JP2006284855A

JP2006284855A - 薄膜及び光学部材の製造方法

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Publication number: JP2006284855A
Application number: JP2005103904A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Kamura; 斉嘉村; Kenichi Niide; 謙一新出
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2005-03-31
Filing date: 2005-03-31
Publication date: 2006-10-19
Anticipated expiration: 2025-03-31
Also published as: JP4744176B2

Abstract

【課題】従来の撥水膜に対し、滑り性を向上させ、かつ耐久性の特性を向上させた薄膜の製造方法、及びこれを用いた光学部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式(Ｉ)で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む溶液を減圧下、加熱して、基材上に該有機ケイ素化合物を蒸着させる薄膜の製造方法であって、該有機ケイ素化合物は、電子銃にて加熱され、加熱温度が、該有機ケイ素化合物の蒸発開始温度から該有機ケイ素化合物の分解温度までの温度範囲であり、該有機ケイ素化合物の蒸発開始後、蒸着完了まで、該有機ケイ素化合物の温度が分解温度を超えることがなく、かつ、該有機ケイ素化合物の加熱開始から９０秒以内に該有機ケイ素化合物の加熱蒸発を完結させることを特徴とする薄膜の製造方法。

【選択図】なし

Description

薄膜、特に撥水膜の製造方法に関し、詳しくは、撥水膜の滑り性を向上させ、付着した汚れを容易に拭き取れるようにし、かつ耐久性の特性を向上させた撥水膜及び該撥水膜を施した光学部材の製造方法に関する。

レンズ等の光学部材上に施された反射防止膜は、一般にＺｒＯ₂，ＳｉＯ₂などの無機酸化物により形成されている。そのため、汗、指紋などによる汚れが付着しやすく、かつこれらの汚れを除去することが困難であった。こうした問題を解決するために、反射防止膜上に撥水膜を施すことはよく知られている。しかしながら指紋、皮脂などが付着した場合、拭き取るにはかなりの時間と繰り返しの作業が必要であり、もっと容易に拭き取れることが望まれていた。また、かかる撥水膜において、近年、撥水性が時間とともに、できるだけ低下しない性能が求められている。その性能を得る方法として、真空下、特定の有機ケイ素化合物を加熱蒸着させて反射防止膜上に撥水膜を形成する方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、特許文献１に開示される方法による撥水膜に対して更なる性能の向上が望まれていた。

特開2005-3817号公報

本発明の目的は、従来の撥水膜に対し、滑り性を向上させ、かつ耐久性の特性を向上させた薄膜の製造方法、及びこれを用いた光学部材の製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を有するフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を、電子銃にて加熱し、特定の加熱条件を選択した薄膜の製造方法によって、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、下記一般式(Ｉ)で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む溶液を減圧下、加熱して、基材上に該有機ケイ素化合物を蒸着させる薄膜の製造方法であって、該有機ケイ素化合物は、電子銃にて加熱され、加熱温度が、該有機ケイ素化合物の蒸発開始温度から該有機ケイ素化合物の分解温度までの温度範囲であり、該有機ケイ素化合物の蒸発開始後、蒸着完了まで、該有機ケイ素化合物の温度が分解温度を超えることがなく、かつ、該有機ケイ素化合物の加熱開始から９０秒以内に該有機ケイ素化合物の加熱蒸発を完結させることを特徴とする薄膜の製造方法を提供するものである。

（式中、Ｒｆは、式：−（Ｃ_kＦ_2kＯ）−（ｋは１〜６の整数である）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基であり、Ｒは独立に炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｘは独立に加水分解性基又はハロゲン原子であり、ｎ及びｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、ｍ及びｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、ａ及びｂはそれぞれ２又は３である。）

本発明によれば、動摩擦係数が低く、滑り感に優れ、耐久性特性が高い光学部材を製造することができる。

本発明の製造方法により得られる薄膜は、下記一般式（Ｉ）で表わされるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性シランの加水分解縮合物を含んでなるものである。この加水分解縮合物は、後に詳述するＸの加水分解及び縮合反応によって生じる３次元構造の硬化物である。

