JP2006322659A - クリーンルームの空気清浄装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 所要の浄化性能を確保しながら、設置コスト及びランニングコストの低減を図り得る空気清浄装置を提供する。
【解決手段】 天井面に多数のフィルター装置1を備え、該フィルター装置1で浄化された浄化空気を室内に供給可能としたクリーンルームであって、室内に設置される半導体製造装置2の上方に位置するフィルター装置1にはケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6を併設し、フィルター装置1及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6の吹き出し孔と半導体製造装置2の空気吸入孔との間には、浄化空気案内装置11,12,13を備えた。
【選択図】 図1

Description

この発明は、クリーンルーム内の空気を浄化する空気浄化装置に関するものである。
半導体装置を製造するクリーンルームでは、製品の性能劣化及び歩留まりを向上させるために、分子レベル汚染物質やパーティクルを除去する空気浄化装置を設置する必要がある。そして、このような空気清浄装置で所要の浄化性能を確保しながら、設置コスト及びランニングコストの低減を図ることが必要となっている。
図9は、クリーンルームにおける従来の空気浄化装置を示す。天井面1内には天井用ファンフィルターユニット(以下FFUという)1が多数設けられる。そして、各ファンフィルターユニット1により、外部から供給される空気からパーティクルが除去され、クリーンルーム内へ供給される。
クリーンルーム内に設置される半導体製造装置2の空気吸入孔には、ケミカルフィルターユニット3及びFFU4が配設される。ケミカルフィルターユニットは、分子レベルの化学成分、有機物、ガス等を除去するものであり、FFU1,4は空気中のパーティクルを除去するものである。
このような構成により、半導体製造装置2にはFFU1,4及びケミカルフィルターユニット3により浄化された空気が供給される。
図10に示す空気浄化装置は、クリーンルーム内にケミカルフィルターユニット付き浄化エアー供給装置5が設置される。ケミカルフィルターユニット付き浄化エアー供給装置5は、クリーンルーム内の空気から化学成分を除去し、ダクトを介して半導体製造装置2に供給する。FFU1,4は図9に示すものと同様である。
このような構成により、半導体製造装置2にはFFU1,4及びケミカルフィルターユニット付き浄化エアー供給装置5により浄化された空気が供給される。
図11に示す空気浄化装置は、各天井用FFU1の設置位置にそれぞれケミカルフィルターユニット6を配設したものである。このような構成により、半導体製造装置2にはFFU1,4及びケミカルフィルターユニット6により浄化された空気が供給される。
特許文献1には、天井用FFUの吹き出し口の真下に装置の空気吸い込み口を配置する構成が開示されている。
特許文献2には、クリーンルームの天井吹き出し口からダクトを介して装置に空気を供給する構成が開示されている。
特許文献3には、天井給気ダクトから吹き出す空気の気流を整えるフードを備えた吹き出しユニットが開示されている。
特開2002−333180号公報 特開昭62−125238号公報 特開平06−323616号公報
図9に示す空気浄化装置では、ケミカルフィルターユニット3を半導体製造装置2毎に設置する必要があるため、各半導体製造装置2の仕様に合致したものとなる。従って、各ケミカルフィルターユニット3の標準化ができず、またケミカルフィルターユニットの吸着寿命にともなう維持管理が煩雑となる。
図10に示す空気浄化装置では、ケミカルフィルターユニット付き浄化エアー供給装置5をクリーンルーム内に設置するための設置スペースを確保する必要がある。従って、クリーンルームの床面積の拡大あるいは浄化エアー供給装置5の設置によるコストが増大する。
図11に示す空気浄化装置では、天井用FFU1とともにケミカルフィルターユニット5を配設しているので、ケミカルフィルターユニット5の標準化及び管理は容易となるが、天井用FFU1と同数のケミカルフィルターユニット5が必要となる。従って、施工範囲が大規模となってコストが上昇する。
また、クリーンルーム内で発生した汚染に対し、ケミカルフィルターユニット5を作用させることができないという問題点もある。
特許文献1〜3には、ケミカルフィルターユニットの設置方法に関する思想は開示されていない。
この発明の目的は、所要の浄化性能を確保しながら、設置コスト及びランニングコストの低減を図り得る空気清浄装置を提供することにある。
上記目的は、天井面に多数のフィルター装置を備え、該フィルター装置で浄化された浄化空気を室内に供給可能としたクリーンルームであって、前記室内に設置される半導体製造装置の上方に位置する前記フィルター装置にはケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニットを併設し、前記フィルター装置及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニットの吹き出し孔と前記半導体製造装置の空気吸入孔との間には、浄化空気案内装置を備えたクリーンルームの空気清浄装置により達成される。
