JP2006269838A - 半導体集積回路群の製造方法、半導体集積回路群、半導体集積回路体、及び半導体基板組合せ決定プログラム - Google Patents
半導体集積回路群の製造方法、半導体集積回路群、半導体集積回路体、及び半導体基板組合せ決定プログラム Download PDFInfo
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Abstract
【課題】 所定面積当たりの半導体集積回路の配置数を多くする。
【解決手段】 複数のドライバーダイウエハと複数のデータ処理ダイウエハの半導体集積回路の良否を判定し(202)、ドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハの互いに群応する半導体集積回路が良の組合せを多くとれるドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハとの組合せを決定し(202,204)、決定された組合せ毎に接着し(206)、決定された組合せ毎に、互いに良の判定の半導体集積回路の駆動回路側に光通信素子を取り付ける(208)。互い良の判定の半導体集積回路毎に切断して、半導体集積回路群を製造し(210)、半導体集積回路群を中継基板に取り付けて、半導体集積回路体を製造し(212)、半導体集積回路体を封止する(214)。
【選択図】 図13
【解決手段】 複数のドライバーダイウエハと複数のデータ処理ダイウエハの半導体集積回路の良否を判定し(202)、ドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハの互いに群応する半導体集積回路が良の組合せを多くとれるドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハとの組合せを決定し(202,204)、決定された組合せ毎に接着し(206)、決定された組合せ毎に、互いに良の判定の半導体集積回路の駆動回路側に光通信素子を取り付ける(208)。互い良の判定の半導体集積回路毎に切断して、半導体集積回路群を製造し(210)、半導体集積回路群を中継基板に取り付けて、半導体集積回路体を製造し(212)、半導体集積回路体を封止する(214)。
【選択図】 図13
Description
本発明は、半導体集積回路群の製造方法、半導体集積回路群、半導体集積回路体、及び半導体基板組合せ決定プログラムにかかり、より詳細には、複数の半導体集積回路を備えて構成された半導体集積回路群の製造方法、半導体集積回路群、半導体集積回路体、及び半導体基板組合せ決定プログラムに関する。
従来、光通信素子を備えた半導体集積回路を複数、導光路を備えた基板に接合し、複数の半導体集積回路各々の光通信素子間を、基板内部に設けられた導光路を介して光通信することが行われている(特許文献1参照)。
ところで、最近、光通信では、大量のデータを高速に送受信することが要請されている。このため、従来では、光通信素子を単に駆動(発光、受光)させるだけではなく、光通信素子の駆動を制御する必要があった。このため、光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路と、光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路とを基板に平面状に配置して接合している。
米国特許第6.724.794号公報
しかしながら、第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路とを基板に平面状に配置するので、所定の面積当たりに接合できる半導体集積回路の個数が制限され、半導体集積回路の高密度設計をすることができなかった。
本発明は、上記事実に鑑み成されたもので、所定面積当たりの半導体集積回路の配置数を多くすることの可能な半導体集積回路群の製造方法、半導体集積回路群、半導体集積回路体、及び半導体基板組合せ決定プログラムを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために請求項1に記載の発明の半導体集積回路群(半導体集積回路構造体)の製造方法は、光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路が複数形成された複数の第1の半導体基板各々における各第1の半導体集積回路と、光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路が複数形成された複数の第2の半導体基板各々における各第2の半導体集積回路との良否を判定するステップと、前記判定結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板とを重ね合わせるとした場合、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数を計数するステップと、前記計数結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板との組合せを決定するステップと、前記決定された組合せにおける第1の半導体基板と第2の半導体基板とを積層するステップと、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組における第1の半導体集積回路側に光通信素子を搭載するステップと、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組を、前記積層された第1の半導体基板と第2の半導体基板とから切断するステップと、を備えている。
