JP2006504252A - レーザ用閉ループパージシステム - Google Patents
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Abstract
レーザ(20)の運転方法が開示されている。レーザ(20)の構成部品は、光学的部品や光学的部品の取り付け具や容器(42)そのものから放出される水蒸気や有機化合物蒸気を含む汚染物質が含まれている可能性のある容器(42)内に収納されている。この容器(42)内には浮遊微粒子状物質及びオゾンが含まれている可能性もある。このような汚染物質量を削減するために、パージシステム(26)は容器(42)からガスを吸引し、吸引したガスを、オゾンを分解するための触媒(88)、乾燥剤(78)、有機化合物蒸気吸収剤(82)、及び微粒子状物質フィルタ(84)に通し、その後、容器(42)に吸引したガスを戻す。レーザが発生する放射光の波長が270nm未満の場合、オゾンの分解は特に重要である。
Description
本発明は、一般にレーザの気密封止に関する。特に本発明は、超高速レーザ発振器または紫外線(UV)レーザ発振器を収納する容器内のオゾン、水蒸気、有機化合物蒸気、及び微粒子に対する用閉ループパージシステムに関する。
超高速レーザは、一般に数百フェムト秒またはそれ以下の継続時間を持ったパルスの光線を出力するレーザとみなされている。一般的な超高速レーザの1つは、チタンサファイアレーザで、これは約700ナノメータ(nm)と約1000nmとの間の波長の光線を出力するよう組み立てることができる。パルスはしばしば比較的低出力であり、例えば、数十ミリジュール(mJ)から数十ナノジュール(nJ)ほどの大きさである。継続時間が短いため、パルスは、例えば発振器の位置によっては立方センチメータ当たりギガワット(GW/cm2)のオーダの非常に高いピーク出力を持つ。
このようなレーザからの非常に高いピークの出力による損傷を避けるための対策がとられていない場合、レーザの光学的部品は急速に損傷を受ける。光学的部品のレーザによる損傷は部品の光学的表面に欠陥があると急激に増大する可能性がある。したがって、例えば、2乗平均(RMS)で約4オングストローム単位(Å)以下の原子の大きさでの表面滑らかさを生み出すいわゆる超研磨技術により超高速レーザの光学的部品が作られることも珍しくはない。このような超研磨された光学的部品の光学的コーティング、特に反射コーティングは、イオンビームスパッタリング(IBS)により蒸着される。IBSは、化学的完成度が高く非常に欠陥の少ないコーディングを行うことができるコーティングの蒸着方法である。これにより、コーティングにおける光の吸収と散乱を最小限にすることができる。しかし、超研磨され、IBSコーティングされた光学的部品は、普通の方法で研磨されコーティングされた同様の構成要素に比べ約5倍以上高価となってしまう。もし部品が微粒子や凝縮液や蒸気その他によりその後汚染されてしまうと、このような付加的なコストは無駄になってしまう。
レーザの光学的部品上に微粒子が付着するのを最小限にするためにクリーンルーム状態でレーザを組み立てることは、商業的なレーザ製造業者には珍しいことではない。このような場合、少なくともレーザの光学的な発振器部分は、少なくとも汚染微粒子の侵入を最小限に押さえるために、好ましくは、ガスや蒸気の形態での汚染物質の侵入を最小限にするために十分密閉された容器に収納されるのが普通であろう。このような容器は、密封する前に、フィルタを通した乾燥窒素や乾燥空気その他でパージしてもよい。
製造組み立ての過程で上述の対策を取ることにより、超高速レーザは、1つ以上の光学的部品のレーザによる損傷のため顕著にレーザの性能が劣化するまで、合計数千時間の運転ができるかもしれない。しかし、容器がたとえ完全に密封されたとしても、光学的部品や接着剤や容器そのものから放出される気体生成物による光学的部品の汚染が原因で光学的部品が損傷すると考えられている。気体生成物は、レーザの運転中及びレーザが運転されていないときにも発生することがある。
