JP2006501807A5 - - Google Patents

Claims (21)

1. （ａ）ヌクレオチド付加反応を起こすことが可能な空間的に隔離された反応部位のアレイを有するあらかじめパターン形成された基板をもつ反応器と、
   （ｂ）ヌクレオチド付加反応を促進することが可能な光を与える光源と、
   （ｃ）前記光源と前記反応器との間の光路に沿って位置決めされ、前記光を受け取り、この光が、前記あらかじめパターン形成された基板の前記隔離された反応部位のサブセットに対応する照射部分をもつように、光にパターンを印加するパターン生成器と、
   （ｄ）前記照射部分が該反応部位と位置合わせされるように、前記光パターンを該あらかじめパターン形成された基板上に投射する投射光学系と、
   を備えることを特徴とするＤＮＡ合成装置。
2. 前記投射光学系、前記パターン生成器、及び前記基板のうちの少なくとも２つの相対的配置を調整する位置合わせ手段をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
3. 前記投射光学系、前記パターン生成器、及び前記基板のうちの少なくとも２つの相対的配置の調整を制御するために、前記あらかじめパターン形成された基板からの光を受け取る光センサをさらに備えることを特徴とする、請求項２に記載の装置。
4. 前記あらかじめパターン形成された基板の前記空間的に隔離された反応部位の前記アレイと前記光パターンの前記照射部分との間の、糸巻形、台形、樽形、該基板に関して該基板の面に沿った並進、該基板と垂直な回転、過剰拡大、及び過小拡大からなる群から選択される該照射部分のゆがみをもたらす位置ずれを補正するために、前記投射光学系、前記パターン生成器、及び該基板のうちの少なくとも２つの相対的配置の手動調整を可能にする位置合わせ手段を含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
5. 前記光パターンで照射されたとき、前記あらかじめパターン形成された基板が、該光パターンの少なくとも一部のイメージを再生して、モアレ干渉パターンを与えることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
6. 前記パターン生成器が、前記光源と前記反応器との間の光路に沿って位置決めされ、前記光を受け取って反射する電子的に方向付けすることができる１組のマイクロミラーであることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
7. 前記電子的に方向付けすることができるマイクロミラーのイメージが、ミラー領域とレーン領域とを含み、前記あらかじめパターン形成された基板が、前記ミラー領域に対応する反応部位と、前記レーンに対応する反応隔離領域とを含むことを特徴とする、請求項６に記載の装置。
8. 前記反応隔離領域が、前記反応部位と比べて少ない光反射を与えるように処理されることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
9. 前記反応隔離領域が、前記反応部位と比べて多くの光反射を与えるように処理されることを特徴とする、請求項６に記載の装置。
10. 前記反応隔離領域が、角度を持たせた反射を与えるように格子状に刻印されることを特徴とする、請求項９に記載の装置。
11. 前記反応隔離領域が、該反応隔離領域におけるヌクレオチド付加反応を阻害するように処理されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
12. （ａ）反応器内でヌクレオチド付加反応を起こすことが可能な空間的に隔離された反応部位のアレイを有するあらかじめパターン形成された基板を位置決めし、
    （ｂ）ヌクレオチド付加反応を促進することが可能な光源を設け、
    （ｃ）前記隔離された反応部位のサブセットに対応する照射部分をもつ光パターンを、前記照射部分が該反応部位と位置合わせされるように、前記あらかじめパターン形成された基板上に投射する、
    ステップを含むことを特徴とするＤＮＡ合成方法。
13. 前記あらかじめパターン形成された基板上の前記光パターンの相対的配置を調整するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
14. 前記あらかじめパターン形成された基板上の前記光パターンの相対的配置の調整を制御するために、該あらかじめパターン形成された基板から出る光を検出するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
15. 糸巻形、台形、樽形、前記基板に関して該基板の面に沿った並進、該基板と垂直な回転、過剰拡大、及び過小拡大からなる群から選択されるゆがみを補正するために、前記光パターンを手動で調整するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
16. 前記光パターンで照射されたとき、前期あらかじめパターン形成された基板の前記パターンが、該光パターンの少なくとも一部のイメージを再生して、モアレ干渉パターンを与えることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
17. 前記あらかじめパターン形成された基板の前記パターンが、ミラー領域とレーン領域とを有する電子的に方向付けすることができる１組のマイクロミラーのイメージを再生し、該あらかじめパターン形成された基板の該パターンが、前記ミラー領域に対応する反応部位と、前記レーンに対応する反応隔離領域とを含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
18. 前記反応部位と比べて少ない光反射を与えるように、前記反応隔離領域を処理するステップを含むことを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
19. 前記反応部位と比べて多くの光反射を与えるように、前記反応隔離領域を処理するステップを含むことを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
20. 角度を持たせた反射を与えるように、前記反応隔離領域を格子状に刻印するステップを含むことを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
21. 前記反応隔離領域におけるヌクレオチド付加反応を阻害するように、該反応隔離領域を処理するステップを含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。