JP2006351437A - 表面処理装置及び表面処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
本発明の表面処理装置1は真空槽2内に配置された第一、第二の電極4、5を有している。第二の電極5を接地電位に置き、第一の電極4に矩形状の交番電圧を印加すると、第一の電極4の側面近傍にプラズマが形成されるので、樹脂フィルム10を第一の電極4の側面に密着させながら走行させれば、樹脂フィルム10が連続してプラズマに晒される。負電圧が印加される時間が、正電圧が印加される時間よりも長くなるような矩形状の交番電圧を第一の電極4に印加すれば、樹脂フィルム10に正イオンが入射する時間が長くなるので、樹脂フィルム10の表面が強く活性化する。
【選択図】図1
Description
請求項2記載の発明は、請求項1記載の表面処理装置であって、前記第一の電極は円筒の中心軸線を中心として回転可能に構成された表面処理装置である。
請求項3記載の発明は、請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の表面処理装置であって、前記第二の電極は、前記第一の電極の円周に沿って並べられた複数の単位電極で構成された表面処理装置である。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の表面処理装置であって、前記走行手段は、前記真空槽内に配置された巻取軸を有し、前記巻取軸は、前記真空槽内に配置された前記フィルムのロールから、前記フィルムを巻取り、前記フィルムを走行させるように構成された表面処理装置である。
請求項5記載の発明は、処理ガスを含む真空雰囲気中で、第一の電極に接触した状態でフィルムを走行させながら、前記フィルムを挟んで前記第一の電極と反対側に配置された第二の電極と、前記第一の電極の間に矩形状の交番電圧を印加する表面処理方法である。
請求項6記載の発明は、請求項5記載の表面処理方法であって、前記第一の電極は円筒状であって、前記フィルムを前記第一の電極の側面に接触させ、前記フィルムが前記第一の電極の側面に相対的に静止した状態で、前記フィルムを走行させる表面処理方法である。
請求項7記載の発明は、請求項5又は請求項6のいずれか1項記載の表面処理方法であって、前記フィルムの走行は、前記真空雰囲気中に前記フィルムのロールを配置しておき、前記真空雰囲気中に配置された巻取軸の周囲に、前記ロールから繰り出された前記フィルムを巻き取る表面処理方法である。
図1の符号16、17は樹脂フィルム10が巻き取られたロールを示しており、上述した各単位電極25は真空槽2内部の第一の電極4を中心とした一方の片側に配置されているのに対し、ロール16、17は真空槽2内部の他方の片側に配置されている。
Claims (7)
- 真空槽と、
前記真空槽内に互いに離間して配置された第一、第二の電極と、
前記第一、第二の電極の間に矩形状の交番電圧を印加可能な電源と、
前記第一、第二の電極の間でフィルムを走行可能に構成された走行手段とを有し、
前記フィルムを走行させながら、前記第一、第二の電極の間に矩形状の交番電圧を印加すると、前記フィルムが前記第一、第二の電極の間を走行する際に表面処理されるように構成された表面処理装置であって、
前記第一の電極は円筒形状であって、前記第一の電極の側面は前記第二の電極に向けられた表面処理装置。 - 前記第一の電極は円筒の中心軸線を中心として回転可能に構成された請求項1記載の表面処理装置。
- 前記第二の電極は、前記第一の電極の円周に沿って並べられた複数の単位電極で構成された請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の表面処理装置。
- 前記走行手段は、前記真空槽内に配置された巻取軸を有し、
前記巻取軸は、前記真空槽内に配置された前記フィルムのロールから、前記フィルムを巻取り、前記フィルムを走行させるように構成された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の表面処理装置。 - 処理ガスを含む真空雰囲気中で、第一の電極に接触した状態でフィルムを走行させながら、前記フィルムを挟んで前記第一の電極と反対側に配置された第二の電極と、前記第一の電極の間に矩形状の交番電圧を印加する表面処理方法。
- 前記第一の電極は円筒状であって、前記フィルムを前記第一の電極の側面に接触させ、前記フィルムが前記第一の電極の側面に相対的に静止した状態で、前記フィルムを走行させる請求項5記載の表面処理方法。
- 前記フィルムの走行は、前記真空雰囲気中に前記フィルムのロールを配置しておき、前記真空雰囲気中に配置された巻取軸の周囲に、前記ロールから繰り出された前記フィルムを巻き取る請求項5又は請求項6のいずれか1項記載の表面処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005178292A JP2006351437A (ja) | 2005-06-17 | 2005-06-17 | 表面処理装置及び表面処理方法 |
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JP2005178292A Pending JP2006351437A (ja) | 2005-06-17 | 2005-06-17 | 表面処理装置及び表面処理方法 |
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JP (1) | JP2006351437A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2005
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