最も厄介な問題となる気体生成物は、容器の組み立てに用いられる接着剤や、エラストマーシールや他のプラスチック材のような材料から放出される有機化合物蒸気であると考えられる。水蒸気もまた、容器やその中の光学系の部品から放出されるかもしれない。水蒸気や有機化合物蒸気は直接光学的部品の表面に凝縮することがある。水蒸気と有機化合物蒸気は共に、または結合してレーザの運転中にレーザ光線に反応することができる。この反応による生成物もまた光学的部品の上に凝縮または蒸着することがある。このような反応生成物には、炭素分子や煤のような微粒子状の物質も含めることができる。このような反応生成物は、光学表面に凝縮または蒸着すると、光学表面がもろくなりレーザ光線により損傷を受ける。本発明の譲受人により譲り受けられ、本出願に参照のため示された2001年7月9日出願の出願09/901,2001にはレーザ発振器の光学的部品の汚染を最小限にするための1つの構成が開示されている。この構成では、パージシステムにより、容器からガスが吸引され、ガスは乾燥剤と有機化合物蒸気吸収剤と微粒子状物質フィルタとを通過し、そして、吸引されたガスは容器に戻される。この構成は、レーザ光線と容器内の汚染物質との反応により生成した生成物のみならず汚染物質そのものを除去するのに効果的であることがわかっている。例えば、レーザ発振器が紫外線のレーザ光線を発生させたとすると、レーザ光線と酸素または他の1以上の汚染物質との反応により生成する物質としてオゾンが発生することが知られている。オゾンの発生は、紫外線が270nm未満の波長を持つとき問題となり、波長が短いほど問題は厄介になる。発生したオゾンの濃度は、このパージシステムによって顕著に減少することはなく、発振器の部品の劣化と紫外線の吸収の原因となり結果として出力低下をもたらすことが分かっている。
本発明は、容器内の気体雰囲気中に収納された、レーザの光学的部品の汚染を最小限にする方法である。気体雰囲気中には、水蒸気や有機化合物蒸気や浮遊微粒子状物質を含む汚染物質が含まれる。これらの汚染物質は、容器内に部品を入れた直後の低レベルの、例えば百万分の何百以下のものもあるかもしれない。汚染物質の濃度は、レーザの運転中と運転中でないときの両方のときに増大することがある。紫外線を発生するレーザシステムにおいて、容器内の気体中には、1以上の汚染物質と紫外線との反応により生成されたオゾンが含まれる可能性がある。
本発明の1つの特徴によれば、この方法は、容器内の気体中からガスを吸引する段階が含まれる。吸引されたガスはオゾンを酸素に変える触媒を通り、吸引されたガス中の水蒸気を減少させるために選定した第1の媒体を通り、吸引されたガス中の有機化合物蒸気を減少させるために選定した第2の媒体を通り、吸引されたガス中の微粒子状物質を減少させるために選定したフィルタを通る。吸引されたガスが触媒と第1の媒体と第2の媒体とフィルタを通った後、このガスは容器に戻される。
容器内の気体に含まれる水蒸気と有機化合物蒸気と微粒子状物質とが、選定した媒体とフィルタに応じた最低濃度を維持するように、レーザの運転中、吸引と置換のサイクルを連続的に行うことが好ましい。
本発明の他の特徴によれば、270nm未満の波長の光線を発生するレーザの容器において、オゾンが発生すると、顕著な出力低下や、フィルタを通したり蒸気を吸収したり、あるいは、容器を不活性ガスでプレパージしたりすることだけでは十分緩和できない問題の原因となる可能性がある。したがって、このような容器では、本発明におけるオゾン除去は、レーザの効率的な運転のためと同様にレーザ部品の劣化の進行を止めるために重要である。