ここで、Ｒｆ基は、式：−（Ｃ_kＦ_2kＯ）−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数である）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基である。なお、前記一般式（Ｉ）中のｎ及びｎ’がいずれも０である場合、前記一般式（Ｉ）中の酸素原子（Ｏ）に結合する前記Ｒｆ基の末端は、酸素原子ではない。このＲｆ基としては、例えば、下記一般式で示されるものが挙げられる。但し、下記例示に限定されるものではない。
−ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_lＣＦ₂ＣＦ₂−
（式中、ｌは１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数である。）
−ＣＦ₂（ＯＣ₂Ｆ₄）_p−（ＯＣＦ₂）_q−
（式中、ｐ及びｑは、それぞれ、１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数であり、かつｐ＋ｑの和は、１０〜１００、好ましくは２０〜９０、より好ましくは４０〜８０の整数であり、該一般式中の繰り返し単位（ＯＣ₂Ｆ₄）及び（ＯＣＦ₂）の配列はランダムである。）

上記式（Ｉ）において、Ｘは加水分解性基又はハロゲン原子である。上記Ｘが加水分解性基である場合としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基；アリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基；ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基；Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基等を挙げることができる。
また、上記Ｘがハロゲン原子である場合としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
これらの中で、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基及び塩素原子が好適である。

上記式（Ｉ）において、Ｒは炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｒが複数存在する場合には、Ｒは互いに同一でも異なってもよい。Ｒの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素原子数１〜３の一価炭化水素基が好ましく、特にメチル基が好適である。

上記式（Ｉ）において、ｎ及びｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、好ましくは１である。ｎとｎ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｍ及びｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、３であることが好ましい。ｍとｍ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。
次に、ａ及びｂは各々２又は３であり、加水分解及び縮合反応性、及び被膜の密着性の観点から、３であることが好ましい。

上記式（Ｉ）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性シランの分子量は、特に制限されないが、安定性、取扱い易さ等の点から、数平均分子量で５００〜２０，０００、好ましくは１０００〜１０，０００のものが適当である。

上記式（Ｉ）で表されるパーフルオロポリアルキレンエーテル変性シランの具体例としては、例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。但し、下記例示に限定されるものではない。
（ＣＨ₃Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_lＣＦ₂ＣＦ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
（ＣＨ₃Ｏ）₂ＣＨ₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_lＣＦ₂ＣＦ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂
（ＣＨ₃Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂（ＯＣ₂Ｆ₄）_p（ＯＣＦ₂）_qＯＣＦ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
（ＣＨ₃Ｏ）₂ＣＨ₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂（ＯＣ₂Ｆ₄）_p（ＯＣＦ₂）_qＯＣＦ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂
（ＣＨ₃Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＦ₂（ＯＣ₂Ｆ₄）_p（ＯＣＦ₂）_qＯＣＦ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
（Ｃ₂Ｈ₅Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂（ＯＣ₂Ｆ₄）_p（ＯＣＦ₂）_qＯＣＦ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃
（上記各式中、ｌは１〜５０、ｐは１〜５０、ｑは１〜５０、ｐ＋ｑは１０〜１００の整数であり、下４式中の繰り返し単位（ＯＣ₂Ｆ₄）及び（ＯＣＦ₂）の配列はランダムである。）これらは１種単独でも２種以上を組合わせても使用することができる。また、場合により、上記パーフルオロポリアルキレンエーテル変性シランと該変性シランの部分加水分解縮合物とを組み合わせて使用することができる。

上記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、溶液状態で又は必要に応じて添加される溶媒やケイ素非含有のパ−フルオロポリエ−テルを混合した溶液の形態で用いられ、基材に蒸着される。これらの溶液はそのまま容器に入れて加熱しても良いが、均一した蒸着膜を多く得られるとの観点から、多孔性材料に含浸させることがより好ましく、多孔性材料としては、銅やステンレスなどの熱伝導性の高い金属粉末を焼結した焼結フィルターを用いることが好ましい。又、多孔性材料は、適度な蒸着速度を得るという観点からそのメッシュを４０〜２００ミクロン、好ましくは、８０〜１２０ミクロンとすることが適当である。

本発明において、一般式(Ｉ)のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、加熱蒸着によって反射防止膜を有する基材上に蒸着されるが、かかる場合に減圧下、電子銃を用いて加熱して蒸着する。その場合の真空蒸着装置内の真空度としては、特に限定はないが、均質の撥水膜を得るとの観点から、好ましくは、１．３３×１０^-1Ｐａ〜１．３３×１０^-6Ｐａ（１０^-3〜１０^-8Ｔｏｒｒ）、特に好ましくは、６．６６×１０^-1Ｐａ〜８．００×１０^-4Ｐａ（５．０×１０^-3〜６．０×１０^-6Ｔｏｒｒ）である。

