JP2006344947A - 特徴付け方法、プロセス操作を特徴付ける方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板ウェハの処理の間、基板ウェハの変形を監視するシステムが開示されている。実施例では、各露光及び処理操作後に、複数の基準マークの位置をデータ・ベース内の値と比較することによって、基板ウェハ内の歪みが測定される。
【選択図】図3
Description
Δ=β0+β1x+β2y+残差
ここで
は、推定標準偏差であり、αは信頼水準(例えば、信頼水準95%で、信頼水準α=0.05)を表わし、zα/2は、確率P(z≦zα/2)が1−α/2であるz値であり、この確率は、標準の正規分布表から得ることができ、且つ、cは次式で求まる。
図5a及び図5bに示されたように、本発明の分散の推定方法は、測定された量の少しの変化にかなり敏感であってよい。図5aは、10,000のバッチの模擬実験を示しており、そこで、それぞれの実験は44フィールド、フィールド当たり25測定点、及び3モデル・パラメータの測定を含む。図で分かるように、標準偏差σは約1nmであり、cは約0.0229である。図5bでは、このバッチは、各実験に25nmの位置ずれ誤差を有するように修正されている。図から分かるように、第2のバッチはσが約1.26nm及びcは約0.0269である。その結果、2つのバッチは容易に見分けが付き、実際、2つの曲線は少しも重ならない。したがって、この例は、
の分解能は、テスト結果を見分け、且つ妥当に設計されたテスト(つまり、妥当な数のフィールド、フィールド当たりの測定点、及びモデル・パラメータの選択)を推定するのに充分であることを実証している。
図6a及び図6bは、本発明の実施例に従って、44フィールドが、フィールド当たり25点測定されている25枚のバッチのウェハのそれぞれ、X及びYにおける標準偏差を示す。図6a及び図6bにプロットされている各点に対し、3σ即ち99.7%の信頼区間に相当するエラー・バーが示されている。Xプロットからは、ウェハ4、6及び22が、かなり規準の外の所に出現し、一方、Yプロット上では、ウェハ4、6、9及び22が、かなり規準の外にある。これらの知見は、図7a及び図7bに示される残差のプロットによって確認される。
代わりの実施例では、本発明が製造環境内で適用されてよい。この環境内では、ウェハ・アライメントは、オーバレイ・フィールドのモデルと測定を比較することで可能であり、多数のウェハ・アライメントからなるバッチが、オーバレイ・ウエハと比較することが可能である。したがって、バッチ当たりの測定ノイズが推定できる。この分析を容易にするために、測定されたアライメント・マークは、ウェハ間で一致させるべきである。図8aに示されているように、各25枚の11バッチと、12のスクライブ・ライン・プライマリ・マーク・ペア(SPM pair)を用い、3パラメータ・モデルを選択し、c=0.048に設定すると、その値は(信頼区間内)最良適合線の約0.1nm以内である。その一方、図8bに示されているように、バッチ番号7の1枚のウェハの1マークに加えられた30nmのずれは、そのバッチが11バッチに対する平均値を表す線から約0.5nmにあることで、明瞭に又容易にそのバッチを他と見分けることが可能である。
モデル自体の品質は、本発明の実施例を用いて監視可能である。特に、所与のパラメータβiに対し、信頼区間を次のように定義できる。
ここで、推定パラメータの標準誤差
は、
、フィールド当たりの測定点の数、及びこれらの点の(x及びyの)位置の関数である。信頼区間の他の係数、tν,α/2は、t分布の表、或いは計算機のいずれかから得られ、自由度(ν)及び所望の信頼水準(α)に従って変化する。例として、95%の信頼水準、及び多数のフィールド当たり測定点に対して、tν,α/2は、ほぼ2(即ち、信頼区間は、標準誤差のほぼ2倍である)。信頼限界
を用いると、推定パラメータが、統計的にゼロに等しいか(或いはゼロでないか)どうかを決定することができ、この情報は、例えば、リソグラフィ装置の装置定数を最新のものにするのに使用できる。
本発明の他の実施例を用いて、ウェハ・マップ・データが得られてよい。この実施例では、前述の実施例と同様に、フィールド当たりいくつかの数の測定が実施される。測定されるフィールドはリソグラフィ装置の照射野に対応させてよいが、しかし、これは必要ない。更に、各フィールド内のマスク配置は、一致させるべきである。これらの制約が、修正不能誤差がフィールドからフィールドでほぼ一定であることを確保し、意図された目的に対し
が、妥当な計量であることを確保する。
が、図9のグラフのy軸にプロットされている。プロットに見られるように、フィールド7、28、36、及び57のそれぞれに、大きなばらつきを生じている。一旦これらのフィールドが取り除かれると、新しい平均残差が、Δ=β0+β1x+β2y+β3x2+β4y2+β5xy+残差、に従って回帰モデルに自乗及び交差項を考慮に入れて計算され、それによって修正不能誤差を除ける傾向がある。図10は、拡張したモデルに従ってプロットされた同じデータを示す。見られるように、一般にデータはより平滑化され、図9よりもばらつきの大きな所が突出しており、平均値は図9より小さくなっている。この本発明の例では、最大のばらつきのフィールド28は、ウェハ識別マークに関係している。スキャン領域の幾何学的形状が変更されて、このマ−クを避け、例えばその走査半径を制限することによって、例えば140mmにすると、データはもっと均一になる。そのように変更した、図11に見られるように、単一の大きなばらつきが、残りの部分からフィールド57の所で突出している。図12は、図の上の右手角に見ることができ、一般に100の所に表示されるフィールド57を含むウェハ・マップであり、そこに250nm高さの焦点スポットが局在している。前述の例に関して、本発明の方法は、特定のフィールドに誤差がある指標を簡単に識別しておくことが可能である。前述のように、この判定は、オペレータや、制御システムが更に調査することを可能にし、誤差の予想される原因が決定され、リソグラフィプロセスがそれを考慮に入れて制御される。
Claims (14)
- ある数の測定フィールド及びある数のフィールド当たり測定位置に対して基板上の位置を測定する工程と、