即ち、判定のステップでは、光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路が複数形成された複数の第1の半導体基板各々における各第1の半導体集積回路と、光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路が複数形成された複数の第2の半導体基板各々における各第2の半導体集積回路との良否を判定する。
計数のステップでは、前記判定のステップにおける判定結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板とを重ね合わせるとした場合、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数を計数する。
決定のステップでは、前記計数のステップにおける計数結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板との組合せを決定する。なお、本決定のステップでは、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数が最大となる第1の半導体基板と第2の半導体基板との組合せを決定するのが原則であるのが、必ずしもこれ限定されるものではない。例えば、ある第2の半導体基板と、上記組の数が最大となる第1の半導体基板が複数存在する場合には、複数の第1の半導体基板の何れか1つを、この第2の半導体基板との組とする。他の第1の半導体基板については、上記組の数が最大とはならないが、この数よりも少ない他の第2の半導体基板と組み合わせる。
積層のステップでは、前記決定された組合せにおける第1の半導体基板と第2の半導体基板とを積層する。
搭載のステップでは、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組における第1の半導体集積回路側に光通信素子を搭載する。
切断のステップでは、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組を、前記積層された第1の半導体基板と第2の半導体基板とから切断する。
このように、第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路とを、平面状に配置するのではなく、積層するので、所定面積当たりの半導体集積回路の配置数を多くすることができる。
ここで、本発明では、上記搭載のステップは、積層のステップ及び切断のステップの前でも、これらのステップより後で可能であるが、請求項2のように、前記接合のステップの後で、前記切断のステップの前に行うようにしてもよい。
請求項3記載の発明の半導体集積回路群は、光通信する光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路と、前記光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路と、を積層して構成されている。なお、請求項4では、第1の半導体集積回路に光通信素子が積層されている。
請求項5記載の発明の半導体集積回路体は、請求項4に記載の半導体集積回路群と、前記半導体集積回路群と前記光通信を補助する基板との間を中継する中継基板と、を備えている。
ここで、中継基板は、請求項6のように、表面からくぼむくぼみ部が形成されると共に、前記くぼみ部により露出され、前記光通信のための光が透過する透過性部材を備えている。
なお、透過性部材は、請求項7のようにガラスにより構成してもよく、請求項8のように、光を集光する光学系部分を備えるようにしてもよい。
なお、請求項9のように、前記中継基板に、前記透過性部材を支持する支持層が設けるようにしてもよい。この場合、請求項10のように、前記透過性部材は平面状に形成され、前記支持層は、前記透過性部材を挟んで保持する一群の挟持層と、前記透過性部材の端部に当接する当接層と、を備えている。
ここで、上記半導体集積回路群は、単一の第1の半導体集積回路と、単一の第2の半導体集積回路と、を積層して構成されるものに限定されず、複数の第1の半導体集積回路と、複数の第2の半導体集積回路と、を積層して構成するようにしてもよい。