一般式(Ｉ)のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を加熱する際の具体的温度は、有機ケイ素化合物の種類、蒸着する真空条件により異なるが、所望の真空度における該有機ケイ素化合物の蒸着開始温度以上から該有機ケイ素化合物の分解温度を超えない範囲で行うことが好ましい。ここで蒸着開始温度とは該有機ケイ素化合物を含む溶液の蒸気圧が真空度と等しくなったときの温度をいい、また有機ケイ素化合物の分解温度とは１分間の間に該化合物の５０重量％が分解する温度（窒素雰囲気下、該化合物と反応性のある物質が存在しない条件で）をいう。

蒸着速度は、上記温度範囲に保つことを条件に、前記有機ケイ素化合物加熱開始から蒸着を完結させるまでの時間を９０秒以内とすることが好ましく、さらには５０秒以内、４０秒以内、３０秒以内、２０秒以内、１０秒以内と短くするほど好ましく、特には５秒以内とすることが好ましい。上記加熱温度範囲で、且つ短時間で蒸着を完結させること、即ち、前記有機ケイ素化合物に短時間で高エネルギ−を与えることにより、耐久性に優れた撥水膜を有する光学部材を提供することができる。また、蒸着開始温度が多少異なる２成分の撥水剤を用いても、蒸発開始温度の高い原料の蒸発開始温度から分解温度の低い原料の分解温度の範囲で蒸着温度を選択することにより、ほぼ同時に蒸着でき、均一な膜を得ることができる。

前記蒸着速度を達成する方法としては、前記有機ケイ素化合物に電子ビ−ムを照射する方法が好ましく挙げられる。電子ビ−ムを発生する方法は、従来、蒸着装置で用いられている電子銃を用いることができる。電子銃を用いれば、前記有機ケイ素化合物全体に、均一のエネルギ−を照射することができ均一な撥水膜を施しやすくなる。電子銃のパワーについては、使用物質、蒸着装置、真空度、照射面積によって異なるが、好ましい条件は、加速電圧が６ｋＶ前後で、印加電流５〜８０ｍＡ程度である。
なお、本発明において光学部材とは、眼鏡レンズのみならず、カメラレンズ、ワードプロセッサーのディスプレー等に付設する光学フィルター、自動車の窓ガラス等に用いられる広義の光学部材を意味する。

本発明に用いる基材としては、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタンなどのプラスチック製光学基板、あるいは無機ガラス製光学基板などが挙げられる。尚、上記基板は基板上にハードコート層を有するものであってもよい。ハードコート層としては、有機ケイ素化合物、アクリル化合物等を含んだ硬化膜を例示できる。