本発明の他の特徴によれば、この方法を実行する装置には、触媒と第1の媒体(乾燥剤)と第2の媒体(有機化合物蒸気を吸収する媒体)と微粒子状物質を捕捉するフィルタとを具備するガス処理装置が含まれる。この装置には、容器からガスを吸引し、吸引したガスをガス処理装置に送るポンプが含まれる。ガス処理装置では、空気がポンプにより触媒を通って吸引され、ポンプによって乾燥媒体と有機化合物蒸気吸収媒体とフィルタとに送り込まれ、続いて容器に戻される。
好ましい実施の形態において、この装置には、さらに第1のバルブと第2のバルブが含まれる。第1のバルブと第2のバルブは、乾燥ガスが容器に届かないようにしているあいだに、乾燥媒体を再生させるために、乾燥媒体中に乾燥ガスを循環させるように配置する。
レーザ発振器中の有機化合物蒸気を低濃度に維持することは、紫外線レーザ放射光を発生させるために組み立てられた超高速レーザまたはレーザ発振器である場合は、特に重要である。比較的高出力の紫外線レーザ放射光において、超高速レーザの場合のマルチフォトンプロセスでは、波長のより長い放射光の発生により、レーザ放射光と有機化合物蒸気またはその凝縮物との間で反応が起こる可能性が増大する。上述の通り、これらの反応生成物には微粒子状物質が含まれ、これらの反応生成物により、レーザの不安定な運転状態が導かれレーザ発振器における光学部品の損傷を増大する可能性がある。
発明の詳細な説明
図1を参照すると、レーザ20は、レーザ発振器22と光学的ポンピング光源24と本発明によるパージシステム26とを具備する。この例では、レーザ発振器22は、約1064ナノメータ(nm)の波長で基本放射光線を発生させる半導体増幅媒体28を有する半導体レーザ発振器である。発振器22は鏡30と鏡32との間に形成される。この波長で放射光を発生させるために好ましい増幅媒体は、ネオジウムドープYAG(Nd:YAG)及びネオジウムドープイットリウム四酸化バナジウム(Nd:YVO4)である。光源24は、本例では、波長が約808nmの光学的ポンピング放射を行うダイオードレーザアレイである。ポンピング光は光ファイバ束34を経由して伝達され、次いで、破線Pで示すように、レンズにより鏡30を通って増幅媒体28に集光される。
図1を参照すると、レーザ20は、レーザ発振器22と光学的ポンピング光源24と本発明によるパージシステム26とを具備する。この例では、レーザ発振器22は、約1064ナノメータ(nm)の波長で基本放射光線を発生させる半導体増幅媒体28を有する半導体レーザ発振器である。発振器22は鏡30と鏡32との間に形成される。この波長で放射光を発生させるために好ましい増幅媒体は、ネオジウムドープYAG(Nd:YAG)及びネオジウムドープイットリウム四酸化バナジウム(Nd:YVO4)である。光源24は、本例では、波長が約808nmの光学的ポンピング放射を行うダイオードレーザアレイである。ポンピング光は光ファイバ束34を経由して伝達され、次いで、破線Pで示すように、レンズにより鏡30を通って増幅媒体28に集光される。
基本放射光線は、矢印Fで示すように、発振器22内で循環する。基本放射光線は、送出がQスイッチ36により制御されるパルスの形で発振器から送出される。発振器により送出されたパルスは、光学的非線形結晶38により周波数が2倍になる。周波数が2倍になった放射光は2Fで示される。周波数が2倍になった放射光2Fは、もう1つの光学的非線形結晶40に導かれ、電磁スペクトルにおける紫外線領域の波長である約266nmの波長を持つ4倍周波数の放射光4Fが作られる。オゾンを発生する実際の(最長)波長の閾値は、長い波長と大きなパルス出力を持つパルス出力に依存すると考えられている。
レーザ発振器22と部品は、光学的非線形結晶38及び40と共に容器内に収納される。パージシステム26は、容器42から導管44を介してガス体(汚染ガスや蒸気や浮遊する微粒子を含む)を吸引し、吸引したガス体から汚染物質の除去処理を行い、導管46を介して処理済のガス体を容器42に戻す。汚染したガス体の処理方法については、以下に詳細を説明する。4倍周波数の放射光4Fは、窓48を通って容器から放射される。放射光の一部はビームスプリッタ49でサンプリングされ、レーザの出力を計測するために検出器51に導かれる。