少なくとも前記ある数の測定フィールドと前記ある数のフィールド当たり測定位置とある数のモデル・パラメータとに基づいて推定分散を計算する工程と、
前記基板の状態を決定するためにしきい値量と計算された前記推定分散を比較する工程とを含む基板を特徴付ける方法。 - 前記測定を実施することによって前記しきい値量を決定する工程と、
複数の基板に対して複数のそれぞれの推定分散を決定するために計算する工程とを更に含み、前記比較する工程が、前記複数の基板の推定分散の平均とそれぞれの前記推定分散の1つを比較する工程を含む、請求項1に記載の方法。 - 各推定分散に対する信頼区間を計算する工程を更に含み、前記比較工程が、更に、それぞれの前記推定分散の1つに前記信頼区間を加算及び減算して推定分散の範囲を生成し、且つ前記しきい値量と前記推定分散の範囲を比較することを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記計算された推定分散が前記しきい値量を超えた時、警報信号を生成する工程、プロセス変数を変更する工程、該当する基板を更に調査する工程及び/又は該当する基板を廃棄する工程からなる群から選択されたアクションを起こす工程を更に含む請求項1に記載の方法。
- 前記測定された位置が、リソグラフィ製造工程中の前記基板上に印刷された構造体の位置に該当する、請求項1に記載の方法。
- 前記構造体がアライメント・マークを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記構造体が、マイクロ・エレクトロニクス・デバイスの一部を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記マイクロ・エレクトロニクス・デバイスが、集積回路、集積光学システム、磁気ドメイン・メモリ、液晶ディスプレイ、及び/又は薄膜磁気ヘッドの群から選択される、請求項7に記載の方法。
- ある数の測定フィールド及びある数のフィールド当たり測定位置用の基板の複数のバッチのそれぞれから各基板上の位置を測定する工程と、
少なくとも、前記ある数の測定フィールドと、前記ある数のフィールド当たり測定位置と、ある数のモデル・パラメータとに基づいて各バッチに対する推定分散を計算する工程と、
計算された前記推定分散をしきい値量と比較して、前記バッチの状態を決定する工程とを含む基板のバッチを特徴付ける方法。 - 前記しきい値量が前記バッチに対する前記推定分散の平均値である、請求項9に記載の方法。
- 前記比較工程が、各バッチに対する前記推定分散に信頼区間を加算し又は減算した結果を前記しきい値量と比較することを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記推定分散が前記しきい値と選択された信頼区間以上異なっているバッチを特定する工程を更に含む、請求項10に記載の方法。
- 基板上の位置測定のためにモデルの質をモニタする方法であって、
モニタされるパラメータと、自由度と、望ましい信頼水準を選択する工程と、
ある数の測定フィールド及びある数のフィールド当たり測定位置用の基板上の位置を測定する工程と、
少なくとも前記ある数の測定フィールドと前記ある数のフィールド当たり測定位置とに基づいて推定分散を計算する工程と、
前記推定分散、前記自由度、前記望ましい信頼水準、及び前記推定分散に基づいて前記パラメータに対する信頼区間を決定する工程と、
前記信頼区間を前記しきい値と比較する工程と、
前記比較に基づいてリソグラフィ装置を制御する工程とを含む、基板上の位置測定のためにモデルの質をモニタする方法。 - デバイスの製造方法であって、
パターン形成構造体を使用して、アライメント・マーク及びデバイス層の機能部分を含むパターンをその断面に有する放射線ビームを与える工程と、
基板の目標部分の上に前記パターン形成されたビームを投影し、潜像パターンを生成する工程と、
前記潜像を現像する工程と、
基板を処理する工程と、
ある数の測定フィールド及びある数のフィールド当たり測定位置に対し、基板上のパターンの部分の相対的位置を測定する工程と、
少なくとも前記ある数の測定フィールドとある数のフィールド当たり測定位置とある数のデル・パラメータに基づいて、推定分散を計算する工程と、
前記計算された推定分散をしきい値量と比較し、前記基板の状態を決定する工程とを含むデバイスの製造方法。
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006147519A Expired - Fee Related JP4578435B2 (ja) | 2005-06-10 | 2006-05-29 | 特徴付け方法、プロセス操作を特徴付ける方法、及びデバイス製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011176309A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2015534102A (ja) * | 2012-08-29 | 2015-11-26 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 変形パターン認識手法、パターン転写方法、処理デバイスモニタリング方法、及びリソグラフィ装置 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008055589A2 (en) * | 2006-11-09 | 2008-05-15 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Method for determination of residual errors |
US20080182344A1 (en) * | 2007-01-30 | 2008-07-31 | Steffen Mueller | Method and system for determining deformations on a substrate |
KR101286240B1 (ko) | 2007-10-23 | 2013-07-15 | 삼성전자주식회사 | 반도체 구조물의 형상을 예정하는 공정 파라 메타의 예측시스템, 상기 공정 파라 메타의 예측 시스템을 가지는반도체 제조 장비 및 그 장비의 사용방법 |