また、上記第1の半導体基板と第2の半導体基板との組合せを、請求項11記載の半導体基板組合せ決定プログラムを用いて、決定するようにしてもよい。即ち、請求項11記載の発明は、コンピュータに、以下の半導体基板組合せ決定処理を実行させる半導体基板組合せ決定プログラムであって、前記半導体基板組合せ決定処理は、記憶手段に、光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路が複数形成された複数の第1の半導体基板各々における各第1の半導体集積回路と、光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路が複数形成された複数の第2の半導体基板各々における各第2の半導体集積回路との良否判定結果を記憶するステップと、計数手段により、前記判定結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板とを重ね合わせるとした場合、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数を計数するステップと、決定手段により、前記計数結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板との組合せを決定するステップと、を備えている。
この場合、請求項12のように、前記複数の第1の半導体基板と前記複数の第2の半導体基板の一方の半導体基板各々の各半導体集積回路の良否判定結果に基づいて、半導体集積回路が良でない数の大きい順に、前記計数のステップ及び前記決定のステップを実行するようにしてもよい。
この場合、請求項12のように、前記複数の第1の半導体基板と前記複数の第2の半導体基板の一方の半導体基板各々の各半導体集積回路の良否判定結果に基づいて、半導体集積回路が良でない数の大きい順に、前記計数のステップ及び前記決定のステップを実行するようにしてもよい。
以上説明したように本発明は、第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路とを、平面状に配置するのではなく、積層するので、所定面積当たりの半導体集積回路の配置数を多くすることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例を詳細に説明する。
図1に示すように、第1の半導体基板としてのドライバーダイウエハ100は、後述する光通信素子12を駆動(発光、または受光)させる機能を有する機能部12Kを備えた第1の半導体集積回路150n1が複数平面状に形成されている。また、第2の半導体基板としてのデータ処理ダイウエハ200には、第1の半導体集積回路150n1による光通信素子12の駆動を制御する第2の半導体集積回路25n1を複数平面状に形成されている。
ここで、本実施の形態では、ドライバーダイウエハ100とデータ処理ダイウエハ200とを重ね合せ、これにより、第1の半導体集積回路150n1と第2の半導体集積回路250n1とが重ね合されるようにしているので、ドライバーダイウエハ100の第1の半導体集積回路150n1とデータ処理ダイウエハ200の第2の半導体集積回路250n1とは互いに群応する位置に配置される。従って、ドライバーダイウエハ100とデータ処理ダイウエハ200は所定位置を基準に重ね合わされる。
図14に示すように、ドライバーダイウエハ100、データ処理ダイウエハ200の第1の半導体集積回路150N1、第2の半導体集積回路250N1を検査する検査器154が、コンピュータ本体150に接続され、このコンピュータ150には、表示装置152が接続されている。なお、コンピュータ本体150、表示装置152は、パーソナルコンピュータによって構成することができる。
本実施の形態では、このようなドライバーダイウエハ100、データ処理ダイウエハ200を用いて、後述する半導体集積回路群、半導体集積回路体を製造するが、以下、この製造方法を図13に示した処理手順に沿って説明する。
まず、図2に示すように、複数のドライバーダイウエハ100,複数のデータ処理ダイウエハ200を用意し、ステップ202で、上記検査器154を用いて、複数のドライバーダイウエハ100各々の複数の第1の半導体集積回路150n1各々の良否を判定すると共に、複数のデータ処理ダイウエハ200各々の複数の第2の半導体集積回路250n1各々の良否判定を行う。各半導体集積回路の良否判定結果は、検査器154からコンピュータ本体150に送信され、コンピュータ本体150内に設けられた図示しない記憶装置に記憶される。
ステップ204で、互いに対応する半導体集積回路が良の組合わせを多くとれるドライバーダイウエハ100とデータ処理ダイウエハ200との組合わせを決定する。
以下、本ステップ204の組合わせ決定処理プログラムを、図3を参照して説明する。
図3のステップ102で、複数のドライバーダイウエハ100各々を識別する変数jと、データ処理ダイウエハ200各々を識別する変数kを0に初期化する。