レーザ20には、レーザ発振器の運転とパラメータの制御を行うための制御装置50と、ポンピング光源と、パージシステムとが含まれる。制御装置50は、電気接続52、54、及び56を介してパージシステム26の運転を制御する。制御装置は、電気接続58及び60を介してレーザ発振器22の運転とパラメータとを制御する。電気接続58により、パルス繰り返し率を制御するためにQスイッチ36と制御装置とが接続される。電気接続60により、出力を監視するために検出器51と制御装置とが接続される。電気接続62により、増幅媒体28に送出されるポンピング出力を制御し、最終的には検出器51からの信号と協同してレーザ20の出力を制御するために、制御装置と半導体レーザアレイ24とが接続される。パージシステムにも導管64、65、66、及び68が含まれる。導管66と68とは、パージシステムにおける乾燥剤モジュール(図1に示されていない)に接続される。
容器42の内部(ガス体)は、おおよそ周囲の大気圧に保持される。容器42中のガス体は一般に空気である。パージシステム26を接続し運転する前に、製造、組み立て及び部品の組み込みによる大量の汚染物質を除去するため、及び容器中の酸素を減少させるため、窒素のような不活性ガスで容器42をフラッシュする。導管64と65は、不活性ガスその他で容器42をパージするための通路として用意される。
この最初のフラッシュの後であっても、容器42のガス体にはあるレベルの汚染物質が含まれるが、そのレベルは小さい。上述の通り、微粒子状物質には、容器を閉じたときに存在していた微粒子状物質と、共振キャビティ22内で循環しているレーザ放射光と有機化合物蒸気との間の相互作用により発生した微粒子状物質とが含まれているであろう。紫外線放射を行うレーザ内では、紫外線とガス体中の酸素または炭化水素蒸気との相互作用によりオゾンが発生する可能性がある。
ここで図2を参照すると、本発明によるパージシステム26の好ましい実施の形態26Aには、ポンプ72とガス処理装置とが含まれる。ガス処理装置は、乾燥剤78を収納する容器76と、有機化合物蒸気を吸収する材料82を収納する容器80と、微粒子状物質を除去するフィルタユニット84とオゾンを酸素に変換する触媒を収納する容器86とを具備する。
乾燥剤78はシリカゲルが好ましいが、どんな乾燥剤でもよい。有機化合物蒸気吸収剤82は表面積の大きい、ココナッツの殻をベースにした活性炭が好ましい。この材料を含む有機化合物蒸気吸収剤は、カリフォルニア州パロアルトのAgilent Technologies, Inc.で種々のサイズのものが入手できる。他の適当な有機化合物蒸気吸収剤には、5Åのモレキュラシーブが含まれる。フィルタユニット84は、例えばHEPAフィルタのように、約0.5マイクロメータ(μm)以上の大きさの微粒子を吸収する能力があることが好ましい。適当なHEPAフィルタは、HEPAカプセル部品番号12144として、ミシガン州アンアーバーのGellman Sciences Inc.で入手できる。このフィルタは孔径が0.3μmでフィルタ効率が0.3μmのDOPエアロゾルに対して99.97%である。触媒88は酸化銀が好ましい。触媒は、2分子のオゾンを3分子の酸素へ変換する触媒作用を及ぼす。酸化マンガンも、この反応への触媒作用を及ぼす他の適切な触媒である。触媒は反応により消費されることはない。