JP4962864B2 (ja) * | 2007-12-07 | 2012-06-27 | 富士電機株式会社 | 二乗平均平方根傾斜角の算出方法 |
US8655624B2 (en) * | 2008-06-11 | 2014-02-18 | Fluke Corporation | System and method for objective self-diagnosis of measurement device calibration condition |
US8260449B2 (en) | 2008-11-06 | 2012-09-04 | Micron Technology, Inc. | Photolithography systems and associated methods of overlay error correction |
GB2489495B (en) * | 2011-03-31 | 2013-03-06 | Rolls Royce Plc | Checking positional accuracy of features |
TWI754253B (zh) * | 2011-08-01 | 2022-02-01 | 以色列商諾發測量儀器股份有限公司 | 控制半導體裝置的製造的方法及系統 |
NL2009853A (en) * | 2011-12-23 | 2013-06-26 | Asml Netherlands Bv | Methods and apparatus for measuring a property of a substrate. |
JP2013175500A (ja) | 2012-02-23 | 2013-09-05 | Toshiba Corp | 露光装置、及び露光方法 |
KR102142167B1 (ko) * | 2012-11-09 | 2020-08-07 | 케이엘에이 코포레이션 | 계측 타겟 특성화 |
US9123583B2 (en) * | 2013-07-12 | 2015-09-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Overlay abnormality gating by Z data |
JP6381197B2 (ja) * | 2013-10-31 | 2018-08-29 | キヤノン株式会社 | 計測装置、計測方法、リソグラフィ装置、及び物品製造方法 |
US20180052444A1 (en) * | 2016-08-18 | 2018-02-22 | General Electric Company | Component deformation modeling system |
EP3364247A1 (en) | 2017-02-17 | 2018-08-22 | ASML Netherlands B.V. | Methods & apparatus for monitoring a lithographic manufacturing process |
CN107527831B (zh) * | 2017-08-21 | 2019-11-29 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 一种晶圆扭曲度的表征方法 |
CN111512235B (zh) * | 2017-12-19 | 2022-08-05 | Asml荷兰有限公司 | 基于计算量测的校正和控制 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08115869A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-07 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JP2001257159A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-21 | Hitachi Ltd | 位置合わせ方法および位置合わせ制御システム |
JP2001266142A (ja) * | 2000-01-13 | 2001-09-28 | Nikon Corp | データ分類方法及びデータ分類装置、信号処理方法及び信号処理装置、位置検出方法及び位置検出装置、画像処理方法及び画像処理装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2003289025A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Toshiba Corp | 半導体処理装置管理システムおよび半導体処理装置管理方法 |
JP2003329608A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-11-19 | Hitachi Ltd | 検査条件判定プログラムと検査装置と検査システム |
JP2004343113A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 処理工程の特性を明らかにする方法、及びデバイスを製造する方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0828321B2 (ja) * | 1990-08-20 | 1996-03-21 | 松下電器産業株式会社 | レジスト塗布評価方法 |
US20010049589A1 (en) * | 1993-01-21 | 2001-12-06 | Nikon Corporation | Alignment method and apparatus therefor |
JPH09115817A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-05-02 | Nikon Corp | 露光方法及び装置 |
JP2839081B2 (ja) * | 1996-03-06 | 1998-12-16 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2821441B2 (ja) * | 1996-08-23 | 1998-11-05 | 山形日本電気株式会社 | 重ね合せずれ量の計測方法 |