また、反射防止膜（蒸着膜）とは、例えばレンズ等の光学基板表面の反射を減少させるために設けられたＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｙ₂Ｏ₃、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃などから形成される単層または多層膜（但し、最外層にＳｉＯ₂膜を有することが好ましい）またＣｒＯ₂などの着色膜（但し、最外層にＳｉＯ₂膜を有することが好ましい）を言う。本発明においては、反射防止膜の最外層に二酸化ケイ素を主成分とする層が用いられることが好ましい。ここで二酸化ケイ素を主成分とするとは、実質的に二酸化ケイ素からなる層、あるいは二酸化ケイ素、酸化アルミニウム及び有機化合物からなるハイブリッド層をいう。なお、反射防止膜は真空蒸着法によって作成されることが好ましい。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
１．反射防止膜付プラスチックレンズの作成
プラスチックレンズとして、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト重合体系レンズ（ＨＯＹＡ（株）製Ｈｉ−Ｌｕｘ（商品名）、屈折率１．４９９、度数０．００）を用い、かかるプラスチックレンズ基材上に、特開昭６３−１０６４０号公報に開示されている硬化膜を施した。具体的には、ＳｉＯ₂濃度４０％のコロイダルシリカ（スノーテックス−４０、水分散シリカ、日産化学（株）製）２４０質量部に、０．５Ｎ塩酸２．０質量部、酢酸２０質量部を加えた溶液を、３５℃にして攪拌しながら、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（３官能有機ケイ素化合物）９５質量部を滴下し、室温にて８時間攪拌し、室温にて１６時間放置した。この加水分解溶液に、メチルセロソルブ８０質量部、イソプロピルアルコール１２０質量部、ブチルアルコール４０質量部、アルミニウムアセチルアセトン１６質量部、シリコーン系界面活性剤（ＮＵＣシルウェットＹ−７００６（商品名）、日本ウニカ（株）製）０．２質量部、紫外線吸収剤（チヌビンＰ（商品名）、チバガイギー製）０．１質量部を加えて、８時間攪拌後、室温にて２４時間熟成させコーティング組成物を得た。該組成物を、引き上げ速度１５ｃｍ／ｍｉｎで浸漬法により塗布、室温にて１５分放置後、１２０℃で２時間加熱硬化して硬化膜を施した。
次に、前記硬化膜上に真空蒸着法（真空度２．６７×１０‐³Ｐａ（２×１０^-5Ｔｏｒｒ））により、二酸化ケイ素からなる下地層〔屈折率１．４６、膜厚０．５λ（λは５５０ｎｍである）〕を形成し、該下地層の上に、プラスチックレンズに酸素イオンビームを照射するイオンビームアシスト法で得られる二酸化チタンからなる層（膜厚０．０６λ）、真空蒸着法で得られる二酸化ケイ素からなる層（膜厚０．１２λ）、さらにイオンビームアシスト法で得られる二酸化チタンからなる層（膜厚０．０６λ）よりなる３層等価膜である第１層〔屈折率１．７０、膜厚０．２４λ〕を形成した。この第１層の上に、イオンビームアシスト法により二酸化チタンからなる第２層（屈折率２．４０、膜厚０．５λ）を形成し、該第２層の上に、真空蒸着法（真空度２．６７×１０‐³Ｐａ（２×１０^-5Ｔｏｒｒ））により二酸化ケイ素からなる第３層〔屈折率１．４６、膜厚０．２５λ〕を形成して、反射防止膜付きプラスチックレンズを得た。このレンズの視感反射率は０．４％であった。

２．使用撥水剤
（１）撥水処理剤-1
撥水処理剤-1として、以下の構造を有する有機ケイ素化合物を用いた。
（ＣＨ₃Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＦ₂（ＯＣ₂Ｆ₄）_p（ＯＣＦ₂）_qＯＣＦ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃
（式中、ｐ＝２２、ｑ＝２２、繰り返し単位（ＯＣ₂Ｆ₄）及び（ＯＣＦ₂）の配列はランダムである。）
得られる薄膜は、上記撥水処理剤の加水分解縮合物であり、一般式（Ｉ）におけるＸ（ＣＨ₃Ｏ）の加水分解及び縮合反応によって生じる３次元構造の硬化物である。
(２)撥水処理剤-2
単位式Ｃ₈Ｆ₁₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＮＨ₂）₃で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物をｍ−キシレンヘキサクロライドで３重量％に希釈した溶液（商品名：ＫＰ−８０１，信越化学工業（株）製）を撥水処理剤-2とした。

３．物性評価
本実施例及び比較例で得られたプラスチックレンズは以下に示す評価方法により諸物性を評価した。
（１）水に対する静止接触角
接触角計（協和界面科学（株）製品、ＣＡ−Ｄ型）を使用し、２５℃において直径２ｍｍの水滴を針先に作り、これをレンズの凸面の最上部に触れさせて、液滴を作った。この時に生ずる液滴と面との角度を測定し静止接触角とした。静止接触角θは水滴の半径（水滴がレンズ表面に接触している部分の半径）をｒとし、水滴の高さをｈとしたときに、以下の式で求められる。
θ＝２×ｔａｎ‐¹（ｈ／ｒ）
なお、静止接触角の測定は水の蒸発による測定誤差を最小限にするために水滴をレンズに触れさせた後１０秒以内に行った。
（２）外観
目視にて干渉色の色ムラ及び干渉色変化があるかどうかを調べ、眼鏡レンズとして使用できる外観かどうか評価した。
（３）耐久性
レンズクリーニング布(商品名:HOYA Clearcloth)で５００ｇの荷重をかけて撥水膜を有するプラスチックレンズ表面を３６００回、前後に擦り（２５℃、相対湿度５０〜６０％）、その後（１）に記載した方法で水に対する静止接触角を測定した。
（４）動摩擦係数
新東科学（株）製の連続加重式表面性測定機ＴＹＰＥ：２２Ｈを使用し、移動距離２０mmの平均動摩擦係数を各々３回測定し、平均値を出した。

