JP2006332396A - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 洗浄処理ユニット1に装備された処理槽内の純水中に浸漬されることで水洗処理された基板は、その表面に水膜を付着させた状態で基板搬送機構3によりスピン処理ユニット2に搬送される。スピン処理ユニット2にて、基板が回転されることで基板表面の水膜の厚みが調整された後、水膜が凍結されることで水膜の体積が膨張し、基板表面に付着する粒子と基板との間の付着力が弱まり、さらには粒子が基板表面から脱離する。そして、凍結処理された基板は、基板搬送機構3によりスピン処理ユニット2から洗浄処理ユニット1に搬送され、処理槽内の処理液中に浸漬される。オーバーフローされる処理液によって水膜が解凍除去されるとともに基板表面の粒子が基板外に排出される。
【選択図】 図2
Description
本願発明者は、基板表面に付着する水膜の凍結による粒子の除去効果について実験による検証を行った。具体的には、水膜を凍結させた場合と凍結させない場合とで粒子の除去率を比較評価した。評価には、基板の代表例としてベア状態(全くパターンが形成されていない状態)のSi基板を選択するとともに、 (i)SiN(シリコンナイトライド)と、(ii) Siダストの2種類の汚染粒子(粒径;0.1μm以上)について除去率を求めている。
図2は、この発明の基板処理装置の一実施形態を示す平面レイアウト図である。この基板処理装置では、洗浄処理ユニット1とスピン処理ユニット2とが一定距離だけ離間して配置されるとともに、それらの間に基板搬送機構3が配置されている。これらの装置のうち、洗浄処理ユニット1は、基板を処理液中に浸漬させることで、基板の表面に対して水洗処理および解凍処理を施すユニットである。そして、洗浄処理ユニット1で最終的に水洗処理を受けた基板が基板搬送機構3によりスピン処理ユニット2に搬送される。スピン処理ユニット2は、基板を回転させることにより水洗処理後に基板表面に付着している水膜量(水膜の厚み)を調整するとともに、基板に凍結処理を施すことで厚み調整された水膜を凍結させるユニットである。凍結処理された基板は基板搬送機構3により洗浄処理ユニット1に搬送されて、洗浄処理ユニット1にて凍結された水膜の解凍処理が行われる。なお、基板搬送機構3は従来より多用されている機構を用いているため、ここでは構成および動作の説明は省略する。
洗浄処理ユニット1に搬送され、処理槽11に貯留された純水中に浸漬され水洗処理される。なお、図5(a)に示すように、洗浄処理ユニット1に搬送される基板Wの表面には粒子Pが付着しているものとする。
23…スピンモータ(回転手段)
26…冷媒供給ノズル(凍結手段)
FT…水膜の厚み
P…粒子
PD…(粒子の)粒径
W…基板
Claims (10)
- 基板を洗浄処理する基板処理方法において、
前記基板の表面に水膜を付着させた状態で前記基板を回転させることによって前記水膜の厚みを調整する第1工程と、
前記第1工程後に前記水膜を凍結させる第2工程と、
凍結させた前記水膜を解凍して前記基板表面から除去する第3工程と
を備えたことを特徴とする基板処理方法。 - 前記第1工程は、前記基板表面に付着する粒子の粒径以下となるように前記水膜の厚みを調整する請求項1記載の基板処理方法。
- 前記水膜には界面活性剤が添加されている請求項1または2記載の基板処理方法。
- 前記第3工程は、所定の方向に流動する処理液中に前記基板を浸漬させることによって、凍結させた前記水膜を解凍して前記基板表面から除去する請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理方法。
- 前記処理液はpH調整された薬液である請求項4記載の基板処理方法。
- 基板を洗浄処理する基板処理方法において、
前記基板の表面に水膜を付着させた状態で該水膜を凍結させる凍結工程と、
所定の方向に流動する処理液を凍結させた前記水膜に接液させることによって該水膜を解凍して前記基板表面から除去する解凍除去工程と
を備えたことを特徴とする基板処理方法。 - 前記解凍除去工程では、前記処理液として純水を前記水膜に接液させる請求項6記載の基板処理方法。
- 基板を洗浄処理する基板処理装置において、
前記基板の表面に水膜を付着させた状態で前記基板を回転させることによって前記水膜の厚みを調整する回転手段と、
前記回転手段によって厚み調整された前記水膜を凍結させる凍結手段と、
凍結させた前記水膜を解凍して前記基板表面から除去する解凍除去手段と
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記回転手段と前記凍結手段とは単一の処理ユニット内に配設される請求項8記載の基板処理装置。
- 前記解凍除去手段は、その内部に処理液を貯留するとともに該処理液をオーバーフローさせることが可能な処理槽を備え、前記処理槽内の処理液中に凍結させた前記水膜を基板ごと浸漬させることで前記水膜を解凍して前記基板表面から除去する請求項8または9記載の基板処理装置。
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