JP2006314932A - 液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 異なるタイミングで着弾した液滴の形状を制御して、パターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。
【解決手段】 先行して形成した下層液状膜２６Ｌ１の端部に、後続する上層液状膜２６Ｌ２の端部を積層し、これら下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２の重なる積層領域に対して、その配向膜形成液を流動可能なレーザビームＢを照射するようにした。そして、ポリゴンミラー４８の回転駆動によって、前記レーザビームＢのビームスポットを、隆起部ＦＤＴ側（上層液状膜２６Ｌ２側）から、対応する凹部ＦＤＢ側（下層液状膜２６Ｌ１側）に走査するようにした。
【選択図】 図１０

Description

本発明は、液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。

液晶表示装置に備えられるカラーフィルタや配向膜等の薄膜製造工程には、薄膜形成材料を含む液体を被吐出面としての膜形成面に吐出し、前記膜形成面に着弾した液体を乾燥することによって各種薄膜を形成する、いわゆる液相プロセスが利用されている。

その液相プロセスにおけるインクジェット法は、前記液体を液滴として前記膜形成面に吐出し、その液滴を乾燥することによって各種薄膜を形成する。そのため、インクジェット法は、使用する前記液体の容量を、他の液相プロセス（例えば、スピンコート法やディスペンサ法）よりも低減することができ、しかも、薄膜の形成位置を、より高い精度で制御することができる。

ところで、上記するインクジェット法では、大型の液晶基板等、広範囲の膜形成面に薄膜を形成する際、前記液滴を吐出する液滴吐出ヘッドに対して、前記基板を複数回にわたり走査するようにしている。しかし、こうした複数回の走査による吐出では、先行する走査によって吐出された液滴が、後続する走査の液滴よりも早く乾燥する。そのため、各走査によって吐出した液滴間に境界（改行ムラ）が形成されて、液晶表示装置の表示画質を劣化させる問題を招いていた。

そこで、インクジェット法には、従来より、こうした吐出タイミングの異なる液滴間の境界（改行ムラ）を解消する提案がなされている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、複数の液滴吐出ヘッドを基板の走査方向と直交する方向（副走査方向）に配列し、かつ前記液滴を吐出する吐出ノズルの配列ピッチが、前記副走査方向に対して、等しくなるように配置している。そして、走査方向に沿う一回の走査によって、前記被吐出面の全体に、連続する液滴を吐出し、前記改行ムラの形成を回避している。
特開２００４−３４７６９４号 公報

しかしながら、特許文献１では、図１７（ａ）に示すように、副走査方向（Ｘ矢印方向）に対して、前記吐出ノズルＮの配列ピッチを、等しいノズルピッチ幅Ｐｎするために、隣接する液滴吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２の吐出ノズルＮの主走査方向（Ｙ矢印方向）の位置が、液滴吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２のＹ矢印方向の幅（ヘッド幅Ｗｈ）分だけ離間する。すなわち、隣接する液滴吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２から吐出された微小液滴が、前記ヘッド幅Ｗｈ分だけ、異なるタイミングで着弾する。

そして、異なるタイミングで着弾した液滴１０３，１０４が互いに重なるように流動すると、図１７（ｂ）に示すように、基板１０１の膜形成面１０２には、液滴１０３，１０４の境界領域に、数１００ｎｍ〜数μｍの厚さで隆起する隆起部ＦＤＴが形成されるようになる。一方、異なるタイミングで着弾した液滴１０３，１０４が互いに重ならないと、液滴１０３，１０４の間の境界領域には、液滴の厚さが薄くなる、あるいは液滴の吐出されない領域が形成されるようになる。

従って、異なるタイミングで着弾した液滴の境界領域には、その液滴の厚さ、すなわち薄膜の膜厚を変動して、液晶表示装置の表示画質を劣化させる問題を招いていた。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、異なるタイミングで着弾した液滴の形状を制御して、パターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供することである。

本発明の液滴吐出装置は、パターン形成材料を含む液滴を被吐出面に吐出する液滴吐出手段を備えた液滴吐出装置において、異なるタイミングで着弾した前記液滴の境界領域に、前記境界領域の前記液滴を流動させるエネルギービームを照射するエネルギービーム照射手段を備えた。

本発明の液滴吐出装置によれば、境界領域の液滴をエネルギービームによって流動させることができ、境界領域において、積層した液滴による隆起を抑制することができる。あるいは、境界領域において、液滴の厚さが薄くなる領域に、流動する液滴を充填させることができる。すなわち、被吐出面に吐出した境界領域の液滴の形状を、所望の形状にする（例えば、境界領域を平坦化する、あるいは凹面又は凸面にする）ことができる。従って、被吐出面に吐出した液滴の形状制御性を向上することができる。その結果、液滴によって形成するパターンの形状制御性を向上することができる。

この液滴吐出装置は、前記境界領域は、前記液滴が互いに重なる積層領域であり、前記流動は、前記積層領域の前記液滴を前記被吐出面の非積層領域へ流動させる方向への流動であってもよい。

この液滴吐出装置によれば、エネルギービームの照射によって、積層領域の液滴を、非積層領域へ流動させることができる。その結果、積層領域における液滴の隆起を回避して、吐出した液滴の表面を平坦化することができる。従って、液滴の形状制御性を向上することができ、ひいてはパターンの形状制御性を向上することができる。

この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴に対して、相対的に、前記エネルギービームを前記積層領域から前記非積層領域に走査する走査手段を備えるようにしてもよい。

この液滴吐出装置によれば、走査手段によるエネルギービームの走査によって、積層領域における液滴を、より効果的に、非積層領域まで流動させることができ、吐出した液滴の表面を、より所望の形状に対応した形状に制御することができる。

この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記積層領域の膜厚に相対した強度のエネルギービームを照射するようにしてもよい。
この液滴吐出装置によれば、積層領域の膜厚に応じたエネルギービームを照射することができ、膜厚の厚い領域の液滴を膜厚の薄い領域に流動させることができる。

この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記積層領域から前記非積層領域に向かう方向の成分を有したエネルギービームを照射するようにしてもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームの照射する方向が、積層領域から非積層領域に向かう方向の成分を備える分だけ、エネルギービームのエネルギーを、液滴を流動させるための並進エネルギー等に、より効率良く変換することできる。

この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴に対して、相対的に、前記積層領域の延びる方向に、前記エネルギービームを走査する走査手段を備え
るようにしてもよい。

この液滴吐出装置によれば、エネルギービームを、積層領域の延びる方向に走査する分だけ、積層領域における液滴の隆起等を、確実に回避することができ、吐出した液滴の表面を、より所望の形状に対応した形状に制御することができる。

この液滴吐出装置において、前記液滴吐出手段は、複数の液滴吐出ヘッドを備え、前記積層領域は、異なる前記液滴吐出ヘッドの吐出した前記液滴の積層された領域であってもよい。

この液滴吐出装置によれば、複数の液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置によって形成するパターンの形状制御性を向上することができ、広範囲にわたって、パターンの形状制御性を向上することができる。

この液滴吐出装置において、前記エネルギービームは、光であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームを光で構成することにより、液滴の構成材料（例えば、溶媒や分散媒等）に対応した波長領域や照射強度のエネルギービームを選択することができる。その結果、エネルギービームの選択範囲を拡大することができ、適用可能な液滴の範囲を拡大することができる。

この液滴吐出装置において、前記エネルギービームは、コヒーレント光であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームをコヒーレント光で構成することにより、所望のビーム形状や強度分布を、より高い精度で成形することができ、液滴の形状制御性、ひいてはパターンの形状制御性を、さらに向上することができる。

この液滴吐出装置において、前記エネルギービーム照射手段は、前記エネルギービームを透過して前記液滴の領域を覆うカバーを備えるようにしてもよい。
この液滴吐出装置によれば、エネルギービームの照射による液滴の乾燥を抑制することができ、液滴の流動性を維持することができる。

本発明のパターン形成方法は、パターン形成材料を含む液滴を被吐出面に吐出し、被吐出面に着弾した前記液滴を乾燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、異なるタイミングで着弾した前記液滴の境界領域にエネルギービームを照射して、前記境界領域の前記液滴を流動させるようにした。

本発明のパターン形成方法によれば、境界領域の液滴をエネルギービームによって流動させるため、境界領域において、積層した液滴による隆起を抑制することができる。あるいは、境界領域において、液滴の厚さが薄くなる領域に、流動した液滴を充填させることができる。すなわち、被吐出面に吐出した境界領域の液滴の形状を、所望の形状にする（例えば、境界領域を平坦化する、あるいは凹面又は凸面にする）ことができる。従って、被吐出面に吐出した液滴の形状制御性を向上することができる。その結果、液滴によって形成するパターンの形状制御性を向上することができる。

このパターン形成方法は、前記境界領域が、前記液滴が互いに重なる積層領域であり、前記積層領域の前記液滴を、前記被吐出面の非積層領域へ流動させるようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、エネルギービームを照射することによって、積層領域の液滴を、非積層領域へ流動させることができる。その結果、積層領域における液滴の隆起を回避して、吐出した液滴の表面を平坦化することができる。従って、液滴の形状制御性を向上することができ、ひいてはパターンの形状制御性を向上することができる。

