体抵抗を制御するように構成されていることを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  77. 上記1又は複数の熱輸送構造体は、隣接する熱輸送構造体から適切な距離に配設され、上記流体への流体抵抗を制御することを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  78. 上記少なくとも1つの熱輸送構造体の少なくとも一部は、上記流体への熱抵抗を制御するコーティングを有することを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  79. 上記少なくとも1つの熱輸送構造体は、上記流体への流体抵抗を制御する適切な表面積を有することを特徴とする請求項59記載の熱交換器。
  80. 上記流路は、上記流路に拡張し、上記流体への流体抵抗を制御する少なくとも1つのフロー規制要素を備えることを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  81. 上記流路は、所定の位置で流体の圧力を調整し、上記流体の温度を制御することを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  82. 上記流路は、所望の位置で流体の圧力を調整し、上記流体の一時的な温度を制御することを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  83. 上記流路は、上記流体の少なくとも一部の流量を調整し、上記流体の温度を制御することを特徴とする請求項49記載の熱交換器。
  84. 熱源の温度を制御する封水循環システムにおいて、
    a.上記熱源における温度差を最小化するように構成され、上記熱源の温度を制御する少なくとも1つの熱交換器と、
    b.上記熱交換器の少なくとも1つのに連結され、当該封水循環システム内に流体を循環させる少なくとも1つのポンプと、
    c.上記少なくとも1つのポンプ及び少なくとも1つの熱交換器に連結された少なくとも1つの除熱器とを備える封水循環システム
  85. 上記少なくとも1つの熱交換器は、
    a.第1の平面に沿って構成され、上記熱源に実質的に接触し、少なくとも1つの熱交換流路に沿って流体を流すように構成された接触層と、
    b.少なくとも1つのインレット流路に沿ってインレット流体を供給し、少なくとも1つのアウトレット流路に沿ってアウトレット流体を取り除くマニホルド層とを備えることを特徴とする請求項84記載の封水循環システム。
  86. 上記マニホルド層は、
    a.上記インレット流路に接続され、第1の平面に実質的に垂直に構成された複数のインレットフィンガと、
    b.上記アウトレット流路に接続され、上記第1の平面に実質的に垂直に構成された複数のアウトレットフィンガとを備え、
    上記インレット及びアウトレットフィンガは、互いに平行に構成されていることを特徴とする請求項85記載の封水循環システム。
  87. 上記マニホルド層は、
    a.上記インレット流路に接続され、第1の平面に実質的に垂直に構成された複数のインレットフィンガと、
    上記インレット及びアウトレットフィンガは、互いに非平行に構成されていることを特徴とする請求項85記載の封水循環システム。
  88. 上記マニホルド層は、
    a.互いに最適な距離に配設された複数の流路を有する第1の層と、
    b.上記アウトレット流路から上記第2のポートに流体を流すように構成された第2の層とを有し、
    上記第1の層の流体は、上記第2の層を流体から独立して流れることを特徴とする請求項85記載の封水循環システム。
  89. 上記流体は、単相流状態にあることを特徴とする請求項84記載の封水循環システム。
  90. 上記流体は、二相流状態にあることを特徴とする請求項84記載の封水循環システム。
  91. 上記流体の少なくとも一部は、上記熱交換器において、単層流状態と二相流状態の間で遷移することを特徴とする請求項84記載の封水循環システム。
  92. 上記熱交換器は、該熱交換器内の所望の位置において、上記流体に所望の流体抵抗を加えて、該流体の流量を制御することを特徴とする請求項85記載の封水循環システム。
  93. 上記インレット流路及びアウトレット流路は、それぞれフロー長寸法及び流体接触寸法を有することを特徴とする請求項92記載の封水循環システム。
  94. 上記流体接触寸法は、上記フロー長寸法に対して変化し、流体への流体抵抗が制御されることを特徴とする請求項93記載の封水循環システム。
  95. 上記熱交換器内の壁に沿って連結され、1又は複数の動作条件に応じて、上記流体への流体抵抗を可変に制御するように調整される少なくとも1つの拡張可能バルブを更に備える請求項92記載の封水循環システム。
  96. 上記熱交換器の所定の位置に配設され、上記熱源の冷却に関する情報を提供する1つ以上のセンサを更に備える請求項84記載の封水循環システム。
  97. 上記流路の一部は、上記第1の層に沿う第1の循環流路に向けられ、該第1の循環流路内の流体は、上記接触層の第2の循環流路内の流体とは独立して流れることを特徴とする請求項85記載の封水循環システム。
  98. 上記接触層の1つ以上の選択された領域は、上記流体への熱抵抗を制御する所望の熱伝導率を有することを特徴とする請求項92記載の封水循環システム。
  99. 上記接触層は、複数の熱輸送構造体を備えることを特徴とする請求項92記載の封水循環システム。