本発明によれば、所要の浄化性能を確保しながら、設置コスト及びランニングコストの低減を図り得る空気清浄装置を提供することができる。
(第一の実施の形態)
図1は、本発明を具体化した第一の実施の形態を示す。前記従来例と同一構成部分は同一符号を付して説明する。
クリーンルームの天井面には多数のFFU1が配設され、半導体製造装置2の上方に位置するFFU(フィルター装置)1にはケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6が併せて設けられている。従って、半導体製造装置2には上方からFFU1及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6で浄化された空気が供給される。半導体製造装置2の上方以外の位置では、天井面に配設されたFFU1のみで浄化された空気がクリーンルーム内に供給される。
半導体製造装置2の上方において、FFU1の吹き出し口は下方に向かって開口するダクト11が浄化空気案内装置として設けられ、そのダクト11の下端部は縮径されてノズル12が形成されている。このノズル12は、空気の吐出方向を変更可能に形成される。そして、FFU1及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6で浄化された空気がノズル12から半導体製造装置2に向かって吐出される。
半導体製造装置2の空気吸入孔にはFFU4が配設され、そのFFU4の周囲にはサンプラー13が配設されている。このサンプラー13は、上方に向かって拡径された円筒状あるいは四角筒状に形成されている。従って、前記ノズル12から吐出された空気がサンプラー13でFFU4に案内される。
前記ダクト11及びサンプラー13の表面には光触媒14の被膜が形成され、ダクト11内にはUVランプ15が配設されている。光触媒14はUVランプ15からの紫外線を受けて活性化し、空気中の有機性ガス等を分解する機能を備えている。また、ダクト11の外面の光触媒は、可視光でも活性化される。
上記のように構成された空気清浄装置では、次に示す作用効果を得ることができる。
(1)ケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6は、半導体製造装置2の上方においてのみ、FFU1とともに配設される。従って、標準化されたケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6を使用することができるので、その維持管理が容易である。また、ケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6の設置数を削減して、コストの低減を図ることができる。
(2)FFU1及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6で浄化された空気をダクト11、ノズル12及びサンプラー13を介して半導体製造装置に局所的に供給することができる。
(3)ダクト11、ノズル12及びサンプラー13により、クリーンルーム内の空気の半導体製造装置2への流入を防止することができる。
(4)光触媒14及びUVランプ15により、浄化された空気中に含まれるガスを分解して、さらに浄化することができる。
(5)ダクト11とサンプラー13は連通しないので、その設置も容易である。
(第二の実施の形態)
図2は、第二の実施の形態を示す。この実施の形態は、前記第一の実施の形態からUVランプ15を省略したものであり、その他の構成は第一の実施の形態と同様である。
UVランプ15を省略しても、ダクト11及びサンプラー13の光触媒14は可視光により活性化されるので、効率は低下するが、活性化された光触媒14により浄化された空気中に含まれるガスを分解可能である。従って、前記第一の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
(第三の実施の形態)
図3は、第三の実施の形態を示す。この実施の形態は、前記第二の実施の形態からサンプラー13を省略したものである。
サンプラー13を省略しても、ノズル12からFFU4に浄化された空気が安定して供給されれば、第二の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
(第四の実施の形態)
図4は、第四の実施の形態を示す。この実施の形態は、前記第二の実施の形態のダクト11内に、ダクト11内に収容可能としたケミカルフィルターユニット16及びFFU17を配設したものである。
このような構成により、天井に配設されたFFU1及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット6で浄化された空気が、ダクト11内のケミカルフィルターユニット16及びFFU17によりさらに浄化される。従って、第二の実施の形態に比して、半導体製造装置2に供給する空気をさらに浄化することができる。