このパターン形成方法において、前記液滴を乾燥する前に、前記エネルギービームを照射するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、液滴の乾燥中にエネルギービームを照射する場合よりも、液滴の流動性を確保することができ、液滴の形状制御性を、より向上することができる。

このパターン形成方法において、前記エネルギービームを、前記積層領域から前記非積層領域に向かって走査するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、エネルギービームを走査する分だけ、積層領域における液滴を、より効果的に、非積層領域まで流動させることができ、液滴の表面を、より平坦化することができる。

このパターン形成方法において、前記積層領域の膜厚に相対した強度のエネルギービームを照射するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、積層領域の膜厚に応じたエネルギービームを照射することができ、膜厚の厚い領域の液滴を膜厚の薄い領域に流動させることができ、液滴の表面を、より平坦化することができる。

このパターン形成方法において、前記積層領域から前記非積層領域に向かう方向の成分を有した前記エネルギービームを照射するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、積層領域から非積層領域に向かう方向の成分を備える分だけ、エネルギービームのエネルギーを、液滴を流動させるための並進エネルギー等に、より効率良く変換することできる。

このパターン形成方法において、前記エネルギービームを、前記積層領域の延びる方向に走査するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、積層領域の延びる方向に走査する分だけ、積層領域における液滴の隆起を、確実に回避することができ、吐出した液滴の表面を、より確実に平坦化することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、基板の一側面に配向膜形成材料を含む液滴を吐出し、前記一側面に着弾した前記液滴を乾燥することによって配向膜を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記配向膜を、上記するパターン形成方法によって形成するようにした。

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、配向膜の形状制御性を向上した電気光学装置を製造することができる。
本発明の電気光学装置は、上記する電気光学装置の製造方法によって製造した。

本発明の電気光学装置によれば、配向膜の形状制御性を向上した電気光学装置を製造することができる。

（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１〜図１２に従って説明する。
まず、本発明の電気光学装置としての液晶表示装置について説明する。図１は液晶表示装置の斜視図、図２は液晶表示装置に備えられたカラーフィルタ基板の斜視図、図３はカラーフィルタ基板の要部断面図である。

図１において、液晶表示装置１は、液晶パネル２と、前記液晶パネル２に平面状の光Ｌ１を照明する照明装置３を備えている。
照明装置３は、ＬＥＤ等の光源４と、前記光源４から出射された光を透過して平面状の光として前記液晶パネル２に照射する導光体５を備えている。一方、液晶パネル２は、前記照明装置３側に備えられたカラーフィルタ基板１０と、前記カラーフィルタ基板１０と相対向する素子基板１１を備え、これらカラーフィルタ基板１０と素子基板１１を貼り合せ、その間隙に図示しない液晶分子が封入されることによって形成されている。

素子基板１１は、四角板状の無アルカリガラス基板であって、その照明装置３側（カラーフィルタ基板１０）側の側面（素子形成面１１ａ）には、Ｘ矢印方向に延びる複数の走査線１２が所定の間隔をおいて形成されている。各走査線１２は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設される走査線駆動回路１３に電気的に接続されている。走査線駆動回路１３は、図示しない制御回路からの走査制御信号に基づいて、複数の走査線１２の中から所定の走査線１２を所定のタイミングで選択駆動し、選択した走査線１２に走査信号を出力するようになっている。

また、素子形成面１１ａには、前記走査線１２と直交するＹ矢印方向に延びる複数のデータ線１４が所定の間隔をおいて形成されている。各データ線１４は、それぞれ素子基板１１の一側端に配設されるデータ線駆動回路１５に電気的に接続されている。データ線駆動回路１５は、図示しない外部装置からの表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線１４に所定のタイミングで出力するようになっている。

前記走査線１２と前記データ線１４の交差する位置には、対応する走査線１２及びデータ線１４に接続されて、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される複数の画素領域１６が形成されている。各画素領域１６内には、それぞれＴＦＴ等からなる図示しない制御素子と、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極が形成されている。

すなわち、本実施形態の液晶表示装置１は、制御素子であるＴＦＴを備えた、いわゆるアクティブマトリックス方式の液晶表示装置である。尚、前記走査線１２、データ線１４及び画素領域１６の下側（カラーフィルタ基板１０側）には、素子形成面１１ａの全体にわたり、ラビング処理等による配向処理が施され、前記画素電極近傍の液晶分子の配向を設定可能にする図示しない配向膜が形成されている。

図２に示すように、カラーフィルタ基板１０は、無アルカリガラスからなる四角形状の透明ガラス基板（以下単に、基板２１という。）を有している。
図２及び図３に示すように、基板２１の一側面であって前記素子基板１１と相対向する側面（フィルタ形成面２１ａ）には、隔壁２２が形成されている。隔壁２２は、クロムやカーボンブラック等の遮光性材料等によって形成され、前記走査線１２及び前記データ線１４と相対するように、フィルタ形成面２１ａの略全面に格子状に形成されている。そして、この隔壁２２が形成されることによって、フィルタ形成面２１ａに、前記隔壁２２で囲まれる領域（着色層領域２３）が、前記画素領域１６と対峙するように、ｉ行×ｊ列のマトリックス状に配列される。

図２及び図３に示すように、着色層領域２３内には、前記光Ｌ１を有色の光に変換して出射する着色層２４（赤色の光に変換する赤色着色層２４Ｒ、緑色の光に変換する緑色着色層２４Ｇ及び青色の光に変換する青色着色層２４Ｂ）が形成されている。各着色層２４と前記隔壁２２の上側（素子形成面１１ａ側）には、図示しない保護層やオーバーコート層が積層されて、その上側面を平坦化するようになっている。図３に示すように、各着色層２４（前記保護層やオーバーコート層）の上側には、前記隔壁２２と略同じに形成された対向電極２５が積層されている。対向電極２５の上側面（被吐出面としての配向膜形成
面２５ａ）は、前記フィルタ形成面２１ａに沿うように平坦に形成されて、所定の共通電位が供給されるようになっている。対向電極２５の上側（配向膜形成面２５ａ上）には、前記対向電極２５近傍の液晶分子の配向を設定可能にするパターンとしての配向膜２６が形成されている。

配向膜２６は、配向膜形成面２５ａの全面に、後述する液滴吐出装置３０（図４参照）によって、均一な膜厚の液状膜２６Ｌを形成し、乾燥した前記液状膜２６Ｌの表面に、ラビング処理等の配向処理を施すことによって形成されている。詳述すると、前記液状膜２６Ｌは、配向膜形成面２５ａの全面に、液滴吐出装置３０（図４参照）の吐出ノズルＮ（図５参照）からパターン形成材料としての配向膜形成材料を含む微小液滴Ｆｂ（図７参照）を吐出させ、配向膜形成面２５ａに着弾した微小液滴Ｆｂに、後述するレーザビームＢ（図１０参照）を照射して平坦化することによって形成されている。

そして、前記走査線駆動回路１３が、走査線１２を線順次走査に基づき１本ずつ順次選択すると、画素領域１６の制御素子が順次、選択期間中だけオン状態になる。制御素子がオン状態となると、データ線駆動回路１５から出力されるデータ信号が、データ線１４及び制御素子を介して前記画素電極に出力される。すると、素子基板１１の画素電極とカラーフィルタ基板１０の対向電極２５の電位差に応じて、前記液晶分子の配向状態が、照明装置３の照射する光Ｌ１を変調するように維持される。そして、変調された光が図示しない偏光板を通過するか否かによって、液晶パネル２に、カラーフィルタ基板１０を介した所望するフルカラーの画像が表示される。

次に、前記着色層２４を形成するために使用する液滴吐出装置３０について説明する。図４は、液滴吐出装置３０の構成を示す斜視図である。
図４において、液滴吐出装置３０には、直方体形状に形成される基台３１が備えられている。基台３１は、後述する基板ステージ３３に前記カラーフィルタ基板１０を載置する状態で、その長手方向が、前記Ｙ矢印方向に沿うように形成されている。

基台３１の上面には、Ｙ矢印方向に延びる一対の案内凹溝３２が、Ｙ矢印方向全幅にわたり形成され、その案内凹溝３２には、Ｙ軸モータＭＹ（図１２参照）に連結駆動されてＹ矢印方向及び反Ｙ矢印方向に直動して走査手段を構成する基板ステージ３３が取付けられている。そして、所定の駆動信号が前記Ｙ軸モータＭＹに入力されると、Ｙ軸モータＭＹが正転又は逆転して、基板ステージ３３が、Ｙ矢印方向に沿って、所定の速度（搬送速度Ｖｙ）で往動又は復動する（Ｙ矢印方向に移動する）ようになっている。本実施形態では、図４に示すように、最も反Ｙ矢印方向に位置する基台３１の配置位置を往動位置とし、最もＹ矢印方向の配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。

基板ステージ３３の上面には、基板２１の配向膜形成面２５ａを上側にして載置する載置部３４が形成され、載置した基板２１を、基板ステージ３３に対して位置決めするようになっている。基台３１のＸ矢印方向両側には、一対の支持台３５ａ、３５ｂが立設され、その一対の支持台３５ａ、３５ｂには、Ｘ矢印方向に延びる案内部材３６が架設されている。その案内部材３６の上側には、収容タンク３７が配設され、その収容タンク３７内には、パターン形成材料としての配向膜形成材料を分散媒に分散させた配向膜形成液Ｆ（図７参照）が、後述する液滴吐出ヘッドＦＨに導出可能に収容されている。尚、本実施形態における配向膜形成液Ｆの表面張力は２０ｍＮ／ｍであるが、これに限られるものではない。

