JP2006319298A - ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法 - Google Patents
ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006319298A JP2006319298A JP2005212814A JP2005212814A JP2006319298A JP 2006319298 A JP2006319298 A JP 2006319298A JP 2005212814 A JP2005212814 A JP 2005212814A JP 2005212814 A JP2005212814 A JP 2005212814A JP 2006319298 A JP2006319298 A JP 2006319298A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pickup head
- die
- tape
- head
- pickup
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0028—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by adhesive surfaces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67144—Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
Abstract
【課題】ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法の提供。
【解決手段】ピックアップヘッド33でダイ36をピックアップし、更にそれをトレイ32内に置くステップを何度も重複することで、ダイ36表面との頻繁な接触によりピックアップヘッド33に塵や汚れが付着してダイ36の損傷を形成しうる。ゆえにこの装置はピックアップヘッド33をテープ37の表面に接触させて、ピックアップヘッド33を自動クリーニングし、ダイ36の汚染を防止する。
【選択図】図9
【解決手段】ピックアップヘッド33でダイ36をピックアップし、更にそれをトレイ32内に置くステップを何度も重複することで、ダイ36表面との頻繁な接触によりピックアップヘッド33に塵や汚れが付着してダイ36の損傷を形成しうる。ゆえにこの装置はピックアップヘッド33をテープ37の表面に接触させて、ピックアップヘッド33を自動クリーニングし、ダイ36の汚染を防止する。
【選択図】図9
Description
本発明は一種のピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法に係り、特に、ピックアップヘッドの自動クリーニングの機能を具えたダイのピックアップ及び配置装置に関する。
半導体工程中、ウエハーはダイシングされ複数のダイとなり、最後にこれらのダイがパッケージ、試験されて、全体の半導体工程が完成する。
ダイは非常に精密で且つ体積が非常に小さく、このため、ダイのピックアップには特別な注意が必要である。更に、工程自動化のために通常はピックアップヘッドによりダイをピックアップしている。例えば、ダイピックアップ及び配置設備中において、ピックアップヘッドによりダイをピックアップして分類を行う。また、例えば、パッケージ工程中に、ピックアップヘッドでダイをピックアップしてパッケージ基板上に置き、ダイアタッチを行う。
図1、2は伝統的なピックアップヘッドの構造図である。それはピックアップヘッド1Aと真空管1Cを包含する。ピックアップヘッド1Aの前端に吸着面1Dと吸着孔1Eがあり、ピックアップヘッド1Aは後面の内円孔1Bを利用して真空管1Cと嵌合される。内円孔1Bはピックアップヘッド1A前端の吸着面1Dの吸着孔1Eに貫通する。ピックアップヘッド1Aがダイ13を吸着した後、真空管1C内の空気が抽出され、真空管1C中に形成された真空状態により、ピックアップヘッド1Aがダイ13を吸い上げる。
図3から図5はダイを収容溝に放置する伝統的な過程を表示する。図3において、ウエハー21がテーブル24の上面に置かれ、ピックアップヘッド23が機械アーム28の制御により、ウエハー21上面に移動し、並びにダイ26を吸い取りトレイ22の収容溝20内に置く。このほか、トレイ22はトレイスタンド25の上面に置かれている。
図3はダイ26がピックアップヘッド23にピックアップされる時の情況を表示し、図4は機械アーム28がピックアップヘッド23を上昇させ、並びにダイ26をトレイ22所在位置の方向に移動させる情況を示す。図5は機械アーム28がピックアップヘッド23を下降させ、並びに収容溝20の上方でピックアップヘッド23の真空吸着力を解除し、ダイ26を収容溝20内に置く情況を示す。
伝統的なピックアップヘッドは灰塵汚染を受け、例えばウエハー21がダイシングされる時に発生するシリコン塵がピックアップヘッド上面に付着し、長期にピックアップヘッドをクリーニングしないと、ピックアップヘッドがダイをピックアップする時にダイを傷つけたり汚染したりし、厳重な場合は、ピックアップヘッド表面が傷つき、真空吸着能力が低減或いは失効する。ゆえに、一定時間毎に(通常2〜4時間)、或いはダイを収容溝に置く数回の動作の後に、手動方式でピックアップヘッドを新しいもの或いはクリーニングされたピックアップヘッドに交換するか、或いはピックアップヘッドを取り外して超音波洗浄する必要がある。このように機械を停止させてピックアップヘッドを交換或いはクリーニングしてから機械を運転再開させる過程は相当に多くの手間と時間がかかる。且つ機械停止は機器設備の使用性能と生産能力を低下させる。このほか、経常的に新しいピックアップヘッドを購入するのは小さくないコストがかかる。このため如何にピックアップヘッドの汚染を減らしてダイの歩留りを高めるか、及び機器設備の使用性能を高めて生産能力を高めるかが、解決を待たれる問題となっている。