(第五の実施の形態)
図5は第五の実施の形態を示す。この実施の形態は、前記第四の実施の形態からサンプラー13を省略したものである。
サンプラー13を省略しても、ノズル12からFFU4に浄化された空気が安定して供給されれば、第四の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
(第六の実施の形態)
図6は、第六の実施の形態を示す。この実施の形態は、前記各実施の形態のダクト11及びサンプラー13に代えて、FFU1の周囲から半導体製造装置2の上面にかけてカーテン20が隔離壁として垂下されている。
FFU1の下方には気流制御板18が配設され、FFU1から吐出された空気が半導体製造装置2上のFFU4に向かって流れるように整流される。
前記気流制御板18の表面には光触媒19の被膜が形成され、前記カーテン20の表面にも、光触媒21の被膜が形成される。
FFU1の下方にはUVランプ15が配設され、そのUVランプ15から発せられる紫外線により光触媒19,21が活性化される。
このような構成により、カーテン20及び気流制御板18により第一の実施の形態のダクト11及びサンプラー13と同様な作用効果を得ることができる。従って、第一の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
(第七の実施の形態)
図7は、第七の実施の形態を示す。この実施の形態は、前記第六の実施の形態から気流制御板18を省略したものである。
気流制御板18を省略しても、ノズル12からFFU4に浄化された空気が安定して供給されれば、第六の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
(第八の実施の形態)
図8は、第八の実施の形態を示す。この実施の形態は、前記第七の実施の形態からUVランプ15を省略したものである。
UVランプ15を省略しても、カーテン20の光触媒21は可視光により活性化されるので、効率は低下するが、活性化された光触媒21により浄化された空気中に含まれるガスを分解可能である。従って、前記第一の実施の形態と同様な作用効果を得ることができる。
上記実施の形態は、以下の態様で実施してもよい。
・天井用FFU1は、ULPAフィルターとしてもよい。
・カーテン20に代えて、垂れ壁としてもよい。
(付記1)
天井面に多数のフィルター装置を備え、該フィルター装置で浄化された浄化空気を室内に供給可能としたクリーンルームであって、
前記室内に設置される半導体製造装置の上方に位置する前記フィルター装置にはケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニットを併設し、前記フィルター装置及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニットの吹き出し孔と前記半導体製造装置の空気吸入孔との間には、浄化空気案内装置を備えたことを特徴とするクリーンルームの空気清浄装置。
(付記2)
前記浄化空気案内装置は、
前記空気吸入孔に向かって前記浄化空気を吐出するノズルを備えたダクトとしたことを特徴とする付記1記載のクリーンルームの空気清浄装置。
(付記3)
前記浄化空気案内装置は、
前記浄化空気をその周囲の空気から隔離する隔離壁を前記天井から垂下して構成したことを特徴とする付記1記載のクリーンルームの空気清浄装置。
(付記4)
前記浄化空気案内装置の表面に光触媒の被膜を形成したことを特徴とする付記1乃至3のいずれか1項に記載のクリーンルームの空気清浄装置。
(付記5)
前記浄化空気案内装置内にUVランプを備えたことを特徴とする付記4記載のクリーンルームの空気清浄装置。
(付記6)
前記浄化空気案内装置は、
前記空気吸入孔に向かって前記浄化空気を吐出するノズルを備えたダクトと、
前記空気吸入孔に設けたサンプラーと
を備えたことを特徴とする付記1記載のクリーンルームの空気清浄装置。
(付記7)
前記ダクト内に、FFU及びケミカルフィルターユニットを備えたことを特徴とする付記2記載のクリーンルームの空気清浄装置。
(付記8)
前記浄化空気案内装置は、前記浄化空気が前記空気吸入孔に向かって流れるように整流する気流制御板を備えたことを特徴とする付記3記載のクリーンルームの空気清浄装置。
第一の実施の形態を示す概要図である。 第二の実施の形態を示す概要図である。 第三の実施の形態を示す概要図である。 第四の実施の形態を示す概要図である。 第五の実施の形態を示す概要図である。 第六の実施の形態を示す概要図である。 第七の実施の形態を示す概要図である。 第八の実施の形態を示す概要図である。 従来例を示す概要図である。 従来例を示す概要図である。 従来例を示す概要図である。
符号の説明
11 浄化空気案内装置(ダクト)
12 浄化空気案内装置(ノズル)
13 浄化空気案内装置(サンプラー)
14,19,21 光触媒
15 UVランプ
6,16 ケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニット
1,17 フィルター装置(FFU)
18 気流制御板
20 浄化空気案内装置(カーテン)