CN1314225A (zh) * | 2000-02-18 | 2001-09-26 | 德克萨斯仪器股份有限公司 | 铜镀层集成电路焊点的结构和方法 |
KR20010109212A (ko) * | 2000-05-31 | 2001-12-08 | 시마무라 테루오 | 평가방법, 위치검출방법, 노광방법 및 디바이스 제조방법,및 노광장치 |
US6699627B2 (en) * | 2000-12-08 | 2004-03-02 | Adlai Smith | Reference wafer and process for manufacturing same |
JP2003017386A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Canon Inc | 位置合わせ方法、露光方法、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US7069104B2 (en) * | 2002-04-30 | 2006-06-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Management system, management apparatus, management method, and device manufacturing method |
US7330279B2 (en) * | 2002-07-25 | 2008-02-12 | Timbre Technologies, Inc. | Model and parameter selection for optical metrology |
EP1477857A1 (en) | 2003-05-13 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | Method of characterising a process step and device manufacturing method |
-
2006
- 2006-05-25 US US11/440,436 patent/US7649614B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-26 TW TW095118698A patent/TWI335493B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-05-29 JP JP2006147519A patent/JP4578435B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-30 DE DE602006000256T patent/DE602006000256T2/de active Active
- 2006-05-30 EP EP06252778A patent/EP1731968B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-06 SG SG200603843A patent/SG128581A1/en unknown
- 2006-06-08 KR KR1020060051348A patent/KR100801272B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-06-09 CN CN2006100913049A patent/CN1892431B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08115869A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-07 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JP2001266142A (ja) * | 2000-01-13 | 2001-09-28 | Nikon Corp | データ分類方法及びデータ分類装置、信号処理方法及び信号処理装置、位置検出方法及び位置検出装置、画像処理方法及び画像処理装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2001257159A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-21 | Hitachi Ltd | 位置合わせ方法および位置合わせ制御システム |
JP2003289025A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Toshiba Corp | 半導体処理装置管理システムおよび半導体処理装置管理方法 |
JP2003329608A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-11-19 | Hitachi Ltd | 検査条件判定プログラムと検査装置と検査システム |
JP2004343113A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 処理工程の特性を明らかにする方法、及びデバイスを製造する方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011176309A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-08 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US8947643B2 (en) | 2010-02-19 | 2015-02-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method controlling parameter drift by performing multiple patterning passes on reference substrate |
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