JP2006300842A - 半導体回路、半導体デバイス、および、該半導体回路の検査方法 - Google Patents
半導体回路、半導体デバイス、および、該半導体回路の検査方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】第1のダイオードD1・第1の抵抗素子R1は固定電位点11とテスト端子TESTとの間で直列接続されている。第2のダイオードD2・第2の抵抗素子R2は第2の固定電位点12とテスト端子TESTとの間で直列接続されている。テスト端子TESTに接続する電源の設定で第1の抵抗素子R1・第2の抵抗素子R2に流れる電流を切り替え、第1の抵抗素子R1・第2の抵抗素子R2の片方のみがONする範囲の複数の電流を流して測定することで、第1・第2の抵抗素子R1・R2を1つの端子でテストできる。
【選択図】図1
Description
本発明の一実施形態について図1〜図3に基づいて説明すると以下の通りである。
直流電源15は、テスト端子TESTと、GND14とに接続される。
ここで、VTは熱電圧kT/q(q:電子の電荷量、k:ボルツマン定数、T:絶対温度)を、Isはダイオードの逆方向飽和電流を示す。
このとき、第2のダイオードD2はOFF状態となり、第2のダイオードD2に流れる電流I22はごく微量であるため0に近似され、テスト端子TESTから直流電源15側に流れ出る電流I12−I22は、I12に近似される。
テスト端子TESTに流れる電流I11および電流I22を測定し、その値を式3に当てはめることで、第1の抵抗素子R1の抵抗値を測定することができる。
そのため、正確には、テスト端子TESTから流れ出る電流は、I12−I22となる。しかし、飽和電流IsはシリコンPN接合型ダイオードの場合、通常1×10−15A程であり、I22は約2pAと極めて微小の値となる。一方、I11、I12の値は、例えば、Vcc=3V、R1=1kΩの場合は、I11=2.26mA、I12=2.06mAであり、I22に比べてはるかに大きく、テスト端子TESTから流れ出る電流はI12とほぼ近似できる。
2)の場合、テスト端子TESTに直流電源25側から流れ込む電流I22は式6のようになる。
式5および式6から、式3と同様に下の式7が導かれる。
上記式7にI21およびI22の値を代入することによって、第2の抵抗素子R2の抵抗値を測定することができる。
同様に、既知の電流I21、I22から、第2の抵抗素子R2の検査を行うことが出来る。
[実施形態2]
本発明の別の実施形態について図4に基づいて説明すると以下の通りである。
上記式9により、実施形態1と同様に、電流I11および電流I12の値を用いて、抵抗素子R1および抵抗素子R1を測定することができ、なおかつ、テスト端子TESTになにも接続しない場合にかかる消費電力を大幅に減らすことができる。
[実施形態3]
本発明の別の実施形態について図5〜図7に基づいて説明すると以下の通りである。
また、このとき各トランジスタの特性は、シリコン接合型トランジスタであれば、ダイオードと同様に、ベース−エミッタ間に略0.7Vの電圧を両端子にかけることによってベース−エミッタ間が順方向に導通し、コレクタ−エミッタ間が導通する特性を示す。従って、以下では、第1のトランジスタQ1および第2のトランジスタQ2のそれぞれについて、ベース−エミッタ間の順方向に略0.7Vの電圧が印加されている場合にはトランジスタがON状態にあり、ベース−エミッタ間の順方向にそれよりも小さい電圧しか印加されていない場合にはトランジスタがOFF状態にあるものとする。
ここで、VTは熱電圧、Isnは第1のトランジスタQ1の逆方向飽和電流を示す。一方、第2のトランジスタQ2のベース−エミッタ間には逆方向に電圧V1がかかっているため、OFF状態となって第2の抵抗素子R2には電流が流れない。このため、テスト端子TESTから直流電源55側に流れ出る電流は、I11の値となる。
このとき、テスト端子TESTから直流電源55側に流れ出る電流は、I12の値となる。