ポンプ72は、導管44を介して容器42内の気体からガスを吸引する。ポンプは、吸引したガスを2方向バルブ91及び92を介して容器86内の触媒を通過させ、そこでオゾンを酸素に変換させる。パージシステムを通ってガスが循環する方向は、図2において矢印Aで示されている。ガスは、ポンプ72によって導管90と2方向バルブ94を介して容器76内の乾燥剤(媒体)78に送り込まれ、導管96を通り、もう1つの2方向バルブ98を通り、そして有機化合物蒸気吸収剤82を通過する。有機化合物蒸気吸収剤を通過した後、ガスはHEPAフィルタ84を通過して、ガスを容器42に戻す導管46に入る。上述の通り、乾燥剤78によりガス中の水蒸気が減少し、有機化合物蒸気吸収剤82によりガス中の有機化合物蒸気量が減少する。HEPAフィルタにより、ガス中の微粒子状物質量が減少する。この運転状態におけるバルブ91、92、94、及び98は、吸引ガスが導管64、66、及び68を介して逃げることを防止する。
パージシステム26Aの運転サイクルにおいて、容器からのガスの吸引と容器へのガスの返還とは、レーザ20が運転中はいつも連続的に行われていることが好ましい。パージシステムは、電気接続を介して制御装置50から送られた命令によるポンプの起動停止に従い、起動し停止する。パージシステム26Aを連続運転することによって、容器42のガス体中の、オゾン、水蒸気、有機化合物蒸気、及び微粒子状物質のガス体に対する含有量が、ガス処理装置の構成及び材料を満足する最低限の量に維持される。微粒子含有量または特定の種類の蒸気濃度の計測値に基づき、制御装置50により本発明のパージシステムが起動・停止するようにもできる。しかしこれは、対応するセンサを用意する必要があり、レーザまたはパージシステムのコストを上げる要因となる。
運転の後、レーザ20が置かれる周囲雰囲気またはレーザの運転条件によるが、乾燥剤78は水蒸気により飽和しているかもしれない。この場合は、乾燥剤78を除去するか又は以下に述べるように、乾燥空気又は乾燥窒素を通過させることにより再生することができる。
ポンプ72の運転を停止する。バルブ94は、ポンプ72からから吐き出された空気が乾燥剤に入るのを妨げ、乾燥したガスを導管66を通って乾燥剤に供給する位置に切り替えられる。バルブ98は、有機化合物蒸気吸収剤、HEPAフィルタ、及び導管64を通ってどんな乾燥ガスも容器42に来ないような位置に切り替えられる。この切り替え操作により、図3において矢印Dに示したように、乾燥ガスが導管66を通って乾燥剤に入り、乾燥剤を通り抜けて導管68を通ってパージシステムから出て行くことができる。乾燥剤が再生された後、バルブ94と98とは、容器42から吸引したガスをガス処理システムに送り、導管46を通って容器に戻すことができる位置に切り替えられる。バルブ94と98とを、制御装置50から電気接続52と54を介して伝達された命令に従い動作させてもよい。
運転中容器42内のオゾン含有量をさらに減少させるために、窒素のような不活性ガスで容器42内をあらかじめパージしておくことは有効であろう。これは、窒素供給源を導管65に繋ぎ、ポンプ及びバルブ91、92、94、及び98を窒素ガスがガス処理装置と容器42を通って流れ、容器内の元のガス体を導管64を介して追い出すように運転することで達成できる。バルブ91と92とは、パージシステム26Aにおいてこの処理のために手動で操作される。しかし、制御装置50からこれらのバルブを操作するようにすることもできる。
本発明によるパージシステムの他の好ましい実施の形態26Bは、図3に描かれている。パージシステム26Bは、乾燥剤78と有機化合物蒸気吸収剤82とが1つの容器100に収納されている点を除いて図3のパージシステム26Aと類似している。浸透性のある薄膜又は隔壁102により乾燥剤は有機化合物蒸気吸収剤から隔てられている。このような乾燥剤と有機化合物蒸気吸収剤とを組み合わせたものは、部品番号27068としてオハイオ州ゼニアのHammond Drierite Company Ltdで入手できる。