実施例１
撥水処理剤-1を０．３０ｍｌしみ込ませたステンレス製焼結フィルター（細孔径８０〜１００μｍ、直径１８ｍｍφ、厚さ３ｍｍ）を真空蒸着装置内にセットし、以下の条件で電子銃を用いて該焼結フィルター全体を加熱して、上記反射防止膜付プラスチックレンズに撥水膜を形成した。このレンズの視感反射率は０．４％であった。評価結果を表1に示す。
（１）真空度：３．１×１０^-4 〜８．０×１０^-4Ｐａ（２．３×１０^-6 〜６．０×１０^-6Ｔｏｒｒ）
（２）電子銃の条件
加速電圧：６ｋＶ、印加電流：１５ｍＡ、照射面積：３．５×３．５ｃｍ²、蒸着時間：３０秒

比較例１
撥水処理剤-1を０．３０ｍｌしみ込ませたステンレス製焼結フィルター（細孔径８０〜１００μｍ、直径１８ｍｍφ、厚さ３ｍｍ）を真空蒸着装置内にセットし、ハロゲンヒーターにて５５０℃まで１．５分で上昇させ、さらに５５０℃から６５０℃まで５分で上昇させ、上記反射防止膜付プラスチックレンズに撥水膜を形成した。このレンズの視感反射率は０．４％であった。評価結果を表1に示す。

比較例２
撥水処理剤-1をフッ素系溶媒にて重量ハ゜ーセント 0.2重量%となるように希釈し、上記反射防止膜付プラスチックレンズをこの希釈溶液中に１分間浸し、その後 200mm/分の速度で引き上げ、該レンズ表面に塗布した。塗布後、室温にて１時間乾燥させた。評価結果を表1に示す。

比較例３
撥水処理剤-2を0.2mlしみ込ませたステンレス製焼結フィルターの加熱方法としてハロゲンヒ−タを用い、蒸着時間を３６０秒としたこと以外は実施例１と同様に撥水膜を形成した。このレンズの視感反射率は０．４％であった。評価結果を表１に示す。

本発明によれば、撥水膜の滑り性を向上させ、かつ耐久性の特性を向上させた光学部材の製造方法を提供することができ、眼鏡レンズ、カメラレンズ、ワードプロセッサーのディスプレー等に付設する光学フィルター、自動車の窓ガラス等の光学部材の製造方法に適用することができる。

本発明における耐久性試験を行う装置を示す概略図である。

符号の説明

１：レンズ
２：レンズクリーニング布
３：六面体板

Claims

下記一般式(Ｉ)で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む溶液を減圧下、加熱して、基材上に該有機ケイ素化合物を蒸着させる薄膜の製造方法であって、該有機ケイ素化合物は、電子銃にて加熱され、加熱温度が、該有機ケイ素化合物の蒸発開始温度から該有機ケイ素化合物の分解温度までの温度範囲であり、該有機ケイ素化合物の蒸発開始後、蒸着完了まで、該有機ケイ素化合物の温度が分解温度を超えることがなく、かつ、該有機ケイ素化合物の加熱開始から９０秒以内に該有機ケイ素化合物の加熱蒸発を完結させることを特徴とする薄膜の製造方法。
一般式(Ｉ)

（式中、Ｒｆは、式：−（Ｃ_kＦ_2kＯ）−（ｋは１〜６の整数である）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基であり、Ｒは独立に炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｘは独立に加水分解性基又はハロゲン原子であり、ｎ及びｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、ｍ及びｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、ａ及びｂはそれぞれ２又は３である）
請求項１に記載の方法で得られた薄膜を、プラスチック基材上に真空蒸着法によって作製された多層反射防止膜上に施す光学部材の製造方法。
前記多層反射防止膜の基材からみた最外層は二酸化ケイ素を主成分とする層である請求項２記載の光学部材の製造方法。