式13に電流I11および電流I12の値を代入することで、抵抗素子R1の抵抗値を測定することができる。
2)の場合、テスト端子TESTに直流電源55側から流れ込む電流をI22とすると、式15が成立する。
式14および式15から、下の式16が導かれる。
上記式16にI21およびI22の値を代入することによって、第2の抵抗素子R2の抵抗値を測定することができる。
[実施形態4]
本発明の別の実施形態について図8に基づいて説明すると以下の通りである。
[実施形態5]
図9は本発明の実施形態を示すものであり、本発明の半導体回路を含む半導体デバイスの要部構成を示す回路図である。
[実施形態6]
図10は本発明の実施形態を示すものであり、本発明の半導体回路を用いたテスト方法を示す概略図である。
11 第1の固定電位点(第1の固定電位点)
12 第2の固定電位点(第2の固定電位点)
13 接続点
15 直流電源
TEST テスト端子(テスト端子)
R1 第1の抵抗素子(第1の抵抗素子)
R2 第2の抵抗素子(第2の抵抗素子)
D1 第1のダイオード(第1のスイッチ手段)
D2 第2のダイオード(第2のスイッチ手段)
Claims (11)
- 第1の固定電位点および第2の固定電位点と、第1のスイッチ手段および第2のスイッチ手段と、抵抗値が検査される第1の抵抗素子および第2の抵抗素子と、前記抵抗値を検査するための前記第1の抵抗素子と前記第2の抵抗素子とに共通のテスト端子とを備え、
前記第1のスイッチ手段は、前記第1の固定電位点と前記テスト端子との間にかけられた電位差に基づくスイッチ動作によってON状態とOFF状態とが切り替わり、
前記第2のスイッチ手段は、前記第2の固定電位点と前記テスト端子との間にかけられた電位差に基づくスイッチ動作によってON状態とOFF状態とが切り替わり、
前記第1のスイッチ手段および前記第1の抵抗素子は、前記第1の固定電位点と前記テスト端子との間で直列に接続され、
前記第2のスイッチ手段および前記第2の抵抗素子は、前記第2の固定電位点と前記テスト端子との間で直列に接続されていることを特徴とする半導体回路。 - 前記第1のスイッチ手段および前記第2のスイッチ手段には、それぞれダイオードを用い、前記第1のスイッチ手段および前記第2のスイッチ手段は、前記第1の固定電位点または前記第2の固定電位点のうちどちらか一方に向かって互いに順方向が同じ向きにそろって接続されていることを特徴とする請求項1記載の半導体回路。
- 前記第1のスイッチ手段および前記第2のスイッチ手段には、複数の直列接続したダイオードをそれぞれ用い、前記複数の直列接続したダイオードの順方向電圧の和は、前記第1の固定電位点と前記第2の固定電位点との間にかけられた電位差よりも大きいことを特徴とする請求項2記載の半導体回路。
- 第1の固定電位点および第2の固定電位点と、制御端子を備えた第1のスイッチ手段および第2のスイッチ手段と、抵抗値が検査される第1の抵抗素子および第2の抵抗素子と、前記抵抗値を検査するための前記第1の抵抗素子と前記第2の抵抗素子とに共通のテスト端子とを備え、
前記第1のスイッチ手段および前記第2のスイッチ手段は、前記制御端子と前記テスト端子との間にかけられた電位差に基づくスイッチ動作によってON状態とOFF状態とが切り替わり、
前記第1のスイッチ手段および前記第1の抵抗素子は、前記第1の固定電位点と前記テスト端子との間で直列に接続され、
前記第2のスイッチ手段および前記第2の抵抗素子は、前記第2の固定電位点と前記テスト端子との間で直列に接続されていることを特徴とする半導体回路。 - 前記第1の固定電位点および前記第2の固定電位点の電位をもとに電位が決定される第3の固定電位点をさらに備え、
前記第1の抵抗素子は、前記第1のスイッチ手段と前記テスト端子との間に接続され、
前記第2の抵抗素子は、前記第2のスイッチ手段と前記テスト端子との間に接続され、