案内部材３６の下側には、Ｘ矢印方向に延びる一対の案内レール３８が、Ｘ矢印方向の略全幅にわたり形成され、その案内レール３８には、Ｘ軸モータＭＸ（図１２参照）に連結駆動されてＸ矢印方向及び反Ｘ矢印方向に直動するキャリッジ３９が取付けられている
。キャリッジ３９のＸ矢印方向の幅は、前記基板２１（フィルタ形成面２１ａ）のＸ矢印方向の幅と略同じサイズで形成されている。そして、所定の駆動信号をＸ軸モータＭＸに入力すると、Ｘ軸モータが正転又は逆転して、キャリッジ３９がＸ矢印方向に沿って往動又は復動する（Ｘ矢印方向に移動する）ようになっている。本実施形態では、図４に示すように、最も支持台３５ａ側（反Ｘ矢印方向側）に位置するキャリッジ３９の配置位置を往動位置とし、最も支持台３５ｂ側（Ｘ矢印方向側）に位置する配置位置（図４に示す２点鎖線）を復動位置という。

キャリッジ３９の下面（ヘッド配設面３９ａ）には、液滴吐出手段を構成する複数の液滴吐出ヘッド（以下単に、吐出ヘッドＦＨという。）が配設されている。図５は、前記ヘッド配設面３９ａを下側（基板ステージ３３側）から見た平面図を示す。図６及び図７は、図５のＡ−Ａに沿う概略断面図及び概略拡大断面図である。

図５において、各吐出ヘッドＦＨは、Ｘ矢印方向に延びる略直方体形状に形成されて、Ｘ矢印方向に沿って、２列に配列されている。詳述すると、各吐出ヘッドＦＨは、反Ｙ矢印方向側（基板ステージ３３の往動位置側）の吐出ヘッドＦＨ（第１吐出ヘッドＦＨ１）からなる第１ヘッド列ＬＨ１と、その第１ヘッド列ＬＨ１のＹ矢印方向側に隣接した吐出ヘッドＦＨ（第２吐出ヘッドＦＨ２）からなる第２ヘッド列ＬＨ２を形成している。そして、これら第１ヘッド列ＬＨ１及び第２ヘッド列ＬＨ２の各吐出ヘッドＦＨが、それぞれＸ矢印方向に、所定の距離だけ離間するように等ピッチで配列されて、Ｙ矢印方向から見て、隣り合う各第１吐出ヘッドＦＨ１の離間した空間に、それぞれ対応する第２吐出ヘッドＦＨ２が配設されるようになっている。

第１及び第２吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２の下側（基板ステージ３３側）には、それぞれノズルプレート４１が備えられ、各ノズルプレート４１の下面（ノズル形成面４１ａ）には、後述する微小液滴Ｆｂ（図７参照）を吐出するための多数のノズルＮが、基板２１の法線方向（Ｚ矢印方向：図４参照）に沿って貫通形成されている。各ノズルＮは、そのＸ矢印方向の形成ピッチが等ピッチ幅（ノズルピッチ幅Ｐｎ）となるように、Ｘ矢印方向に沿って一列に形成され、各吐出ヘッドＦＨ（ノズル形成面４１）に、Ｘ矢印方向の幅が所定の幅（ノズル列幅Ｗｎ）からなるノズル列を形成している。

詳述すると、第１ヘッド列ＬＨ１のノズル列と第２ヘッド列ＬＨ２のノズル列は、Ｘ矢印方向から見て、その間の距離が、吐出ヘッドＦＨのＹ矢印方向の幅（ヘッド幅Ｗｈ）の分だけ、離間するようになっている。また、各第１吐出ヘッドＦＨ１のノズル列と第２吐出ヘッドＦＨ２のノズル列は、Ｙ矢印方向から見て、その間の距離が、前記ノズルピッチ幅Ｐｎの分だけ、離間するようになっている。

そして、第１及び第２吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２のノズルＮは、図６に示すように、Ｙ矢印方向から見て、前記ノズルピッチ幅Ｐｎからなる連続した１列のノズル列を形成し、これら第１及び第２吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２のノズルＮによって形成されるノズル列のＸ矢印方向の幅が、前記配向膜形成面２５ａのＸ矢印方向の幅と相対するようになっている。

すなわち、本実施形態における液滴吐出装置３０は、第１吐出ヘッドＦＨ１と第２吐出ヘッドＦＨ２をＸ矢印方向に沿って交互に配設することによって、配向膜形成面２５ａのＸ矢印方向全幅にわたり、Ｘ矢印方向のピッチ幅がノズルピッチ幅Ｐｎとなる連続したノズルＮを対峙可能にしている。

本実施形態では、各第２吐出ヘッドＦＨ２のノズル列において、その最もＸ矢印方向側及び最も反Ｘ矢印方向側のノズルＮを、それぞれ積層ノズルＮＥ１及び積層ノズルＮＥ２
という。

図７に示すように、各ノズルＮのＺ矢印方向には、それぞれ圧力室としてのキャビティ４２が形成されている。キャビティ４２は、図示しない供給路を介して前記収容タンク３７内に連通し、収容タンク３７の導出する前記配向膜形成液Ｆが導入されるようになっている。そして、キャビティ４２は、導入された配向膜形成液Ｆを、それぞれ対応するノズルＮに供給するようになっている。キャビティ４２のＺ矢印方向には、Ｚ矢印方向及び反Ｚ矢印方向に振動可能に貼り付けられた振動板４３が備えられて、キャビティ４２内の容積を拡大・縮小するようになっている。振動板４３のＺ矢印方向には、各ノズルＮに対応する圧電素子ＰＺが配設されている。圧電素子ＰＺは、その圧電素子ＰＺを駆動制御するための信号（圧電素子駆動信号ＣＯＭ１：図１２参照）を受けて収縮・伸張し、前記振動板４３を、Ｚ矢印方向及び反Ｚ矢印方向に振動させるようになっている。

そして、搬送される配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向の端部が前記第１ヘッド列ＬＨ１の直下に侵入して、各第１吐出ヘッドＦＨ１の圧電素子ＰＺが収縮・伸張する。すると、第１吐出ヘッドＦＨ１の各キャビティ４２内の容積が拡大・縮小して、縮小した容積に対応する配向膜形成液Ｆが、各第１吐出ヘッドＦＨ１の全てのノズルＮから、一斉に微小液滴Ｆｂとして吐出される。吐出された微小液滴Ｆｂは、反Ｚ矢印方向に沿って飛行して、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向の端部に一斉に着弾する。

図８（ａ）〜（ｃ）は、配向膜形成面２５ａに着弾した第１吐出ヘッドＦＨ１からの微小液滴Ｆｂを説明する説明図であって、図８（ａ）は各吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２をキャリッジ３９側から見た平面図であり、図８（ｂ）は配向膜形成面２５ａをキャリッジ３９側から見た平面図である。また、図８（ｃ）は、図８（ｂ）のＡ−Ａに沿う概略要部断面図である。

第１ヘッド列ＬＨ１からの微小液滴Ｆｂは、配向膜形成面２５ａに着弾して、配向膜形成面２５ａ及び大気との境界領域の表面エネルギーを最小にするように流動する。すなわち、第１ヘッド列ＬＨ１からの微小液滴Ｆｂは、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示すように、配向膜形成面２５ａ上であって、各第１吐出ヘッドＦＨ１のノズル列と相対する位置に、前記微小液滴Ｆｂの合一したＸ矢印方向に延びる帯状の第１液滴ＦＤ１（図８（ｂ）における破線）を形成する。第１液滴ＦＤ１は、そのＸ矢印方向の幅が、前記ノズル列幅Ｗｎよりも若干大きい幅で形成される。

そして、基板２１（配向膜形成面２５ａ）がＹ矢印方向に搬送されて、第１吐出ヘッドＦＨ１からの微小液滴Ｆｂの吐出が繰り返されると、第１液滴ＦＤ１が、配向膜形成面２５ａの搬送された分だけ、Ｙ矢印方向に延びるように連結して、連結した第１液滴ＦＤ１からなる下層液状膜２６Ｌ１を形成する。

続いて、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向の端部がＹ矢印方向に前記ヘッド幅Ｗｈだけ搬送されて、第２吐出ヘッドＦＨ２の各圧電素子ＰＺが収縮・伸張すると、各第２吐出ヘッドＦＨ２の全てのノズルＮから、微小液滴Ｆｂが吐出される。吐出された微小液滴Ｆｂは、反Ｚ矢印方向に沿って飛行して、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向の端部に着弾する。

図９（ａ）〜図９（ｃ）は、配向膜形成面２５ａに着弾した第２吐出ヘッドＦＨ２からの微小液滴Ｆｂを説明するための説明図であって、図９（ａ）は各吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２をキャリッジ３９側から見た平面図であり、図９（ｂ）は、配向膜形成面２５ａをキャリッジ３９側から見た平面図である。また、図９（ｃ）は、図９（ｂ）のＡ−Ａに沿う概略要部断面図を示す。