本発明の方法と装置において、蒸気の吸収及び削減の順序は特に重要であることが強調される。もし水蒸気の吸収が有機化合物蒸気の吸収の前になされなければ、有機化合物蒸気の削減効率の顕著な低下をもたらすであろう。水蒸気吸収剤と有機化合物蒸気吸収剤とは微粒子状物質を生じさせる可能性があるので、微粒子状物質の濾過は水蒸気の除去と有機化合物蒸気の除去に引き続いて行うことが重要である。また、吸引ガス中のオゾンを酸素に返還することは、吸引ガスがポンプを通過する前に行うことも重要である。このことで、オゾンによるポンプの腐食の可能性が最小限に抑えられる。
上述のレーザ20の説明では、レーザ発振器22と制御装置50とパージシステム26は別々のものとして記載されている。本発明はこのような構成に限定して解釈されるものではない。例えば、パージシステム26の大きさはレーザ発振器より小さくすることができるので、パージシステムとレーザ発振器とを組み合わせて1つのものにしても又は1つの容器に収納してもよい。あるいは、パージシステムを制御装置と組み合わせて1つの容器に収納してもよい。もう1つの構成として、パージシステム26は制御装置50とは別の専用制御装置を組み込んだ単独のモジュールとして構成してもよい。本発明に属する分野の当業者であれば、本発明の思想と技術範囲を逸脱することなしに、パージシステムやレーザ発振器や1以上の制御装置について他の構成を工夫することができるかもしれない。
本発明のパージシステムについて、パルスを用いた3倍周波数の半導体レーザを参照して上記説明を行った。このことにより、本発明を限定して解釈すべきでない。本発明のパージシステムは、半導体超高速レーザや増幅媒体として色素又は半導体を有する超高速レーザのようなレーザに適用することもできる。上述の通り、高出力で継続時間の短い超高速レーザにより、超高速レーザの放射光がレーザ発振キャビティのガス体中に見られる有機汚染物質と反応を起こす可能性が増大することがある。上述の通り、本発明に係るパージシステムは、高出力の紫外線放射光がレーザ発振器の有機汚染物質と反応を起こす可能性が高い紫外線レーザに特に有効である。コストが許せば、レーザの光学部品の寿命を延ばすこと又は運転の信頼性を上げることを目的として、他のレーザに本発明に係るパージシステムを用いることが有効であることが分かるであろう。
好ましい実施形態及び他の実施形態の観点から本発明を以上のように説明した。しかしながら、本発明は本明細書に記述及び図示された実施形態に限定されるものではない。本発明は、添付の特許請求の範囲のみにより限定される。
Claims (28)
- レーザの光学的部品の汚染を最小限にする方法であって、当該部品は容器内の気体雰囲気中に収納され、当該気体雰囲気中には、水蒸気、有機化合物蒸気、オゾン、及び浮遊微粒子状物質を含む汚染物質が含まれ、当該方法は、
(a)前記容器内の気体雰囲気中からガスを吸引するステップと、
(b)前記吸引したガスを、オゾンを酸素に変換させるために触媒に通すステップと、
(c)ステップ(b)に続いて、前記吸引したガスを、水蒸気量を削減するために選定した第1の媒体に通すステップと、
(d)ステップ(c)に続いて、前記吸引したガスを、有機化合物蒸気量を削減するために選定した第2の媒体に通すステップと、
(e)ステップ(d)に続いて、前記吸引したガスを、微粒子状物質量を削減するために選定したフィルタに通すステップと、
(f)ステップ(e)に続いて、前記吸引したガスを、前記容器に戻すステップと、
を具備する方法。 - 前記触媒は酸化銀である、請求項1に記載の方法。
- 前記触媒は酸化マンガンである、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の媒体はシリカゲルである、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の媒体は活性炭である、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の媒体はモレキュラシーブである、請求項1に記載の方法。
