JP2006503891A5

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Publication number: JP2006503891A5
Application number: JP2004546766A
Authority: JP
Filing date: 2003-09-26
Publication date: 2006-11-16
Anticipated expiration: 2023-09-26

Claims

（ａ）複分解プロセスにおいて得られた１種若しくはそれ以上のオレフィン、触媒金属を含む複分解触媒、場合によっては１種若しくはそれ以上の複分解触媒分解生成物並びに場合によっては触媒及び触媒分解生成物以外の供給源に由来する１種若しくはそれ以上の金属を含むオレフィン複分解生成混合物を吸着剤と接触させ；又は
（ｂ）前記オレフィン複分解生成混合物を第一の蒸留に供して、揮発分及び軽質分を実質的に除去し、その後、前記第一の蒸留からの底部液をワイプトフィルム蒸発器において第二の蒸留に供する
ことを含んでなり、前記（ａ）吸着方法又は（ｂ）蒸留方法を、１重量ｐｐｍより低い濃度まで金属を除去するのに充分な条件下で実施するオレフィン複分解生成混合物の安定化方法。
前記オレフィン複分解生成混合物がＣ₂〜Ｃ₂₀置換若しくは非置換オレフィン又はそれらの混合物を含み、そして更に前記オレフィンがモノオレフィン又はポリオレフィンである請求項１に記載の方法。
前記オレフィン複分解生成混合物がＣ₂〜Ｃ₂₀α−オレフィン、Ｃ₂〜Ｃ₂₀α，ω−不飽和酸、Ｃ₂〜Ｃ₂₀α，ω−不飽和エステル又はそれらの組合せを含む請求項１に記載の方法。
前記触媒金属がルテニウム、タングステン、モリブデン、レニウム又はそれらの組合せから選ばれる請求項１に記載の方法。
前記複分解触媒がジクロロ−３，３−ジフェニルビニルカルベン−ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）−ルテニウム（ＩＩ）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジブロミド、トリシクロヘキシルホスフィン［１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾル−２−イリデン］［ベンジリデン］ルテニウムジクロリド、トリシクロヘキシルホスフィン［１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾル−２−イリデン］［ベンジリデン］ルテニウムジブロミド、及びトリシクロヘキシルホスフィン［１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾル−２−イリデン］［ベンジリデン］ルテニウムジヨージドからなる群から選ばれる請求項１に記載の方法。
前記複分解触媒がジクロロ−３，３−ジフェニルビニルカルベン−ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）−ルテニウム（ＩＩ）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド、トリシクロヘキシルホスフィン［１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾル−２−イリデン］［ベンジリデン］ルテニウム（ＩＶ）ジクロリド、トリシクロヘキシルホスフィン［１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾル−２−イリデン］［ベンジリデン］ルテニウム（ＩＶ）ジブロミド、トリシクロヘキシルホスフィン［１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾル−２−イリデン］［ベンジリデン］ルテニウム（ＩＶ）ジヨージド及び式：

［式中、ＭはＲｕであり；各Ｌは、独立して、Ｍの結合及び電荷要件をバランスさせる任意の組合せの中性及び陰イオン性配位子から選ばれ；ａは配位子Ｌの総数を表す整数、好ましくは１〜４であり；Ｒ¹は水素、直鎖若しくは分岐鎖アルキル、シクロアルキル、アリール及び置換アリール基から選ばれ；Ｙは周期表の第１５族又は第１６族からの元素の電子供与基であり；各Ｒ²は、独立して、水素、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、そしてＹの原子価を満足させるのに充分な置換アリール基から選ばれ；ｂはＲ²基の総数を表す整数、好ましくは０〜２であり；Ｚは、Ｙ及びカルベン炭素（Ｃ）の両方に結合して、Ｍ原子と共に４〜８個の原子の環を形成する二座配位子を形成する有機ジラジカルである］
で表されるキレート化ルテニウム錯体から選ばれる請求項1に記載の方法。
前記複分解触媒が、

［式中、各Ｔは、独立して、Ｃｌ及びＢｒから選ばれ、ＰＣｙ₃はトリシクロヘキシルホスフィンである］
である請求項１に記載の方法。
前記複分解触媒が触媒担体上に担持されている請求項１に記載の方法。
触媒及び触媒分解生成物に由来するもの以外の金属が存在し且つ前記金属が鉄、ニッケル、銅、亜鉛、コバルト、クロム、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム及びそれらの混合物から選ばれる請求項１に記載の方法。
前記触媒分解生成物が配位子と酸素又は水との反応によって生じる請求項１に記載の方法。
前記オレフィン複分解生成混合物を吸着剤と接触させ、そして前記吸着剤が炭素、クレイ、網状架橋イオン交換樹脂、アルミナ、シリカ−アルミナ及びそれらの混合物から選ばれる請求項１に記載の方法。
前記吸着剤が木炭である請求項１１に記載の方法。
前記吸着剤との接触を−５℃超で且つ５℃未満の温度において行う請求項１１に記載の方法。
前記オレフィン複分解生成混合物を（ｂ）に記載の蒸留に供して、金属を１００ｐｐｂ未満の濃度まで除去する請求項１に記載の方法。
軽質分及び揮発分を除去する前記第一の蒸留を４０℃で且つ１５０℃未満の温度及び１５ｍｍＨｇ（２０ｋＰａ）超で且つ１００ｍｍＨｇ（１３２ｋＰａ）未満の圧力において行う請求項１４に記載の方法。
前記第二の蒸留を、１５０℃超で且つ２００℃未満の温度で且つ０．００１ｍｍＨｇ（１．３Ｐａ）超で且つ５ｍｍＨｇ（６．６ｋＰａ）未満の圧力において操作されるショートパスワイプト・フィルム蒸発器中で実施する請求項１４に記載の方法。
安定化後の金属濃度が３００十億分率（ｐｐｂ）未満である請求項１に記載の方法。
複分解プロセスにおいて生成された１種又はそれ以上のオレフィンを含み且つ、オレフィン複分解生成混合物の重量に基づき、１重量ｐｐｍ未満の金属総濃度を有する安定化オレフィン複分解生成物組成物。
前記生成物オレフィンがＣ₂〜Ｃ₂₀α−オレフィン、Ｃ₂〜Ｃ₂₀α，ω−不飽和エステル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀α，ω−不飽和酸及びそれらの組合せからなる群から選ばれる請求項１８に記載の安定化オレフィン複分解生成物組成物。
１つ又はそれ以上の複分解触媒配位子、複分解触媒分解生成物又はそれらの組合せを更に含む請求項１８に記載の組成物。
溶媒又は安定化用配位子又は１種もしくはそれ以上の未転化反応体オレフィン又はこれらの組合せを更に含む請求項２０に記載の組成物。
前記オレフィン複分解生成混合物が１−デセン、デセン酸メチル及びオレイン酸メチルを含む請求項１に記載の方法。