配向膜形成面２５ａに着弾した第２ヘッド列ＬＨ２からの微小液滴Ｆｂは、配向膜形成面２５ａ及び大気との境界領域の表面エネルギーを最小にするように流動する。そして、図９（ａ）及び図９（ｂ）に示すように、第２ヘッド列ＬＨ２のノズル列と相対する位置に、Ｘ矢印方向に沿って、前記微小液滴Ｆｂの合一したＸ矢印方向に延びる帯状の第２液滴ＦＤ２（図９（ｂ）における破線）を形成する。第２液滴ＦＤ２は、そのＸ矢印方向の幅が、前記ノズル列幅Ｗｎよりも若干大きい幅で形成される。

そして、第２液滴ＦＤ２のＸ矢印方向の両端部は、先行して形成された前記下層液状膜２６Ｌ１の端部に重なって、図９（ｃ）に示すように、積層ノズルＮＥ１，ＮＥ２の直下に頭頂部を有してＺ矢印方向に盛り上がる隆起部ＦＤＴ（境界領域としての積層領域）を形成する。また、各隆起部ＦＤＴの第１液滴ＦＤ１側に、第２液滴ＦＤ２の重ならない第１液滴ＦＤ１の端部（非積層領域としての凹部ＦＤＢ）を形成する。

この際、前記隆起部ＦＤＴ及び前記凹部ＦＤＢは、その凹凸差が数μｍ程度と小さく、隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢを平坦化することによって得られる第２液滴ＦＤ２（第１液滴ＦＤ１）の表面エネルギーの変化を小さくする。

その結果、隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢの平坦化によって得られるエネルギーでは、第１液滴ＦＤ１及び第２液滴ＦＤ２を流動させることができず、第２液滴ＦＤ２（第１液滴ＦＤ１）に対して外部からエネルギーを加えない限り、隆起部ＦＤＴと凹部ＦＤＢの凹凸差が維持される。

そして、基板２１（配向膜形成面２５ａ）がＹ矢印方向に搬送されて、第１吐出ヘッドＦＨ１及び第２吐出ヘッドＦＨ２からの微小液滴Ｆｂの吐出が繰り返されると、図９（ｂ）に示すように、第２液滴ＦＤ２が、配向膜形成面２５ａの搬送された分だけ、Ｙ矢印方向に延びるように連結して、連結した第２液滴ＦＤ２からなる上層液状膜２６Ｌ２を形成する。これと同時に、第２液滴ＦＤ２が、配向膜形成面２５ａの搬送された分だけ、前記隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢを、Ｙ矢印方向に沿って形成する。

すなわち、配向膜形成面２５ａ上には、第１ヘッド列ＬＨ１及び第２ヘッド列ＬＨ２からの微小液滴Ｆｂの吐出によって、下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２からなる液状膜２６Ｌが形成されて、下層液状膜２６Ｌ１と上層液状膜２６Ｌ２の境界に、そのＹ矢印方向の全幅にわたる前記隆起部ＦＤＴ及び前記凹部ＦＤＢが形成される。
図５に示すように、キャリッジ３９のヘッド配設面３９ａであって、前記各積層ノズルＮＥ１，ＮＥ２のＹ矢印方向側には、エネルギービーム照射手段を構成する照射口４５が形成されている。照射口４５は、Ｙ矢印方向に延びるように、キャリッジ３９の内部まで貫通形成された貫通孔であって、そのＹ矢印方向の幅が、ビーム長Ｗｂで形成されている。

図１０に示すように、キャリッジ３９の内部には、前記照射口４５に対応して、エネルギービーム照射手段を構成する半導体レーザＬＤが備えられている。半導体レーザＬＤは、その半導体レーザＬＤを駆動制御するための信号（レーザ駆動信号ＣＯＭ２：図１２参照）を受けて、エネルギービームとしてのレーザビームＢを出力するようになっている。本実施形態におけるレーザビームＢは、前記下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２の分散媒を蒸発可能にする波長領域、あるいはその光エネルギーが前記下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２を構成する分子の並進運動に変換可能な波長領域の光である。

キャリッジ３９の内部であって、前記各半導体レーザＬＤの照射口４５側には、半導体レーザＬＤ側から順に、コリメータ４６、シリンドリカルレンズ４７、走査手段を構成す
るポリゴンミラー４８及び走査レンズ４９が備えられている。各コリメータ４６は、半導体レーザＬＤの出射するレーザビームＢを平行光束にして、対応するシリンドリカルレンズ４７に導くようになっている。各シリンドリカルレンズ４７は、Ｚ矢印方向にのみ曲率を有するレンズであって、ポリゴンミラー４８の面倒れを補正して、Ｙ矢印方向（図１０において紙面に垂直方向）に延びる帯状のレーザビームＢを、ポリゴンミラー４８に導くようになっている。

各ポリゴンミラー４８は、前記照射口４５と相対する位置に配設されて、正三十六角形を構成する位置に配置された３６枚の反射面Ｍを有し、Ｙ矢印方向（図１０において紙面に垂直方向）の幅が、前記照射口４５と同じく、前記ビーム長Ｗｂで形成されている。各ポリゴンミラー４８は、ポリゴンモータ（図１２参照）によって回転駆動されて、前記積層ノズルＮＥ１及び前記積層ノズルＮＥ２に対応して、各反射面Ｍを、それぞれ矢印Ｒ１方向及び矢印Ｒ２方向に回転させるようになっている。そして、各ポリゴンミラー４８は、シリンドリカルレンズ４７から導入される帯状のレーザビームＢを、対応する反射面Ｍによって偏向反射し、偏向反射したレーザビームＢを、対応する走査レンズ４９に導くようになっている。そして、各ポリゴンミラー４８は、その回転角θｐが矢印Ｒ１方向（矢印Ｒ２方向）に１０°回転する毎に、レーザビームＢの導入される反射面Ｍを、後続する反射面Ｍに切り替える。尚、本実施形態における各ポリゴンミラー４８の回転速度は、前記搬送速度Ｖｙよりも十分速い速度で回転するようになっている。

各走査レンズ４９は、いわゆるｆθレンズであって、対応するポリゴンミラー４８によって偏向反射されたレーザビームＢを、前記配向膜形成面２５ａ上に導き、その配向膜形成面２５ａ上での走査速度を一定に制御するようになっている。走査レンズ４９は、その光軸４９Ａが、Ｙ矢印方向から見て、対応する積層ノズルＮＥ１，ＮＥ２の中心軸と相対する位置に配設されている。

本実施形態では、図１０に示すように、レーザビームＢが、ポリゴンミラー４８の反射面Ｍの矢印Ｒ１方向側端部（矢印Ｒ２方向側端部）に導入される状態を、ポリゴンミラー４８の回転角θｐが０°であるという。詳述すると、本実施形態では、ポリゴンミラー４８の反射偏向したレーザビームＢの偏向角が、走査レンズ４９の光軸４９Ａを基準として、偏向角θ１だけ偏向されるときを、ポリゴンミラー４８の回転角θｐが０°であるという。尚、本実施形態における偏向角θ１は、積層ノズルＮＥ１に相対する側で約５°であり、積層ノズルＮＥ２に相対する側で約−５°である。

そして、各ポリゴンミラー４８の回転角θｐが０°のときに、レーザビームＢがシリンドリカルレンズ４７に導入されると、シリンドリカルレンズ４７は、紙面に垂直な方向に対するレーザビームＢの光軸を調整して、レーザビームＢをポリゴンミラー４８に導く。レーザビームＢの導入されたポリゴンミラー４８は、反射面Ｍ（反射面Ｍａ）によって、レーザビームＢを、光軸４９Ａに対する偏向角θ１の方向に反射偏向し、走査レンズ４９を介して、配向膜形成面２５ａに導く。配向膜形成面２５ａに導かれたレーザビームＢは、そのＹ軸方向の幅が前記ビーム長Ｗｂとなる帯状のレーザビーム断面（ビームスポットＢｓ：図１１（ｂ）の破線及び実線参照）を配向膜形成面２５ａ上に成形する。

本実施形態では、前記回転角θｐが０°のときに、前記ビームスポットＢｓの成形される位置を走査開始位置Ｐｅ１という。図１０に示すように、この走査開始位置Ｐｅ１は、Ｙ矢印方向側から見て、各積層ノズルＮＥ１，ＮＥ２の中心軸上（前記走査レンズ４９の光軸４９Ａ）、すなわち前記隆起部ＦＤＴの頭頂部よりも、前記偏向角θ１の分だけ、上層液状膜２６Ｌ２側に位置する。

続いて、各ポリゴンミラー４８を矢印Ｒ１方向（矢印Ｒ２方向）に回転し、その回転角
θｐが略１０°になる。すると、各ポリゴンミラー４８は、その反射面Ｍａの反矢印Ｒ１方向側（反矢印Ｒ２側）の端部によって、図１０の破線で示すように、レーザビームＢを、光軸４９Ａに対する偏向角θ２の方向に偏向反射し、走査レンズ４９を介して、配向膜形成面２５ａ上に導く。配向膜形成面２５ａに導かれたレーザビームＢは、そのＹ軸方向の幅が前記ビーム長Ｗｂとなる帯状のビームスポットＢｓ（図１１（ｂ）の実線参照）を配向膜形成面２５ａ上に成形する。尚、本実施形態の偏向角θ２は、積層ノズルＮＥ１に相対する側で約−５°であり、積層ノズルＮＥ２に相対する側で約５°である。