  100. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、ピラーを含むことを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  101. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、マイクロチャネルを含むことを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  102. 上記熱輸送構造体の少なくとも1つは、微孔構造を含むことを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  103. 上記ピラーの少なくとも1つは、(10ミクロン)以上(100ミクロン)以下の範囲内の面積寸法を有することを特徴とする請求項100記載の封水循環システム。
  104. 上記ピラーの少なくとも1つは、50ミクロン以上2ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項100記載の封水循環システム。
  105. 上記ピラーの少なくとも2つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の間隔寸法で互いに離間されていることを特徴とする請求項100記載の封水循環システム。
  106. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、(10ミクロン)以上(100ミクロン)以下の範囲内の面積寸法を有することを特徴とする請求項101記載の封水循環システム。
  107. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、50ミクロン以上2ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項101記載の封水循環システム。
  108. 上記マイクロチャネルの少なくとも2つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の間隔寸法で互いに離間されていることを特徴とする請求項101記載の封水循環システム。
  109. 上記マイクロチャネルの少なくとも1つは、10ミクロン以上150ミクロン以下の範囲内の幅寸法を有することを特徴とする請求項101記載の封水循環システム。
  110. 上記微孔構造は、50パーセント以上80パーセント以下の範囲内の多孔度を有することを特徴とする請求項102記載の封水循環システム。
  111. 上記微孔構造は、10ミクロン以上200ミクロン以下の範囲内の平均孔寸法を有することを特徴とする請求項102記載の封水循環システム。
  112. 上記微孔構造は、0.25ミリメートル以上2.00ミリメートル以下の範囲内の高さ寸法を有することを特徴とする請求項102記載の封水循環システム。
  113. 上記接触層の少なくとも一部は、所望の粗さを有し、流体抵抗を制御することを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  114. 単位面積あたり所望の数の上記熱輸送構造体が配設され、流体抵抗が制御されることを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  115. 上記熱輸送構造体の長さ寸法は、上記流体への流体抵抗を制御するように構成されていることを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  116. 上記熱輸送構造体の高さ寸法は、上記流体への流体抵抗を制御するように構成されていることを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  117. 上記1又は複数の熱輸送構造体は、隣接する熱輸送構造体から適切な距離に配設され、上記流体への流体抵抗を制御することを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  118. 上記少なくとも1つの熱輸送構造体の少なくとも一部は、上記流体への熱抵抗を制御するコーティングを有することを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  119. 上記少なくとも1つの熱輸送構造体は、上記流体への流体抵抗を制御する適切な表面積を有することを特徴とする請求項99記載の封水循環システム。
  120. 上記少なくとも1つの流路は、上記流路に拡張し、上記流体への流体抵抗を制御する少なくとも1つのフロー規制要素を備えることを特徴とする請求項92記載の封水循環システム。
  121. 上記インレット及びアウトレット流路の少なくとも1つは、流路に沿う所定の位置に沿って上記流体の圧力を調整し、該流体の温度を制御することを特徴とする請求項92記載の封水循環システム。
  122. 上記インレット及びアウトレット流路の少なくとも1つは、所望の位置で上記流体の圧力を調整し、該流体の温度を制御することを特徴とする請求項92記載の封水循環システム。
  123. 上記インレット及びアウトレット流路の少なくとも1つは、上記流体の少なくとも一部の流量を調整し、該流体の温度を制御することを特徴とする請求項92記載の封水循環システム。
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