- 前記フィルタはHEPAフィルタである、請求項1に記載の方法。
- レーザであって、
容器と、
前記容器内の気体雰囲気中に収納された複数の光学的部品と、
オゾンを酸素に変換するための触媒と、乾燥剤と、有機化合物蒸気を吸収する媒体と、微粒子状物質を捕捉するフィルタとを具備するガス処理装置であって、流体が前記容器と連通しているガス処理装置と、
前記容器からガスを吸引し、前記吸引したガスが前記触媒、前記乾燥剤、前記有機化合物吸収媒体、及び前記フィルタを、この順番で通過するように構成されたガス処理装置に、前記吸引したガスを送り込むように構成されたポンプと、
を具備するレーザ。 - 前記触媒は酸化銀である、請求項8に記載のレーザ。
- 前記触媒は酸化マンガンである、請求項8に記載のレーザ。
- 前記乾燥剤はシリカゲルである、請求項8に記載のレーザ。
- 前記有機化合物吸収媒体は活性炭である、請求項8に記載のレーザ。
- 前記有機化合物吸収媒体はモレキュラシーブである、請求項8に記載のレーザ。
- 前記フィルタはHEPAフィルタである、請求項8に記載のレーザ。
- さらに、乾燥ガスが前記容器内に入らないようにしている間に乾燥剤を再生させるために、前記乾燥ガスが前記乾燥剤を通過することができるように配置された1対の導管と1対のバルブを具備する、請求項8に記載のレーザ。
- レーザを清浄にするためのパージ装置であって、前記レーザには容器内の気体雰囲気中に収納された複数の光学的部品が含まれ、前記パージ装置は、
オゾンを酸素に変換するための触媒と、乾燥剤と、有機化合物蒸気を吸収する媒体と、微粒子状物質を捕捉するフィルタとを具備するガス処理装置と、
前記容器からガスを吸引し、前記吸引したガスが前記触媒、前記乾燥剤、前記有機化合物吸収媒体、及び前記フィルタを、この順番で通過するように構成されたガス処理装置に、前記吸引したガスを送り込むように構成されたポンプと、
を具備するパージ装置。 - 前記ポンプは、前記吸引したガスが前記触媒を通過した後前記ポンプを通り、その後、前記乾燥剤、前記有機化合物吸収媒体、及び前記フィルタを通過するように構成されている、請求項16に記載の装置。
- 前記触媒は酸化銀である、請求項16に記載の装置。
- 前記触媒は酸化マンガンである、請求項16に記載の装置。
- 前記乾燥剤はシリカゲルである、請求項16に記載の装置。
- 前記有機化合物吸収媒体は活性炭である、請求項16に記載の装置。
- 前記有機化合物吸収媒体はモレキュラシーブである、請求項16に記載の装置。
- 前記フィルタはHEPAフィルタである、請求項16に記載の装置。
- さらに第1のバルブと第2のバルブを具備し、前記第1のバルブと第2のバルブは、乾燥ガスが前記容器内に入らないようにしている間に乾燥剤を再生させるために、前記乾燥ガスが前記乾燥剤中を循環するように構成されている、請求項16に記載の装置。
- 容器内の気体雰囲気中に収納されたレーザであって、当該レーザは270nm未満の波長の紫外線放射光を発生し、当該紫外線放射光の前記気体雰囲気中での反応によりオゾンが生成するレーザにおいて、当該レーザを最適に運転する方法であって、
(a)前記容器内の気体雰囲気中からガスを吸引するステップと、
(b)前記吸引したガスを、オゾンを酸素に変換させるために触媒に通すステップと、
(c)ステップ(b)に続いて、前記吸引したガスを、前記容器に戻すステップと、
を具備する方法。 - 前記触媒は酸化銀である、請求項25に記載の方法。
- 前記触媒は酸化マンガンである、請求項25に記載の方法。
- さらに、(d)ステップ(a)の前に不活性ガスで前記容器をパージするステップを含む請求項25に記載の方法。
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