本実施形態では、回転角θｐが略１０°のときに、前記ビームスポットＢｓの成形される配向膜形成面２５ａ上の位置を走査終了位置Ｐｅ２とし、この走査終了位置Ｐｅ２と前記走査開始位置Ｐｅ１との間の領域を走査領域Ｌｓという。図１０に示すように、走査終了位置Ｐｅ２は、Ｙ矢印方向側から見て、各積層ノズルＮＥ１，ＮＥ２の中心軸上（前記走査レンズ４９の光軸４９Ａ）、すなわち前記隆起部ＦＤＴの頭頂部よりも、前記偏向角θ２の分だけ、下層液状膜２６Ｌ１側（凹部ＦＤＢ側）に位置する。

つまり、ビームスポットＢｓは、ポリゴンミラー４８の偏向反射によって、前記隆起部ＦＤＴの上層液状膜２６Ｌ２側から、前記隆起部ＦＤＴを介して、前記凹部ＦＤＢ側に向かって走査されるようになっている。

そして、前記隆起部ＦＤＴ及び前記凹部ＦＤＢを有した液状膜２６Ｌが、前記走査領域Ｌｓ内に搬送されるときに、前記ポリゴンモータＭＰを回転駆動して半導体レーザＬＤからレーザビームＢを出射する。すると、レーザビームＢのビームスポットＢｓが、各隆起部ＦＤＴの上層液状膜２６Ｌ２側から、対応する凹部ＦＤＢに向かって繰り返し走査される。

図１１（ａ）〜図１１（ｃ）は、レーザビームＢの走査された下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２を説明するための説明図であって、図１１（ａ）は照射口４５をキャリッジ３９側から見た平面図であり、前記図１１（ｂ）は液状膜２６Ｌ（下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２）をキャリッジ３９側から見た平面図である。また、図１１（ｃ）は、図１１（ｂ）のＡ−Ａに沿う概略要部断面図である。

前記隆起部ＦＤＴ及び前記凹部ＦＤＢを有した液状膜２６Ｌが、前記走査領域Ｌｓに侵入する。すると、Ｙ矢印方向に延びる帯状のビームスポットＢｓ（図１１（ｂ）における破線）が、前記液状膜２６Ｌに対して、相対的に、前記ポリゴンミラー４８の走査方向（Ｘ矢印方向あるいは反Ｘ矢印方向）と前記基板ステージ３３の搬送方向（Ｙ矢印方向）を合成した方向（図１１（ｂ）の矢印方向）に走査される。すなわち、走査開始位置Ｐｅ１のビームスポットＢｓが、前記液状膜２６Ｌに対して、各隆起部ＦＤＴから対応する凹部ＦＤＢに向かう方向と、各隆起部ＦＤＴ（各凹部ＦＤＢ）の延びる方向を合成した方向に相対移動し、前記走査終了位置Ｐｅ２まで走査される。

この際、レーザビームＢからの光エネルギーは、液状膜２６Ｌの局部でのみ、分子の励起エネルギーとして変換され、前記分散媒等の振動エネルギーや、レーザビームＢ（フォトン）の入射方向に沿う前記分散媒等の並進運動エネルギーに変換される。換言すれば、レーザビームＢからの光エネルギーは、ビームスポットＢｓの近傍の分散媒を局所的に蒸発する、あるいはビームスポットＢｓの近傍の分散媒に、その入射方向に沿う並進運動エネルギーを付与する。

その結果、走査領域Ｌｓ内の液状膜２６Ｌは、蒸発する分散媒からの反作用やレーザビームＢの入射方向に沿う応力を受けて、レーザビームＢ（ビームスポットＢｓ）の走査方向に流動する。すなわち、走査領域Ｌｓの液状膜２６Ｌは、上層液状膜２６Ｌ２（隆起部
ＦＤＴ）側から下層液状膜２６Ｌ１（凹部ＦＤＢ）側に向かう方向と、前記隆起部ＦＤＴ（凹部ＦＤＢ）の延びる方向に流動して、前記隆起部ＦＤＴの領域の配向膜形成液Ｆを、前記凹部ＦＤＢの領域に流動する。

そして、基板２１（配向膜形成面２５ａ）がＹ矢印方向に搬送されて、照射口４５からのレーザビームＢの走査が繰り返されると、図１１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、液状膜２６Ｌは、配向膜形成面２５ａの搬送された分だけ、前記隆起部ＦＤＴ及び前記凹部ＦＤＢが消失して、下層液状膜２６Ｌ１と上層液状膜２６Ｌ２の境界が平坦化される、すなわち液状膜２６Ｌの膜厚が均一になる。

次に、上記のように構成した液滴吐出装置３０の電気的構成を図１０に従って説明する。
図１２において、制御装置５０には、ＣＰＵ等からなる制御部５１、ＤＲＡＭ及びＳＲＡＭからなり各種データを格納するＲＡＭ５２、各種制御プログラムを格納するＲＯＭ５３が備えられている。また、制御装置５０には、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を生成する駆動信号生成回路５４、前記レーザ駆動信号ＣＯＭ２を生成する電源回路５５、各種信号を同期するためのクロック信号を生成する発振回路５６等が備えられている。そして、制御装置５０には、これら制御部５１、ＲＡＭ５２、ＲＯＭ５３、駆動信号生成回路５４、電源回路５５及び発振回路５６が、図示しないバスを介して接続されている。

制御装置５０には、入力装置６１が接続されている。入力装置６１は、起動スイッチ、停止スイッチ等の操作スイッチを有し、各スイッチの操作による操作信号を制御装置５０（制御部５１）に出力する。また、入力装置６１は、カラーフィルタ基板１０に形成する配向膜２６（液状膜２６Ｌ）の描画情報を描画データＩａとして制御装置５０に出力する。制御装置５０は、入力装置６１からの描画データＩａと、ＲＯＭ５３等に格納された制御プログラム（例えば、配向膜製造プログラム）に従って、基板ステージ３３を移動させて基板２１（配向膜形成面２５ａ）の搬送処理動作を行い、吐出ヘッドＦＨの各圧電素子ＰＺを駆動させて液滴吐出処理動作を行う。また、制御装置５０は、配向膜製造プログラムに従って、半導体レーザＬＤを駆動させて液状膜２６Ｌを平坦化させる平坦化処理動作を行う。

詳述すると、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに所定の展開処理を施し、二次元描画平面（配向膜形成面２５ａ）上における位置に、微小液滴Ｆｂを吐出するか否かを示すビットマップデータＢＭＤを生成し、生成したビットマップデータＢＭＤをＲＡＭに格納するようになっている。このビットマップデータＢＭＤは、各ビットの値（０あるいは１）に応じて、前記圧電素子ＰＺのオンあるいはオフ（微小液滴Ｆｂを吐出するか否か）を規定するものである。そして、制御部５１は、前記ビットマップデータＢＭＤを、発振回路５６の生成するクロック信号に同期させて、各スキャン（基板ステージ２３の１回の往動もしくは復動分）毎のデータを、吐出制御データＳＩとして、後述する吐出ヘッド駆動回路６７に逐次転送するようになっている。

また、制御部５１は、入力装置６１からの描画データＩａに前記ビットマップデータＢＭＤの展開処理と異なる展開処理を施し、描画条件に応じた圧電素子駆動信号ＣＯＭ１の波形データを生成して駆動信号生成回路５４に出力するようになっている。駆動信号生成回路５４は、制御部５１からの波形データを図示しない波形メモリに格納する。そして、駆動信号生成回路５４は、格納した波形データをデジタル／アナログ変換して、アナログ信号の波形信号を増幅することによって、対応する圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を生成するようになっている。そして、制御部５１は、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、発振回路５６の生成するクロック信号に同期させて、後述する吐出ヘッド駆動回路６７に出力するようになっている。

図１２に示すように、制御装置５０には、Ｘ軸モータ駆動回路６２が接続されて、Ｘ軸モータ駆動回路６２にＸ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｘ軸モータ駆動回路６２は、制御装置５０からのＸ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記キャリッジ３９を往復移動させるＸ軸モータＭＸを正転又は逆転させるようになっている。そして、例えば、Ｘ軸モータＭＸを正転させると、キャリッジ３９はＸ矢印方向に移動し、逆転させると、キャリッジ３９は反Ｘ矢印方向に移動するようになっている。

制御装置５０には、Ｙ軸モータ駆動回路６３が接続され、Ｙ軸モータ駆動回路６３にＹ軸モータ駆動制御信号を出力するようになっている。Ｙ軸モータ駆動回路６３は、制御装置５０からのＹ軸モータ駆動制御信号に応答して、前記基板ステージ３３を往復移動させるＹ軸モータＭＹを正転又は逆転させるようになっている。例えば、Ｙ軸モータＭＹを正転させると、基板ステージ３３はＹ矢印方向に移動し、逆転させると、基板ステージ３３は反Ｙ矢印方向に移動する。

