JP2006322885A - X線検出器の不感時間の測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】X線検出器14の入射X線強度を変えるために第1条件と第2条件を利用する。第1条件は受光スリット20のスリット幅Wであり,少なくとも3種類のスリット幅を選ぶ。第2条件は吸収板18の有無である。吸収板18を挿入した状態で,3種類以上のスリット幅Wで,第1記録X線強度を記録する。次に,吸収板18を外した状態で,同様に,第2記録X線強度を記録する。第1記録X線強度と,第2記録X線強度と,第1記録X線と第2記録X線強度の比率k(吸収板18によるX線強度の減衰に基づく)と,X線検出器の不感時間τとの間で,所定の関係式が成立するので,その関係式に基づいて,最小二乗法によるフィッティングにより,不感時間τを精密に決定する。
【選択図】図5
Description
新版X線回折要論,カリティ著,松村源太郎訳,株式会社アグネ,1980年,181頁 実験物理学講座20・X線回折,高良和武責任編集,共立出版株式会社,1988年,147−148頁
12 X線源
14 X線検出器
16 発散スリット
18 吸収板
19 X線ビーム
20 受光スリット
22,24 スリット片
28 入射側ソーラスリット
30 受光側ソーラスリット
32 2θ回転台
34 試料
36 試料台
Claims (5)
- パルス型のX線検出器の不感時間の測定方法において,次の段階を備える測定方法。
(ア)X線源から前記X線検出器に至るX線光路の状態を変更できる第1条件と第2条件であって,それらの条件の設定状態を変更することで前記X線検出器に入射する入射X線強度が変化するような第1条件と第2条件を選定する段階。
(イ)前記第1条件について,少なくとも3個の設定状態を選定する段階。
(ウ)前記第2条件について,第1の設定状態における前記入射X線強度と第2の設定状態における前記入射X線強度とが互いに異なるように,かつ,前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のいずれにおいても,前記第1の設定状態における前記入射X線強度と前記第2の設定状態における前記入射X線強度との比率が一定になるように,前記第1の設定状態と前記第2の設定状態を選定する段階。
(エ)前記第2条件を前記第1の設定状態に設定する段階。
(オ)前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のそれぞれに対して,前記X線源から前記X線光路を経由して前記X線検出器にX線を入射して,そのときの前記X線検出器の出力を第1記録X線強度として記録する第1の記録段階。
(カ)前記第2条件を前記第1の設定状態から前記第2の設定状態に変更する段階。
(キ)前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のそれぞれに対して,前記X線源から前記X線光路を経由して前記X線検出器にX線を入射して,そのときの前記X線検出器の出力を第2記録X線強度として記録する第2の記録段階。
(ク)前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のそれぞれについて,前記第1記録X線強度と前記第2記録X線強度と前記比率と前記不感時間との関係を定める関係式を作成し,前記第1記録X線強度と前記第2記録X線強度を既知数とし,前記比率と前記不感時間を未知数として,前記関係式が最も満足されるように,前記比率と前記不感時間を決定する段階。 - パルス型のX線検出器の不感時間の測定方法において,次の段階を備える測定方法。
(ア)X線源から前記X線検出器に至るX線光路の状態を変更できる第1条件と第2条件であって,それらの条件の設定状態を変更することで前記X線検出器に入射する入射X線強度が変化するような第1条件と第2条件を選定する段階。
(イ)前記第1条件について,少なくとも3個の設定状態を選定する段階。
(ウ)前記第2条件について,第1の設定状態における前記入射X線強度と第2の設定状態における前記入射X線強度とが互いに異なるように,かつ,前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のいずれにおいても,前記第1の設定状態における前記入射X線強度と前記第2の設定状態における前記入射X線強度との比率が一定になるように,前記第1の設定状態と前記第2の設定状態を選定する段階。
(エ)前記第2条件を前記第1の設定状態に設定する段階。
(オ)前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のそれぞれに対して,前記X線源から前記X線光路を経由して前記X線検出器にX線を入射して,そのときの前記X線検出器の出力を第1記録X線強度として記録する第1の記録段階。
(カ)前記第2条件を前記第1の設定状態から前記第2の設定状態に変更する段階。
(キ)前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のそれぞれに対して,前記X線源から前記X線光路を経由して前記X線検出器にX線を入射して,そのときの前記X線検出器の出力を第2記録X線強度として記録する第2の記録段階。
(ク)前記第1条件の前記少なくとも3個の設定状態のそれぞれについて,前記第1記録X線強度と前記第2記録X線強度と前記比率と前記不感時間との関係を定める関係式を作成し,前記第1記録X線強度と前記第2記録X線強度と前記比率を既知数とし,前記不感時間を未知数として,前記関係式が最も満足されるように,前記不感時間を決定する段階。 - 請求項1または2に記載の測定方法において,前記第1条件は前記X線光路に配置されたスリットの状態であり,前記第2条件は前記X線光路に挿入される吸収板の有無であることを特徴とする測定方法。
- 請求項1または2に記載の測定方法において,前記X線光路は完全結晶の回折X線を検出するための回折光学系に関するものであり,前記第1条件は前記回折光学系のいずれかの回転軸の角度変化であり,前記第2条件は前記X線光路に挿入される吸収板の有無であることを特徴とする測定方法。
- 請求項1から4までのいずれか1項に記載の測定方法において,前記第1条件についての前記少なくとも3個の設定状態は,少なくとも10個であることを特徴とする測定方法。
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