本発明の目的は、ピックアップヘッドの汚染を減らしてダイの歩留りを高め、且つ機器設備の使用性能を高められ、生産能力を増せる、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法を提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明は一種のピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法を提供し、本発明はその一つの実施例において、ダイピックアップ及び配置設備中においてダイを収容溝に放置する過程で、ピックアップヘッドが重複してダイをピックアップし並びにそれをトレイ内に放置し、ある時間或いは所定回数の後に、ピックアップヘッドが自動的にクリーニングテープの表面に接触し、これによりピックアップヘッドを自動クリーニングし、汚染を防止する。
請求項1の発明は、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、
ピックアップヘッドで半導体装置をピックアップするステップ、
半導体装置を放置するステップ、
該ピックアップヘッドを粘性表面に接触させるステップ、
を包含したことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法としている。
請求項2の発明は、請求項1記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、上述の粘性表面が、ブルーテープ(blue tape)、ホワイトテープ(white tape)、紫外線テープ(UV tape)、或いはTABテープのいずれかとされたことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法としている。
請求項3の発明は、請求項1記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、ピックアップと放置のステップを重複して行った後に、ピックアップヘッドを粘性表面に接触させるステップを実行することを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法としている。
請求項4の発明は、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置において、
半導体装置をピックアップするピックアップヘッドと、
該半導体装置が放置される載置物と、
該ピックアップヘッドと接触させられる粘性表面と、
を包含したことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置としている。
請求項5の発明は、請求項4記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの装置において、上述の粘性表面が、ブルーテープ(blue tape)、ホワイトテープ(white tape)、紫外線テープ(UV tape)、或いはTABテープのいずれかとされたことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置としている。
ピックアップヘッドで半導体装置をピックアップするステップ、
半導体装置を放置するステップ、
該ピックアップヘッドを粘性表面に接触させるステップ、
を包含したことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法としている。
請求項2の発明は、請求項1記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、上述の粘性表面が、ブルーテープ(blue tape)、ホワイトテープ(white tape)、紫外線テープ(UV tape)、或いはTABテープのいずれかとされたことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法としている。
請求項3の発明は、請求項1記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、ピックアップと放置のステップを重複して行った後に、ピックアップヘッドを粘性表面に接触させるステップを実行することを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法としている。
請求項4の発明は、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置において、
半導体装置をピックアップするピックアップヘッドと、
該半導体装置が放置される載置物と、
該ピックアップヘッドと接触させられる粘性表面と、
を包含したことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置としている。
請求項5の発明は、請求項4記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの装置において、上述の粘性表面が、ブルーテープ(blue tape)、ホワイトテープ(white tape)、紫外線テープ(UV tape)、或いはTABテープのいずれかとされたことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置としている。