制御装置５０には、基板検出装置６４が接続されている。基板検出装置６４は、カラーフィルタ基板１０の端縁を検出し、制御装置５０によってキャリッジ３９の直下を通過するカラーフィルタ基板１０（配向膜形成面２５ａ）の位置を算出する際に利用される。

制御装置５０には、Ｘ軸モータ回転検出器６５が接続され、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｘ軸モータ回転検出器６５からの検出信号に基づいて、Ｘ軸モータＭＸの回転方向及び回転量を検出し、キャリッジ３９のＸ矢印方向の移動量と、移動方向とを演算するようになっている。

制御装置５０には、Ｙ軸モータ回転検出器６６が接続され、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号が入力される。制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、Ｙ軸モータＭＹの回転方向及び回転量を検出し、基板ステージ３３のＹ矢印方向の移動方向及び移動量を演算する。

制御装置５０には、吐出ヘッド駆動回路６７が接続されて、その吐出ヘッド駆動回路６７に、前記吐出制御データＳＩと前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を出力するようになっている。吐出ヘッド駆動回路６７は、制御装置５０からの吐出制御データＳＩに応答して、前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を、対応する圧電素子ＰＺに供給するか否かを制御するようになっている。

制御装置５０には、レーザ駆動回路６８が接続されて、そのレーザ駆動回路６８に、前記電源回路５５の生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２を出力するようになっている。レーザ駆動回路６８は、制御装置５０からのレーザ駆動信号ＣＯＭ２に応答して、各半導体レーザＬＤを駆動制御し、レーザビームＢを出射させるようになっている。

制御装置５０には、ポリゴンモータ駆動回路６９が接続されて、基板検出装置６４からの検出信号に基づいて、ポリゴンモータ駆動回路６９に、ポリゴンモータＭＰの回転駆動を開始させるためのポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを出力するようになっている。詳述すると、制御装置５０は、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向側の端部が、前記走査領域Ｌｓ内に侵入するときに、ポリゴンミラー４８の回転角θｐを０°にする所定のタイミングで、前記ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを、ポリゴンモータ駆動回路６９に出力するようになっている。ポリゴンモータ駆動回路６９は、制御装置５０からのポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰに応答して、各ポリゴンモータＭＰにポリゴンモータ駆動信号ＳＰＭを出力するようになっている。そして、制御装置５０が、ポリゴンモータ駆動回路６９にポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを出力すると、ポリゴンモータ駆動回路６９が、各
ポリゴンモータＭＰを回転駆動して、各ポリゴンミラー４８を、対応する方向（矢印Ｒ１方向もしくは矢印Ｒ２方向）に回転駆動する。

次に、液滴吐出装置３０を使ってカラーフィルタ基板１０（配向膜２６）を製造する方法について説明する。
まず、図４に示すように、往動位置に位置する基板ステージ３３上に、基板２１を配置固定する。このとき、基板２１（フィルタ形成面２１ａ）のＹ矢印方向側の辺は、案内部材３６より反Ｘ矢印方向側に配置されている。

この状態から、入力装置６１に描画データＩａを入力して、配向膜製造プログラムを開始するための操作信号を入力する。すると、制御装置５０は、Ｘ軸モータＭＸを駆動制御してキャリッジを往動位置から往動させ、基板２１がＹ矢印方向に移動したときに、各ノズルＮの直下を配向膜形成面２５ａが通過する位置にセットさせる。また、制御装置５０は、Ｙ軸モータＭＹを駆動制御して、基板ステージ３３（配向膜形成面２５ａ）を搬送速度ＶｙでＹ矢印方向に搬送させる。

やがて、基板検出装置６４が基板２１（フィルタ形成面２１ａ）のＹ矢印方向側の端縁を検出すると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向側端部が、第１ヘッド列ＬＨ１の直下まで搬送されたかどうか演算する。

この間、制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、上記する所定のタイミングで、前記ポリゴンモータ駆動開始信号ＳＳＰを、ポリゴンモータ駆動回路６９に出力し、各ポリゴンモータＭＰを回転駆動する。これによって、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向側の端部が、前記走査領域Ｌｓ内に侵入するときに、ポリゴンミラー４８の回転角θｐが０°になる。また、制御装置５０は、配向膜製造プログラムに従って、駆動信号生成回路５４で生成した圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。そして、制御装置５０は、ＲＡＭ５２に格納したビットマップデータＢＭＤに基づく吐出制御データＳＩを吐出ヘッド駆動回路６７に出力するタイミングと、電源回路５５で生成したレーザ駆動信号ＣＯＭ２をレーザ駆動回路６８に出力するタイミングを待つ。

そして、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向側端部が、第１ヘッド列ＬＨ１のノズルＮの直下まで搬送されると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、吐出制御データＳＩを吐出ヘッド駆動回路６７に出力する。吐出ヘッド駆動回路６７は、制御装置５０からの吐出制御データＳＩを受けると、吐出制御データＳＩに基づいて、第１ヘッド列ＬＨ１の各圧電素子ＰＺに前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を供給し、各第１吐出ヘッドＦＨ１の全てのノズルＮから、微小液滴Ｆｂを一斉に吐出させる。吐出された微小液滴Ｆｂは、配向膜形成面２５ａに一斉に着弾して第１液滴ＦＤ１を形成する。そして、制御装置５０は、基板ステージ３３（配向膜形成面２５ａ）をＹ矢印方向に搬送させながら、前記吐出制御データＳＩに基づいた微小液滴Ｆｂの吐出を繰り返させる。これによって、第１液滴ＦＤ１の連結した下層液状膜２６Ｌ１が形成される。

続いて、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向側端部が、第１ヘッド列ＬＨ１のノズルＮの直下から、前記ヘッド幅Ｗｈだけ搬送されて、第２ヘッド列ＬＨ２のノズルＮの直下に搬送される。すると、吐出ヘッド駆動回路６７は、前記吐出制御データＳＩに基づいて、第２ヘッド列ＬＨ２の各圧電素子ＰＺに前記圧電素子駆動信号ＣＯＭ１を供給し、各第２吐出ヘッドＦＨ２の全てのノズルＮから、微小液滴Ｆｂを一斉に吐出させる。吐出された微小液滴Ｆｂは、配向膜形成面２５ａに一斉に着弾して第２液滴ＦＤ２を形成する。そして、制御装置５０は、基板ステージ３３（配向膜形成面２５ａ）をＹ矢印方向に搬送させな
がら、前記吐出制御データＳＩに基づいた微小液滴Ｆｂの吐出を繰り返させる。これによって、第２液滴ＦＤ２の連結した上層液状膜２６Ｌ２が形成され、Ｙ矢印方向に延びる隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢを有した液状膜２６Ｌが形成される。

そして、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向側端部が、各走査領域Ｌｓ内に侵入すると、制御装置５０は、Ｙ軸モータ回転検出器６６からの検出信号に基づいて、前記レーザ駆動信号ＣＯＭ２をレーザ駆動回路６８に出力する。レーザ駆動回路６８は、制御装置５０からのレーザ駆動信号ＣＯＭ２を受けると、各半導体レーザＬＤに前記レーザ駆動信号ＣＯＭ２を供給し、各半導体レーザＬＤに、レーザビームＢを出射させる。各半導体レーザＬＤから出射されたレーザビームＢは、回転角θｐが０°の各ポリゴンミラー４８によって偏向反射されて、液状膜２６Ｌ上の各走査開始位置Ｐｅ１に、Ｙ矢印方向に延びるビームスポットＢｓを成形する。各走査開始位置Ｐｅ１に形成されたビームスポットＢｓは、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向に沿う搬送と、ポリゴンミラー４８の矢印Ｒ１方向（矢印Ｒ２方向）の回転駆動によって、以下のように走査される。

すなわち、ビームスポットＢｓは、前記液状膜２６Ｌに対して、各隆起部ＦＤＴの上層液状膜２６Ｌ２から、対応する凹部ＦＤＢに向かう方向と、各隆起部ＦＤＴ（各凹部ＦＤＢ）の延びる方向を合成した方向に相対移動して、各走査終了位置Ｐｅ２まで走査される。これによって、各走査領域Ｌｓ内の液状膜２６Ｌ（隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢ）が平坦化されて、その膜厚が均一になる。

以後、同様に、制御装置５０は、基板ステージ３３（配向膜形成面２５ａ）をＹ矢印方向に搬送させながら、第１及び第２吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２からの微小液滴Ｆｂの吐出を繰り返し、走査領域Ｌｓ内に侵入した液状膜２６Ｌを平坦化する。これによって、配向膜形成面２５ａの全面に、膜厚の均一な液状膜２６Ｌが形成される。

そして、制御装置５０は、全ての配向膜形成面２５ａに平坦な液状膜２６Ｌを形成すると、Ｙ軸モータＭＹを制御して、基板ステージ３３（基板２１）を往動位置に配置させる。そして、往動位置に配置された基板２１を搬出し、前記液状膜２６Ｌに、所定の乾燥処理工程（例えば、減圧乾燥工程、熱乾燥工程、レーザ照射乾燥工程等）と所定の配向処理工程を施すことによって、配向膜形成面２５ａ上に、均一な配向処理の施された配向膜２６を形成する。

