JP2006511959A - 消耗品の寿命を判断する方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガス注入システムを備えるプラズマ処理装置であって、前記ガス注入システムは、ガス注入アセンブリボディと、前記ガス注入アセンブリボディに結合された消耗できるガス注入プレートと、前記ガス注入システムボディと前記消耗できるガス注入プレートにとよって形成されたガス注入プレナムに結合された圧力センサとを備える。前記ガス注入システムは、少なくとも1つのマスフローコントローラからプロセスガスを受取り、前記プロセスガスを、前記プラズマ処理装置内の処理領域に供給するように構成されており、前記圧力センサは、前記ガス注入プレナム内のガス注入圧力を測定するように構成されている。
Description
この出願は、2002年12月20日に出願された米国特許仮出願第60/434,657号に対して優先権を主張し、かつ前記出願に関連する。それらの出願の内容は参照してここに組み込まれる。
Claims (28)
- 少なくとも1つのマスフローコントローラからプロセスガスを受取るように構成されたガス注入アセンブリボディと、
前記ガス注入アセンブリボディに結合され、前記プロセスガスをプラズマ処理装置に分配する少なくとも1つのオリフィスを備える消耗できるガス注入プレートと、
前記ガス注入アセンブリボディに結合され、かつ前記ガス注入アセンブリボディと前記消耗できるガス注入プレートとによって形成されたガス注入プレナム内のガス注入圧力を測定するように構成された圧力センサと、
前記圧力センサに接続され、かつ前記ガス注入圧力の変化から前記消耗できるガス注入プレートの状態を判断するように構成されたコントローラとを具備する、プラズマ処理装置のガス注入システム。 - 前記ガス注入アセンブリボディと、前記消耗できるガス注入プレートとの間に、ガス注入プレートをさらに具備する請求項1に記載のガス注入システム。
- 前記消耗できるガス注入プレートは、シリコン、カーボン、シリコンカーバイド、石英、アルミナ及び被覆された金属のうちの1つからできている請求項1に記載のガス注入システム。
- 前記ガス注入圧力の前記変化は、前記プラズマ処理装置の処理圧力の変化及び前記プロセスガスの質量流量の変化のうちの少なくとも1つによって生じる請求項1に記載のガス注入システム。
- 前記コントローラは、前記ガス注入圧力の変化に対する応答時間を判断し、前記応答時間を、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが非腐蝕状態に相当する場合に相当する第1のタイムトレースの第1の時間遅延と比較する請求項1に記載のガス注入システム。
- 前記コントローラは、前記ガス注入圧力の変化に対する応答時間を判断し、前記応答時間を、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが腐蝕状態に相当する場合の第2のタイムトレースの第2の時間遅延と比較する請求項1に記載のガス注入システム。
- 前記第2の時間遅延は、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが腐蝕状態に相当する場合に相当する時間遅延よりも短い請求項6に記載のガス注入システム。
- 前記消耗できるガス注入プレートの前記状態は、前記応答時間と前記第1の時間遅延の比較によって判断される請求項6に記載のガス注入システム。
- 前記消耗できるガス注入プレートの前記状態は、前記第2の時間遅延が、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが非腐蝕状態に相当する場合に相当する第1の時間遅延の25%から75%の範囲にあるときの部分的な腐蝕状態を含んでいる請求項6に記載のガス注入システム。
- 前記消耗できるガス注入プレートの前記状態は、前記第2の時間遅延が、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが腐蝕状態に相当する場合に相当する第1の時間遅延の25%より短いときの完全な腐蝕状態を含んでいる請求項6に記載のガス注入システム。
- プラズマ処理チャンバと、
前記プラズマ処理チャンバに結合され、少なくとも1つのマスフローコントローラからプロセスガスを受取るように構成されたガス注入アセンブリボディ、並びに前記ガス注入アセンブリボディに結合され、前記プロセスガスを前記プラズマ処理チャンバに分配する少なくとも1つのオリフィスを有する消耗できるガス注入プレートを備えるガス注入システムと、
前記ガス注入アセンブリボディに結合され、前記ガス注入アセンブリボディと前記消耗できるガス注入プレートとによって形成されたガス注入プレナム内のガス注入圧力を測定するように構成された圧力センサを備える診断装置と、