前記第3の固定電位点は、前記第1のスイッチ手段および前記第2のスイッチ手段の前記制御端子にそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項4記載の半導体回路。 - 前記第1の固定電位点は、前記第2の固定電位点よりも高電位側であり、
前記第1のスイッチ手段には、NPN型トランジスタを用い、コレクタは前記第1の固定電位点に接続され、エミッタは前記第1の抵抗素子に接続され、
前記第2のスイッチ手段には、PNP型トランジスタを用い、コレクタは前記第2の固定電位点に接続され、エミッタは前記第2の抵抗素子に接続され、
前記NPN型トランジスタおよび前記PNP型トランジスタのベース端子に、前記第3の固定電位点が接続されていることを特徴とする請求項5記載の半導体回路。 - 前記第1の固定電位点および前記第2の固定電位点を分圧して前記第3の固定電位点の電位を決定するために、高電位側から低電位側に向かって順方向を同じ向きにそろえて直列接続した複数のダイオードをさらに備え、
前記複数のダイオードの順方向電圧の和は、前記第1の固定電位点と前記第2の固定電位点との間にかけられた電位差よりも大きいことを特徴とする請求項5または6記載の半導体回路。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体回路を含むことを特徴とする半導体デバイス。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体回路を検査する半導体回路の検査方法であって、
前記テスト端子に前記第1のスイッチ手段がONしかつ前記第2のスイッチ手段がOFFする範囲の第1の電圧をかけ、前記テスト端子に流れる第1の電流を測定し、前記テスト端子に前記第1のスイッチ手段がONしかつ前記第2のスイッチ手段がOFFする範囲で前記第1の電圧とは別の第2の電圧をかけ、前記テスト端子に流れる第2の電流を測定し、前記第1の電流および前記第2の電流から前記第1の抵抗素子の抵抗値を検査する工程と、
前記テスト端子に前記第2のスイッチ手段がONしかつ前記第1のスイッチ手段がOFFする範囲の第3の電圧をかけ、前記テスト端子に流れる第3の電流を測定し、前記テスト端子に前記第2のスイッチ手段がONしかつ前記第1のスイッチ手段がOFFする範囲で前記第3の電圧とは別の第4の電圧をかけ、前記テスト端子に流れる第4の電流を測定し、前記第3の電流および前記第4の電流から前記第2の抵抗素子の抵抗値を検査する工程とを含むことを特徴とする半導体回路の検査方法。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体回路を検査する半導体回路の検査方法であって、
前記テスト端子に前記第1のスイッチ手段がONしかつ前記第2のスイッチ手段がOFFする範囲の第1の電流を流し、前記テスト端子にかかる第1の電圧を測定し、前記テスト端子に前記第1のスイッチ手段がONしかつ前記第2のスイッチ手段がOFFする範囲で前記第1の電流とは別の第2の電流を流し、前記テスト端子にかかる第2の電圧を測定し、前記第1の電圧および前記第2の電圧から前記第1の抵抗素子の抵抗値を検査する工程と、
前記テスト端子に前記第2のスイッチ手段がONしかつ前記第1のスイッチ手段がOFFする範囲の第3の電流を流し、前記テスト端子に流れる第3の電圧を測定し、前記テスト端子に前記第2のスイッチ手段がONしかつ前記第1のスイッチ手段がOFFする範囲で前記第3の電流とは別の第4の電流を流し、前記テスト端子に流れる第4の電圧を測定し、前記第3の電圧および前記第4の電圧から前記第2の抵抗素子の抵抗値を検査する工程とを含むことを特徴とする半導体回路の検査方法。 - 前記第1の抵抗素子および前記第2の抵抗素子の抵抗値を測定した結果を所定の値と比較することによって、前記第1の抵抗素子および前記第2の抵抗素子の抵抗値を検査し、前記抵抗値の検査をもって、当該半導体回路を含む半導体デバイスの抵抗素子の検査とすることを特徴とする請求項9または10記載の半導体回路の検査方法。
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