伝統的なピックアップヘッドは長期に灰塵の汚染を受け、例えば、ウエハーのダイシング時に発生するシリコン塵がピックアップヘッド上面に付着し、もし長期にピックアップヘッドをクリーニングしなければ、ピックアップヘッドがダイを吸着する時にダイを傷つけ、汚染する。ゆえに一定時間毎に、或いはダイを収容溝に放置する数回の動作の後に、機械を停止してピックアップヘッドを取り外しクリーニングを行わねばならなかった。本発明の設備と方法を使用すると、経常的に機械を停止してクリーニングする必要がなく、半導体設備内のピックアップヘッドをきれいに保持できる。これにより、本発明はピックアップヘッドの自動クリーニングを行い、ダイの歩留りを高めるのみならず、機器設備の使用性能を高め、生産能力を高めることができる。
図6から図10は本発明の実施例のピックアップヘッドの自動クリーニングの方法の簡易表示図である。この実施例中、ウエハー31は先ず試験を終え、ダイシングしてダイとされた後、ピックアップ及び配置設備中に送られ、ピックアップに待機する。まず、図6に示されるように、ウエハー31がテーブル34の上面に置かれ、ピックアップヘッド33が機械アーム38の制御によりウエハー31の上面に移動し、並びにダイの品質分類によりダイ36のピックアップとトレイ32の収容溝30内への放置に待機する。本実施例では、ピックアップヘッド33の構造の吸着端は真空吸着ヘッドを具え、その構造は図1、2に示されるようであるが、その他の伝統的な吸着ヘッドを使用することもできる。このほか、トレイ32はトレイスタンド35上面に置かれ、このトレイスタンド35はトレイ輸送モジュールの一部分に属する。本発明の技術特徴部分を明らかにするため、トレイ輸送モジュール及びダイピックアップ及び配置設備のその他の部分は図示されていない。特に注意すべきことは、本実施例のダイピックアップ及び配置設備中にはテープ37エリアが増設されていることである。この図面中にあって、テープ37はウエハー31とトレイ32の間に位置するが、テープ37は必ずしもこの位置に設置される必要はない。その他の関係位置でも同様に本発明の目的を達成できる。本発明中で使用されるテープ37の特性は、粘着性を融資、物体に接触後に、物体上に接着剤の残留情況を形成しないことである。このテープ37は特別製造されるほか、半導体工程中で常用されるテープとされうる。例えば、ウエハーの背面研磨(backside grinding)用テープ(BG tape)として使用される青/白テープ(blue/white tape)、ウエハーダイシング時に用いられる紫外線テープ(UV tape)、TABパッケージ時に使用されるTABテープ、或いはその他の物体と接触後に物体上に接着剤の残留を発生しないテープとされうる。
図6はダイ36がピックアップヘッド33に吸着される情況を示す。図7は機械アーム38がピックアップヘッド33を上昇させ、並びにダイ36をトレイ32所在位置の方向に向けて移動させる情況を示す。図8は機械アーム38がピックアップヘッド33を下降させ、並びに収容溝30の上方でピックアップヘッド33の真空吸着力を解除し、その後、ダイ36を収容溝30内に放置する情況を示す。
本実施例中、図6から図8に示されるダイを収容溝に放置する動作が設定した回数或いは時間に達した後、機械アーム38はピックアップヘッド33を制御してそれをテープ37エリアに移動させ、並びにピックアップヘッド33の底端の真空吸着ヘッド表面をテープ37の表面に1回或いは数回(例えば4回)接触させ、これは図9に示されるとおりである。本実施例中、ダイシング後のウエハー31表面には屑或いは微粒子が残留し、ピックアップヘッド33の吸着ヘッド表面にこれらの微粒子が付着しうる。ピックアップヘッド33の底端の真空吸着ヘッド表面とテープ37表面が接触後、テープ37表面の粘性により、これらの微粒子がテープ37表面に付着し、ピックアップヘッド33のクリーニングの目的が達成される。上述のダイを収容溝に放置する回数は必要により調整され、或いは、時間により制御され、例えば、2時間置きに一回の自動クリーニング動作が行われる。本実施例中、ピックアップヘッド33がテープ37に接触する時間は0.1秒から3秒の間に設定される。接触の力は、0.1ニュートンから10ニュートンに設定される。この接触力の設定は、ピックアップヘッド33の弾性機構の弾性の大きさにより決定される。このほか、接触の回数は微粒子汚染情況により調整する。且つピックアップヘッド33の毎回のテープ37との接触位置は固定する必要はなく、これによりテープ37がピックアップヘッド33に対して二次汚染を形成するのを防止すると共にテープ交換の回数を節約する。
クリーニングステップ完成の後、機械アーム38はピックアップヘッド33を上昇させ、並びにウエハー31の所在位置の方向に移動させ(図10)、続いて図6に示されるように、次のダイの収容溝への放置動作を開始する。
以上の本発明の実施例はダイピックアップ及び配置(pick and place)設備を例としているが、本発明は半導体工程中のその他のピックアップヘッドによるダイ或いはウエハーのピックアップを必要とする場合に広く適用可能である。例えば、パッケージ工程中、ピックアップヘッドでダイをパッケージ基板上に移動させてダイアタッチを行う時、ピックアップヘッドの汚染による吸着能力の低下を防止するか、或いは汚染されたピックアップヘッドがダイに対して損傷を形成するのを防止するため、本発明のクリーニング設備と方法を使用して定時にピックアップヘッドの自動クリーニングを行うことができる。
以上の実施例は本発明の範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の特許請求の範囲に属するものとする。
1A ピックアップヘッド
1B 内円孔
1C 真空管
1D 吸着面
1E 吸着孔
13 ダイ
20 収容溝
21 ウエハー
22 トレイ
23 ピックアップヘッド
24 テーブル
25 トレイスタンド
26 ダイ
28 機械アーム
30 収容溝
31 ウエハー