Claims (5)

  1. 天井面に多数のフィルター装置を備え、該フィルター装置で浄化された浄化空気を室内に供給可能としたクリーンルームであって、
    前記室内に設置される半導体製造装置の上方に位置する前記フィルター装置にはケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニットを併設し、前記フィルター装置及びケミカルフィルターユニット若しくは光触媒式フィルターユニットの吹き出し孔と前記半導体製造装置の空気吸入孔との間には、浄化空気案内装置を備えたことを特徴とするクリーンルームの空気清浄装置。
  2. 前記浄化空気案内装置は、
    前記空気吸入孔に向かって前記浄化空気を吐出するノズルを備えたダクトとしたことを特徴とする請求項1記載のクリーンルームの空気清浄装置。
  3. 前記浄化空気案内装置は、
    前記浄化空気をその周囲の空気から隔離する隔離壁を前記天井から垂下して構成したことを特徴とする請求項1記載のクリーンルームの空気清浄装置。
  4. 前記浄化空気案内装置の表面に光触媒の被膜を形成したことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のクリーンルームの空気清浄装置。
  5. 前記浄化空気案内装置内にUVランプを備えたことを特徴とする請求項4記載のクリーンルームの空気清浄装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008256266A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd ファンフィルターユニット
GB2468504A (en) * 2009-03-11 2010-09-15 Uvgi Systems Ltd Air sterilisation unit
JP2013050248A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Shimizu Corp クリーンルーム
WO2023007983A1 (ja) * 2021-07-27 2023-02-02 信越半導体株式会社 クリーンルーム
WO2023192620A1 (en) * 2022-03-31 2023-10-05 Entegris, Inc. Photocatalytic airborne molecular contamination removal system enhanced with passive adsorption

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10340874A (ja) * 1997-06-05 1998-12-22 Takasago Thermal Eng Co Ltd 局所密閉型清浄装置
JP2001029778A (ja) * 1999-07-22 2001-02-06 Ebara Corp 光電子放出材とそれを用いた負イオン発生装置
JP2002250552A (ja) * 2000-12-21 2002-09-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd クリーンルーム及び半導体装置の製造方法
JP2004125248A (ja) * 2002-10-01 2004-04-22 Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp アイリッド

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10340874A (ja) * 1997-06-05 1998-12-22 Takasago Thermal Eng Co Ltd 局所密閉型清浄装置
JP2001029778A (ja) * 1999-07-22 2001-02-06 Ebara Corp 光電子放出材とそれを用いた負イオン発生装置
JP2002250552A (ja) * 2000-12-21 2002-09-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd クリーンルーム及び半導体装置の製造方法
JP2004125248A (ja) * 2002-10-01 2004-04-22 Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp アイリッド

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008256266A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd ファンフィルターユニット
GB2468504A (en) * 2009-03-11 2010-09-15 Uvgi Systems Ltd Air sterilisation unit
JP2013050248A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Shimizu Corp クリーンルーム
WO2023007983A1 (ja) * 2021-07-27 2023-02-02 信越半導体株式会社 クリーンルーム
WO2023192620A1 (en) * 2022-03-31 2023-10-05 Entegris, Inc. Photocatalytic airborne molecular contamination removal system enhanced with passive adsorption

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