ステップ103で、各ドライバーダイウエハの各半導体集積回路150n1の良否判定結果を、前述した記憶装置から取得し、ステップ104で、各ドライバーダイウエハの各半導体集積回路150n1の良否判定結果に基づいて、良の判定結果の半導体集積回路の数が少ない順にドライバーダイウエハが変数jで識別されるように、ドライバーダイウエハの処理順を規定する。即ち、変数jが1、2、3、…となる毎に、良の判定結果の半導体集積回路の数が、例えば150のドライバーダイウエハ、155のドライバーダイウエハ、159のドライバーダイウエハ…が識別されるように、ドライバーダイウエハの処理順を規定する。ステップ105で変数jを1インクリメントし、ステップ106で、変数jで識別されるドライバーダイウエハjの各半導体集積回路150n1の良否判定結果を取得する。ステップ108で、変数kを1インクリメントし、ステップ110で、データ処理ダイウエハkの各半導体集積回路250n1の良否判定結果を、前述した記憶装置から取得する。なお、変数kは、データ処理ダイウエハを任意に識別する。
ステップ112で、ドライバーダイウエハj及びデータ処理ダイウエハkの各半導体集積回路の良否判定結果に基づいて、当該ドライバーダイウエハjとデータ処理ダイウエハkとを重ね合わせるとした場合、互いに群応する各半導体集積回路が双方とも良である半導体集積回路の組の数を検出し、記憶装置に記憶する。
ステップ114で、kがデータ処理ダイウエハ200の総数k0に等しいか否かを判断することにより、ドライバーダイウエハjとの間で、互いに群応する各半導体集積回路が双方とも良の個数を全てのデータ処理第200との間で検出したか否かを判断し、kが総数k0に等しくないと判断された場合には、ドライバーダイウエハjとの間で互いに群応する各半導体集積回路が双方とも良の個数を検出していないデータ処理ダイウエハ200があるので、ステップ108に戻って、以上の処理(ステップ108〜ステップ114)を実行する。
一方、変数kが総数k0に等しいと判断した場合には、ドライバーダイウエハjとの間で、互いに群応する各半導体集積回路が双方とも良の組の個数を全てのデータ処理ダイウエハ200について判定したので、ステップ116で、このドライバーダイウエハjに群して、互いに群応する各半導体集積回路が双方とも良の個数が最大のデータ処理ダイウエハkをドライバーダイウエハjの組合わせの相手として決定する。
ステップ118で、変数jがドライバーダイウエハ100の総数j0に等しいか否かを判断することによって、全てのドライバーダイウエハjについて、データ処理ダイウエハとの組合わせが決定されたか否かを判断し、変数jが総数j0に等しくないと判断された場合には、全てのドライバーダイウエハ100についてデータ処理ダイウエハ200との組合わせが決定されていないので、ステップ104に戻って、以上の処理(ステップ104〜ステップ118)を実行する。一方、変数jが総数j0に等しいと判断された場合には、全てのドライバーダイウエハについてデータ処理ダイウエハとの組合わせが決定されたので、本プログラムを終了する。
これにより、図2に示すように、例えば、j=1で識別されるドライバーダイウエハ100と、k=2で識別されるデータ処理ダイウエハ200との組合わせが決定され、j=3で識別されるドライバーダイウエハ100とk=1で識別されるデータ処理ダイウエハ200との組合せが決定される。
ステップ206で、上記のように決定されたドライバーダイウエハ100とデータ処理ダイウエハ200とを、各組合わせ毎に、図4及び図5に示すように接着し、ステップ208で、図5に示すように決定された組合わせ毎に、互いに良の判定結果の半導体集積回路の駆動回路(第1の半導体集積回路150n1)側に光通信素子12を搭載する(取り付ける)。
なお、光通信素子30としては、発光素子(VCSEL)や受光素子(フォトダイウエハオード(PD))を用いることができる。
また、ドライバーダイウエハ100のにおける光通信素子12の搭載面側にハンダ72が接着され、このハンダ72は、スルーホール74を介してデータ処理ダイウエハ200における第2の半導体集積回路250n1と接続されている。
ステップ210で、図6に示すように、互いに良の判定結果の半導体集積回路毎に切断して、図7に示すように、半導体集積回路群300を製造する。なお、切断されたドラーバーダイウエハ部分100Aにおける光通信素子12の搭載面側には、上記のようにハンダ72が接着され、このハンダ72は、スルーホール74を介して第2の半導体集積回路200Bと接続されている。
ステップ212で、半導体集積回路群300を中継基板14に取り付けて、半導体集積回路体を製造する。
ここで 中継基板14を説明する。図8及び図9に示すように、中継基板14には、表面からくぼむくぼみ部Kが形成されている。
また、中継基板14は、上記くぼみ部Kにより露出され、上記光通信のための光が透過する透過性部材26を備えている。この透過性部材26は、ガラスにより構成されている。また、透過性部材26には、光を集光するレンズ等の光学系部分24が形成されている。なお、ガラスにより構成された透過性部材26に、レンズ等の光学系部分24を形成するためには、例えば、レーザーアブレーション、エッチング、スタンピングなどを用いることができる。