32 トレイ
33 ピックアップヘッド
34 テーブル
35 トレイスタンド
36 ダイ
38 機械アーム
1B 内円孔
1C 真空管
1D 吸着面
1E 吸着孔
13 ダイ
20 収容溝
21 ウエハー
22 トレイ
23 ピックアップヘッド
24 テーブル
25 トレイスタンド
26 ダイ
28 機械アーム
30 収容溝
31 ウエハー
32 トレイ
33 ピックアップヘッド
34 テーブル
35 トレイスタンド
36 ダイ
38 機械アーム
Claims (5)
- ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、
ピックアップヘッドで半導体装置をピックアップするステップ、
半導体装置を放置するステップ、
該ピックアップヘッドを粘性表面に接触させるステップ、
を包含したことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法。 - 請求項1記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、上述の粘性表面が、ブルーテープ(blue tape)、ホワイトテープ(white tape)、紫外線テープ(UV tape)、或いはTABテープのいずれかとされたことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法。
- 請求項1記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの方法において、ピックアップと放置のステップを重複して行った後に、ピックアップヘッドを粘性表面に接触させるステップを実行することを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの方法。
- ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置において、
半導体装置をピックアップするピックアップヘッドと、
該半導体装置が放置される載置物と、
該ピックアップヘッドと接触させられる粘性表面と、
を包含したことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置。 - 請求項4記載のピックアップヘッドの自動クリーニングの装置において、上述の粘性表面が、ブルーテープ(blue tape)、ホワイトテープ(white tape)、紫外線テープ(UV tape)、或いはTABテープのいずれかとされたことを特徴とする、ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW094115571A TWI254397B (en) | 2005-05-13 | 2005-05-13 | Apparatus and method of automatically cleaning a pick-up head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006319298A true JP2006319298A (ja) | 2006-11-24 |
Family
ID=37447192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005212814A Pending JP2006319298A (ja) | 2005-05-13 | 2005-07-22 | ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060260648A1 (ja) |
JP (1) | JP2006319298A (ja) |
TW (1) | TWI254397B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014175547A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd | コレットクリーニング方法及びそれを用いたダイボンダ |
KR20170064851A (ko) * | 2015-12-02 | 2017-06-12 | 세메스 주식회사 | 기판을 파지하기 위한 그리퍼 및 이를 구비하는 다이 본딩 장치 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI397143B (zh) * | 2009-10-20 | 2013-05-21 | Mpi Corporaion | Automatic cleaning of the nozzle device and methods |
CN102125904B (zh) * | 2011-04-08 | 2013-04-10 | 杭州精工机械有限公司 | 全自动胶料封边生产线专用打胶头清洗设备及清洗方法 |
CN102983094A (zh) * | 2012-12-12 | 2013-03-20 | 青岛天信通软件技术有限公司 | 半导体传送设备及其取放装置 |
US9318362B2 (en) * | 2013-12-27 | 2016-04-19 | Asm Technology Singapore Pte Ltd | Die bonder and a method of cleaning a bond collet |
JP6391378B2 (ja) * | 2014-09-10 | 2018-09-19 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダ及びボンディング方法 |
KR102143680B1 (ko) | 2014-10-17 | 2020-08-11 | 인텔 코포레이션 | 마이크로 픽 앤드 본드 조립체 |