次に、上記のように構成した本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、先行して形成した下層液状膜２６Ｌ１の端部に、後続する上層液状膜２６Ｌ２の端部を積層し、これら下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２の重なる積層領域に対して、その配向膜形成液Ｆを流動可能なレーザビームＢを照射するようにした。その結果、隆起部ＦＤＴの配向膜形成液Ｆを凹部ＦＤＢに流動させることができ、液状膜２６Ｌの平坦性、ひいては配向膜２６の形状制御性を向上することができる。

（２）上記実施形態によれば、ポリゴンミラー４８の回転駆動によって、ビームスポットＢｓを、隆起部ＦＤＴ側（上層液状膜２６Ｌ２側）から、対応する凹部ＦＤＢ側（下層液状膜２６Ｌ１側）に走査するようにした。その結果、隆起部ＦＤＴの配向膜形成液Ｆを、より効果的に凹部ＦＤＢに流動させることができ、液状膜２６Ｌの平坦性を、さらに向上することができる。

（３）上記実施形態によれば、基板ステージ３３をＹ矢印方向に搬送して、配向膜形成面２５ａを、ビームスポットＢｓに対して、相対的に、反Ｙ矢印方向に走査するようにした。その結果、液状膜２６ＬのＹ矢印方向全幅に形成される隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢ
を、確実に平坦化することができる。

（４）上記実施形態によれば、下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２を形成した直後に、レーザビームＢを照射するようにした。その結果、下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２が乾燥する前に、液状膜２６Ｌの配向膜形成液Ｆを流動させることができる。従って、液状膜２６Ｌの平坦性を、確実に向上することができる。

（５）上記実施形態によれば、各積層ノズルＮＥ１及びＮＥ２のＹ矢印方向にレーザビームＢを照射する照射口４５を設けて、各隆起部ＦＤＴ及び各凹部ＦＤＢに、それぞれ対応するビームスポットＢｓを走査するようにした。その結果、複数の第１及び第２吐出ヘッドＦＨ１，ＦＨ２によって、平坦化した液状膜２６Ｌを、広範囲にわたり形成することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を、図１３に従って説明する。尚、第２実施形態では、第１実施形態におけるレーザビームＢの光学系を変更した構成である。そのため以下では、光学系の変更点ついて詳細に説明する。

図１３において、各半導体レーザＬＤの照射口４５側には、第１実施形態に示すコリメータ４６と回折素子７０が配設されている。半導体レーザＬＤは、下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２の分散媒を蒸発可能にする波長領域、あるいはその光エネルギーが前記下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２を構成する分子の並進運動に変換可能な波長領域の光であって、コヒーレント光である。

回折素子７０は、そのＸ矢印方向の中心位置が、前記隆起部ＦＤＴの頭頂部と相対可能な位置に配設されて、機械的あるいは電気的に駆動し、第１実施形態に示す制御装置５０からの回折素子駆動制御信号を受けて、コリメータ４６を介した半導体レーザＬＤからのレーザビームＢに、予め設定された所定の位相変調を施すようになっている。そして、半導体レーザＬＤ及び回折素子７０に、それぞれレーザ駆動信号ＣＯＭ２及び前記回折素子駆動制御信号が供給されると、半導体レーザＬＤからのレーザビームＢに、回折素子７０による所定の位相変調が施され、前記隆起部ＦＤＴに、所定の強度分布からなるビームスポットＢｓを成形する。

詳述すると、ビームスポットＢｓは、隆起部ＦＤＴの頭頂部から前記上層液状膜２６Ｌ２側に成形される第１ビームスポットＢｓ１と、隆起部ＦＤＴの頭頂部から前記下層液状膜２６Ｌ１側に成形される第２ビームスポットによって構成されている。これら第１ビームスポットＢｓ１及び第２ビームスポットＢｓ２は、それぞれ照射する液状膜２６Ｌの膜厚に相対した強度分布によって成形されている。

すなわち、第１ビームスポットＢｓ１及び第２ビームスポットＢｓ２は、それぞれ隆起部ＦＤＴの頭頂部で最も強い照射強度を有し、下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２側に向かうに連れて、徐々に、その照射強度が弱くなるように成形されている。そして、第１ビームスポットＢｓ１の平均照射強度が、第２ビームスポットＢｓ２の平均照射強度よりも強くなるように成形されている。

そして、隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢを有した配向膜形成面２５ａ（液状膜２６Ｌ）が前記ビームスポットＢｓ内に侵入すると、隆起部ＦＤＴの頭頂部近傍に、最も強い照射強度のレーザビームＢが照射され、その頭頂部の上層液状膜２６Ｌ２側に、対向する下層液状膜２６Ｌ１側よりも強い強度のレーザビームＢが照射される。すると、レーザビームＢの照射された前記頭頂部近傍の配向膜形成液Ｆは、蒸発する分散媒からの反作用やレーザビームＢの入射方向に沿う応力を受けて、照射強度の弱い下層液状膜２６Ｌ１側、すなわ
ち凹部ＦＤＢ側に流動する。これによって、ビームスポットＢｓ内に侵入した液状膜２６Ｌ（隆起部ＦＤＴ及び凹部ＦＤＢ）が平坦化されて、配向膜形成面２５ａの全面に、膜厚の均一な液状膜２６Ｌが形成される。

次に、上記のように構成した第２実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、半導体レーザＬＤからのレーザビームＢに回折素子７０による位相変調を施し、隆起部ＦＤＴ近傍の膜厚に相対する照射強度のビームスポットＢｓを形成するようにした。そして、隆起部ＦＤＴの頭頂部に最も強い照射強度のレーザビームＢを照射し、頭頂部の上層液状膜２６Ｌ２側に、対向する下層液状膜２６Ｌ１側よりも強い強度のレーザビームＢを照射するようにした。

その結果、ビームスポットＢｓを、配向膜形成面２５ａに対して、相対的に、Ｙ矢印方向に走査するだけで、膜厚の均一な液状膜２６Ｌを形成することができる。従って、液状膜２６Ｌの平坦性、ひいては配向膜２６の形状制御性を、より簡便な構成によって向上することができる。

（２）上記実施形態によれば、半導体レーザＬＤからのレーザビームＢをコヒーレント光で構成した。その結果、第１ビームスポットＢｓ１及び第２ビームスポットＢｓ２の強度分布を、より高い精度で成形することができ、液状膜２６Ｌの平坦性、ひいては配向膜２６の形状制御性を、より確実に向上することができる。

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○上記実施形態では、液状膜２６Ｌ上に、直接レーザビームＢを照射するようにした。これに限らず、例えば、図１４に示すように、液状膜２６Ｌ上に、レーザビームＢを透過して、配向膜形成液Ｆの蒸発を抑制するカバー７１を配設し、そのカバー７１を介して、ビームスポットＢｓを走査するようにしてもよい。これによれば、配向膜形成液Ｆの蒸発を抑制する分だけ、配向膜形成液Ｆの流動性を保持することができる。その結果、液状膜２６Ｌの平坦化を促進することができ、パターン（配向膜２６）の形状制御性（均一性）を向上することができる。

○上記実施形態では、第１液滴ＦＤ１と第２液滴ＦＤ２の吐出によって、下層液状膜２６Ｌ１と上層液状膜２６Ｌ２の境界領域に、隆起部ＦＤＴが形成される構成にした。これに限らず、例えば、第１液滴ＦＤ１と第２液滴ＦＤ２の吐出によって、下層液状膜２６Ｌ１と上層液状膜２６Ｌ２の境界領域に、液状膜の膜厚が薄くなる凹部のみが形成される構成であってもよく、あるいは液状膜の形成されない空間が形成される構成であってもよい。この際、レーザビームＢを、膜厚の厚い液状膜２６Ｌの領域から膜厚の薄い液状膜２６Ｌの領域に向かって照射する、あるいは走査することによって、液状膜２６Ｌを平坦化することができる。

○上記実施形態では、ビームスポットＢｓを走査して液状膜２６Ｌを平坦化するように構成した。これに限らず、例えばレーザビームＢの走査によって、走査領域Ｌｓ（隆起部ＦＤＴ）の液滴を流動させて、液状膜２６Ｌの走査領域Ｌｓに、膜厚の薄い凹部を形成するようにしてもよい。

○上記実施形態では、エネルギービームをレーザビームＢとして具体化し、そのレーザビームＢの波長領域が、配向膜形成液Ｆを蒸発可能、あるいはその光エネルギーが配向膜形成液Ｆの構成分子の並進運動に変換可能となる領域で構成した。これに限らず、被吐出面に着弾した液滴（下層液状膜２６Ｌ１及び上層液状膜２６Ｌ２の配向膜形成液Ｆ）を流動可能なエネルギービーム（例えば、インコヒーレント光、電子ビーム、イオンビーム、さらにはプラズマ光等）であればよい。

○上記実施形態では、レーザビームＢの照射によって、液状膜２６Ｌを平坦化するようにした。これに限らず、液状膜２６Ｌを平坦化した後に、照射強度の強いレーザビームＢを照射して、液状膜２６Ｌを乾燥するようにしてもよい。