前記圧力センサに接続され、かつ前記ガス注入圧力の変化から前記消耗できるガス注入プレートの状態を判断するように構成されたコントローラとを具備するプラズマ処理装置。 - 前記ガス注入アセンブリボディと前記消耗できるガス注入プレートとの間に、ガス注入プレートをさらに具備する請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 前記消耗できるガス注入プレートは、シリコン、カーボン、シリコンカーバイド、石英及び被覆された金属のうちの1つからできている請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 前記ガス注入圧力の前記変化は、前記プラズマ処理チャンバの処理圧力の変化及び前記プロセスガスの質量流量の変化のうちの少なくとも1つによって生じる請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 前記コントローラは、前記ガス注入圧力の変化に対する応答時間を判断し、前記応答時間を、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが非腐蝕状態に相当する場合に相当する第1のタイムトレースの第1の時間遅延と比較する請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 前記コントローラは、前記ガス注入圧力の変化に対する応答時間を判断し、前記応答時間を、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが腐蝕状態に相当する場合の第2のタイムトレースの第2の時間遅延と比較する請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第2の時間遅延は、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが腐蝕状態に相当する場合に相当する時間遅延よりも短い請求項16に記載のプラズマ処理装置。
- 前記消耗できるガス注入プレートの前記状態は、前記応答時間と前記第1の時間遅延との比較によって判断される請求項16に記載のプラズマ処理装置。
- 前記消耗できるガス注入プレートの前記状態は、前記第2の時間遅延が、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが非腐蝕状態に相当する場合に相当する第1の時間遅延の25%から75%の範囲にあるときの部分的な腐蝕状態を含んでいる請求項16に記載のプラズマ処理装置。
- 前記消耗できるガス注入プレートの前記状態は、前記第2の時間遅延が、前記消耗できるガス注入プレートの前記少なくとも1つのオリフィスが非腐蝕状態に相当する場合に相当する第1の時間遅延の25%より短いときの完全な腐蝕状態を含んでいる請求項16に記載のプラズマ処理装置。
- プラズマ処理装置におけるガス注入システムの状態を判断する方法であって、
少なくとも1つのマスフローコントローラからプロセスガスを受取るように構成されたガス注入アセンブリボディと、前記ガス注入アセンブリボディに結合され、前記プロセスガスを前記プラズマ処理装置に分配する少なくとも1つのオリフィスを備える消耗できるガス注入プレートと、前記ガス注入システムに結合された圧力センサと、前記圧力センサに接続されたコントローラとを備えるガス注入システムのガス注入圧力の変化に影響を及ぼように、前記プラズマ処理装置のプロセスパラメータを変更することと、
前記ガス注入圧力の変化に相当し、前記消耗できるガス注入プレートが非腐蝕状態を示すときは第1の時間遅延に相当し、前記消耗できるガス注入プレートが腐蝕状態を示すときは第2の時間遅延に相当する応答時間を、前記圧力センサを用いて測定することと、
前記ガス注入システムの前記状態を判断するために、前記応答時間を前記第1の時間遅延と比較することとを含んでいる方法。 - 前記ガス注入アセンブリボディと前記消耗できるガス注入プレートとの間に、ガス注入プレートをさらに備えている請求項21に記載の方法。
- 前記消耗できるガス注入プレートは、シリコン、カーボン、シリコンカーバイド、石英、アルミナ及び被覆された金属のうちの1つからできている請求項21に記載の方法。
- 前記プロセスパラメータは、前記プラズマ処理装置の処理圧力及び前記プロセスガスの質量流量のうちの少なくとも1つを含んでいる請求項21に記載の方法。
- 前記第1の時間遅延は、前記第2の時間遅延よりも長い請求項21に記載の方法。
- 前記消耗できるガス注入プレートの前記状態は、前記応答時間と前記第1の時間遅延のフラクションとの比較によって判断される請求項21に記載の方法。
- 前記ガス注入システムの前記状態は、前記応答時間が、前記第1の時間遅延の25%から75%の範囲にあるときの部分的な腐蝕状態を含んでいる請求項21に記載のガス注入システム。
- 前記ガス注入システムの前記状態は、前記応答時間が、前記第1の時間遅延の25%よりも短いときの完全な腐蝕状態を含んでいる請求項21に記載のガス注入システム。
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