JP6812264B2 (ja) * | 2017-02-16 | 2021-01-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置、及びメンテナンス装置 |
US20230045809A1 (en) * | 2021-08-11 | 2023-02-16 | Nanya Technology Corporation | Method for automatically cleaning a probe card and system for automatically performing a needle cleaning |
-
2005
- 2005-05-13 TW TW094115571A patent/TWI254397B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-07-22 JP JP2005212814A patent/JP2006319298A/ja active Pending
- 2005-08-05 US US11/197,441 patent/US20060260648A1/en not_active Abandoned
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014175547A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd | コレットクリーニング方法及びそれを用いたダイボンダ |
KR101528852B1 (ko) * | 2013-03-11 | 2015-06-17 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 콜릿 클리닝 방법 및 그것을 사용한 다이 본더 |
US9318361B2 (en) | 2013-03-11 | 2016-04-19 | Fasford Technology Co., Ltd. | Collet cleaning method and die bonder using the same |
KR20170064851A (ko) * | 2015-12-02 | 2017-06-12 | 세메스 주식회사 | 기판을 파지하기 위한 그리퍼 및 이를 구비하는 다이 본딩 장치 |
KR102411450B1 (ko) * | 2015-12-02 | 2022-06-22 | 세메스 주식회사 | 기판을 파지하기 위한 그리퍼 및 이를 구비하는 다이 본딩 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200639956A (en) | 2006-11-16 |
TWI254397B (en) | 2006-05-01 |
US20060260648A1 (en) | 2006-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006319298A (ja) | ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法 | |
JP5833959B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6086763B2 (ja) | コレットクリーニング方法及びそれを用いたダイボンダ | |
KR101938476B1 (ko) | 다이 본더 및 본딩 방법 | |
JP4323129B2 (ja) | 板状物の搬送機構 | |
CN1889240A (zh) | 自动清洁吸嘴的装置与方法 | |
CN107230656B (zh) | 基板输送装置和基板输送方法 | |
JP2003086543A (ja) | 板状物の搬送機構および搬送機構を備えたダイシング装置 | |
JP2006310483A (ja) | ウエーハの保持方法 | |
JP2010245332A (ja) | 半導体露光装置 | |
JP2010129776A (ja) | 加工装置およびイオン化エア供給プログラム | |
TW201508957A (zh) | Led晶片用螢光膜拾取裝置 | |
JP2008147505A (ja) | チャックテーブルの清掃装置を備えた加工機 | |
JP2017059736A (ja) | 半導体チップの実装装置 | |
JP4992881B2 (ja) | 電子部品実装装置 | |
JP2002231768A (ja) | インナーリードボンディング装置 | |
TWI406326B (zh) | 集塵裝置、自動清潔裝置及自動清潔方法 | |
TW201429569A (zh) | 接合裝置及接合方法 | |
JP2012016758A (ja) | 研削装置 | |
JP2008135455A (ja) | チップ移載装置 | |
JP2011060898A (ja) | ワーク収納カセット | |
CN117936439A (en) | Wafer cleaning device and cleaning method suitable for front-end module of semiconductor equipment | |
JP2003228057A (ja) | 偏光板供給装置 | |
JP3427111B2 (ja) | 半導体製造装置、および、液晶表示素子製造用装置 | |
JP6408269B2 (ja) | 半導体チップの実装装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080520 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081014 |