○上記第１実施形態では、レーザビームＢ（ビームスポットＢｓ）のＸ矢印方向に沿う走査手段を、ポリゴンミラー４８によって具体化した。これに限らず、例えば液晶等の空間光変調器や回折素子等からなる光学系によって走査手段を構成してもよく、レーザビームＢを、積層領域から非積層領域まで走査可能な走査手段であればよい。

さらには、図１５に示すように、上記する走査手段を設けることなく、各隆起部ＦＤＴ（積層領域）から、対応する凹部ＦＤＢ（非積層領域）に向かう方向の成分を有したレーザビームＢを、各隆起部ＦＤＴ（積層領域）側から照射するだけの構成であってもよい。

あるいは、図１６に示すように、上記する走査手段を設けることなく、隆起部ＦＤＴから、対応する上層液状膜２６Ｌ２の反Ｙ矢印方向側に延びる帯状のビームスポットＢｓを成形し、配向膜形成面２５ａ（基板ステージ３３）のＹ矢印方向の搬送、すなわち前記帯状のビームスポットＢｓの相対的な走査によって、液状膜２６Ｌを平坦化するようにしてもよい。

これらの構成によれば、液状膜２６Ｌの平坦性、ひいては配向膜２６の形状制御性を、より簡便な構成によって向上することができる。
○上記実施形態では、基板ステージ３３によって、レーザビームＢのＹ矢印方向に沿う走査手段を構成し、液状膜２６Ｌに対して、レーザビームＢを、隆起部ＦＤＴに沿って相対的に走査をするようにした。これに限らず、例えば上記する走査手段を設けることなく、配向膜形成面２５ａのＹ矢印方向全幅にわたる帯状のビームスポットＢｓを成形し、液状膜２６ＬのＹ矢印方向全幅に、レーザビームＢを１回だけ照射する構成にしてもよい。

○上記実施形態では、パターンを配向膜２６（液状膜２６Ｌ）として具体化した。これに限らず、配向膜形成液Ｆを各種膜形成材料からなる膜形成液に変更して、対向電極２５等の金属膜や、着色層２４、オーバーコート層、保護層等の絶縁膜に具体化してもよく、さらには、各種レジスト膜に具体化してもよい。

○上記実施形態では、ビームスポットＢｓをＹ矢印方向に延びる帯状に成形したが、これに限らず、例えば円形や矩形のビームスポットであってもよい。
○上記実施形態では、液滴吐出装置３０のキャリッジ３９に半導体レーザＬＤ及び照射口４５を配設する構成にした。これに限らず、半導体レーザＬＤや照射口４５は、液状膜２６Ｌの隆起部ＦＤＴ近傍に、レーザビームＢを照射可能な位置に配設されていればよく、例えば液滴吐出装置３０の他に、半導体レーザＬＤ等を備えたレーザ照射装置を別途設け、液滴吐出装置３０によって形成した液状膜２６Ｌを、前記レーザ照射装置に搬送して平坦化する構成であってもよい。

○上記実施形態では、レーザ出力手段を半導体レーザＬＤで具体化したが、これに限らず、例えば炭酸ガスレーザやＹＡＧレーザであってもよく、微小液滴Ｆｂを可能な波長領域のレーザビームを出力するものであればよい。

○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを配向膜２６に具体化した。これに限らず、例えば、電気光学装置をエレクトロルミネッセンス表示装置として具体化し、発光素子形成材料を含む微小液滴Ｆｂを発光素子形成領域に吐出して、パターンとしての発光素子を形成する構成にしてもよい。この構成においても、発
光素子の形状制御性を向上することができ、エレクトロルミネッセンス表示装置の生産性を向上することができる。

○上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置として具体化し、パターンを配向膜に具体化した。これに限らず、平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置（ＦＥＤやＳＥＤ等）を備えた表示装置の絶縁膜や金属配線のパターンに具体化してもよい。

本実施形態の液晶表示装置の斜視図。 同じく、カラーフィルタ基板の斜視図。 同じく、カラーフィルタ基板の概略側断面図。 同じく、液滴吐出装置の概略斜視図。 同じく、液滴吐出ヘッド及び照射口を説明するための平面図。 第１実施形態の液滴吐出ヘッドを説明するための概略断面図。 同じく、液滴吐出ヘッドを説明するための要部概略断面図。 同じく、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ液滴吐出ヘッドの配置と、着弾した液滴を説明するための説明図。 同じく、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ液滴吐出ヘッドの配置と、着弾した液滴を説明するための説明図。 同じく、レーザビームの走査領域を説明するための説明図。 同じく、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ照射口の配置と、着弾した液滴を説明するための説明図。 同じく、液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。 第２実施形態の液滴吐出ヘッドを説明するための要部概略断面図。 変更例の液滴吐出装置を説明する説明図。 変更例の液滴吐出装置を説明する説明図。 変更例の液滴吐出装置を説明する説明図。 従来例の液滴吐出装置を説明する説明図であって、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ液滴吐出ヘッドの配置と着弾した液滴を説明するための説明図。

符号の説明

１…電気光学装置としての液晶表示装置、２５ａ…被吐出面としての配向膜形成面、２６…パターンとしての配向膜、３０…液滴吐出装置、３３…走査手段を構成する基板ステージ、４５…エネルギービーム照射手段を構成する照射口、４８…走査手段を構成するポリゴンミラー、７１…カバー、Ｂ…レーザビーム、Ｂｓ…ビームスポット、Ｆｂ…微小液滴、ＦＤ１…第１液滴、ＦＤ２…第２液滴、ＦＤＴ…境界領域及び積層領域としての隆起部、ＦＤＢ…非積層領域としての凹部、ＦＨ…液滴吐出手段を構成する液滴吐出ヘッド、ＬＤ…エネルギービーム照射手段を構成する半導体レーザ。

Claims (19)

1. パターン形成材料を含む液滴を被吐出面に吐出する液滴吐出手段を備えた液滴吐出装置において、
   異なるタイミングで着弾した前記液滴の境界領域に、前記境界領域の前記液滴を流動させるエネルギービームを照射するエネルギービーム照射手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
2. 請求項１に記載の液滴吐出装置において、
   前記境界領域は、前記液滴が互いに重なる積層領域であり、前記流動は、前記積層領域の前記液滴を前記被吐出面の非積層領域へ流動させる方向への流動であることを特徴とする液滴吐出装置。
3. 請求項２に記載の液滴吐出装置において、
   前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴に対して、相対的に、前記エネルギービームを前記積層領域から前記非積層領域に走査する走査手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
4. 請求項２又は３に記載の液滴吐出装置において、
   前記エネルギービーム照射手段は、前記積層領域の膜厚に相対した強度のエネルギービームを照射することを特徴とする液滴吐出装置。
5. 請求項２〜４のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
   前記エネルギービーム照射手段は、前記積層領域から前記非積層領域に向かう方向の成分を有したエネルギービームを照射することを特徴とする液滴吐出装置。
6. 請求項２〜４のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
   前記エネルギービーム照射手段は、前記液滴に対して、相対的に、前記積層領域の延びる方向に、前記エネルギービームを走査する走査手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
7. 請求項２〜６のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
   前記液滴吐出手段は、複数の液滴吐出ヘッドを備え、
   前記積層領域は、異なる前記液滴吐出ヘッドの吐出した前記液滴の積層された領域であることを特徴とする液滴吐出装置。
8. 請求項１〜７のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
   前記エネルギービームは、光であることを特徴とする液滴吐出装置。
9. 請求項１〜８のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
   前記エネルギービームは、コヒーレント光であることを特徴とする液滴吐出装置。
10. 請求項１〜９のいずれか１つに記載の液滴吐出装置において、
    前記エネルギービーム照射手段は、前記エネルギービームを透過して前記液滴の領域を覆うカバーを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
11. パターン形成材料を含む液滴を被吐出面に吐出し、被吐出面に着弾した前記液滴を乾燥することによってパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
    異なるタイミングで着弾した前記液滴の境界領域にエネルギービームを照射して、前記境界領域の前記液滴を流動させるようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
12. 請求項１１に記載のパターン形成方法において、
    前記境界領域は、前記液滴が互いに重なる積層領域であり、
    前記積層領域の前記液滴を、前記被吐出面の非積層領域へ流動させるようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
13. 請求項１１又は１２に記載のパターン形成方法において、
    前記液滴を乾燥する前に、前記エネルギービームを照射するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
14. 請求項１２又は１３に記載のパターン形成方法において、
    前記エネルギービームを、前記積層領域から前記非積層領域に向かって走査するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
15. 請求項１２〜１４のいずれか１つに記載のパターン形成方法において、
    前記積層領域の膜厚に相対した強度のエネルギービームを照射するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
16. 請求項１２〜１５のいずれか１つに記載のパターン形成方法において、
    前記積層領域から前記非積層領域に向かう方向の成分を有した前記エネルギービームを照射するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
17. 請求項１２〜１６のいずれか１つに記載のパターン形成方法において、
    前記エネルギービームを、前記積層領域の延びる方向に走査するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
18. 基板の一側面に配向膜形成材料を含む液滴を吐出し、前記一側面に着弾した前記液滴を乾燥することによって配向膜を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
    前記配向膜を、請求項１１〜１７のいずれか１つに記載のパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とする電気光学装置の製造方法。
19. 請求項１８に記載の電気光学装置の製造方法によって製造した電気光学装置。

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