JP2020077885A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置を示す断面図である。
本実施形態に係る基板処理装置は、2枚の被処理基板に対して同時に所定の処理ガスを供給して所定の処理を行うものであり、処理ガスとしてエッチングガスを供給して被処理基板にエッチング処理を行う場合を例示する。エッチング処理としては、HFガスとNH3ガスを用いてシリコン酸化膜をエッチングする化学的酸化物除去(Chemical Oxide Removal;COR)処理を挙げることができる。
次に、このような基板処理装置における基板処理動作について説明する。
表面にエッチング対象膜、例えばシリコン酸化膜が形成された2枚のウエハWa、Wbをチャンバー10内の処理部11aおよび処理部11bに搬入し、それぞれ基板載置台61aおよび基板載置台61b上に載置する。そして、処理レシピに従って、圧力計測部15は、処理部11aの処理空間S1および処理部11bの処理空間S2のうち、一方の圧力をモニタする。
以上、この発明を一実施形態に従って説明したが、この発明は、上記一実施形態に限定されることはなく、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変形可能である。
11a,11b,111a,111b,111c;処理部
12a,12b,121a,121b,121c;ガス導入部材
14;排気機構
15,115;ガス計測部
16;制御部
61a,61b,161a,161b,161c;基板載置台
71a,71b;内壁
91a,91b;キャパシタンスマノメータ(圧力計)
92,171;圧力計測用配管ユニット
92a,92b,171a,171b,171c;圧力計測用配管
95,175,179;ダミー配管ユニット
95a,95b,175a,175b,175c,179a,179b,179c;ダミー配管
94a,94b,97a,97b,174a,174b,174c,178a,178b,178c,182a,182b,182c;バルブ
98a,99a,191;配管経路
98b,99b,192,193;ダミー配管経路
100,200;基板処理装置
S1,S2,S11,S12,S13;処理空間
Wa,Wb,Wc;半導体ウエハ
Claims (3)
- それぞれ被処理基板に対して基板処理を施す複数の処理部と、
前記各処理部において被処理基板を載置する複数の基板載置台と、
前記各処理部の処理空間にそれぞれ処理ガスを導入する複数のガス導入部材と、
前記複数の処理部の前記複数の処理空間を一括して排気し、かつ前記処理空間の圧力制御を一括して行う共通の排気機構と、
前記複数の処理空間のいずれかの圧力を共通の圧力計により選択的にモニタする圧力計測部と
を具備し、
前記圧力計測部は、複数の処理空間に連通する複数の圧力計測用配管と、前記複数の圧力計測用配管のうち前記共通の圧力計と連通する圧力計測用配管を切り替えるバルブとを有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記圧力計測用配管は、前記各処理部の前記ガス導入部材の上方からガス導入部材の中心に挿入されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記圧力計測用配管は、前記処理空間に連通する出口が同心円状に設けられていることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
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