ここで、光通信素子12における光通信の光の強さが大きければ、上記光学系部分24は特に必要ない。しかし、上記光学系部分24を形成することにより、光の強さを小さくすることができ、省エネルギーを図ることができる。
透過性部材26は、支持層18〜22により支持されている。透過性部材26は、平面状に形成されており、上記支持層18〜22は、具体的には、透過性部材26を挟んで保持する一群の挟持層18、22と、透過性部材26の端部に当接する当接層20と、を備えている。
中継基板14は、表面に表面層16が設けられている。この表面層16は、電気的に導通可能な配線層であって、前述した第1の半導体集積回路150n1、特に、上記機能部12Kとハンダを介して接続するハンダバンプ30がもうけられている。なお、上挟持層18、22、当接層20も、上記透過性部材26を支持するばかりではなく、半導体集積回路12や図しない基板等と接続される電気的に導通可能な配線層でもある。これらの層16〜22により、半導体集積回路群300と基板との間の電気信号を中継することができる。
本実施の形態では更に、半導体集積回路対300及び基板間の光通信を、中継基板14を透過させることにより可能する。このため、上記各層16〜22各々は、中央に孔が形成されている。上記一群の挟持層18、22の内の、表面側の挟持層(一方の挟持層)18の孔側の端部の位置は、表面層16の穴側の端部の位置よりも中央側に延長している。従って、挟持層18の表面の一部18Aが露出されている。この挟持層18の表面の一部18Aと、他方の挟持層22とにより、透過性部剤26を挟持する。
上記ステップ212では、図10に示すように、接着剤供給装置35により接着剤32をくぼみ部Kを囲むように塗布し、図11に示すように、半導体集積回路群300を、光通信素子12が上記くぼみ部Kに挿入されるように、中継基板14に接合する。
これにより、ドラーバーダイウエハ部分100Aにおける光通信素子12の搭載面側に接着されたハンダ72が中継基板14と接続され、中継基板14の図示しない配線により、中継基板14の図示しない基板と接続される側に接着されたハンダ76と接続される。
ステップ214で、図12に示すように、半導体集積回路体300を封止剤50により封止して、半導体集積回路体400の製造方法を終了する。
そして、半導体集積回路体を図示しない基板に接合する。よって、第2の半導体集積回路200Bと基板とが、ハンダ72、スルーホール74、中継基板14の図示しない配線、及びハンダ76を介して接続される。
このように、第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路とを、平面状に配置するのではなく、積層するので、所定面積当たりの半導体集積回路の配置数を多くすることができる。
また、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数が最大となるドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハとの組合せを決定して重ね合わせているので、ドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハの半導体集積回路の利用効率を向上させることができる。
また、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の当該第1の半導体集積回路に光通信素子を取り付けているので、不必要な第1の半導体集積回路に光通信素子を取り付けることによる光通信素子の無駄な消費を排除することができいる。
なお、前述して実施の形態では、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数が最大となるドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハとの組合せを決定しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、あるデータ処理ダイウエハと、上記組の数が最大となるドライバーダイウエハが複数存在する場合には、複数のドライバーダイウエハの何れか1つを、このデータ処理ダイウエハとの組とする。他のドライバーダイウエハについては、上記組の数が最大とはならないが、この数よりも少ない他のデータ処理ダイウエハと組み合わせるようにしてもよい。
更に、前述した実施の形態では、良の判定結果の半導体集積回路の数が少ない順にドライバーダイウエハについて、データ処理ダイウエハを組み合わせているが、本発明はこれに限定されるものではなく、良の判定結果の半導体集積回路の数が少ない順にデータ処理ダイウエハについて、ドライバーダイウエハを組み合わせるようにしてもよい。
また、前述した実施の形態では、ドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハとを接合し、光通信素子を搭載した後に切断するようにしているが、本発明はこれに限定されるものではなく、ドライバーダイウエハとデータ処理ダイウエハとを接合し、互いに良の判定結果の半導体集積回路を切断した後に、第1の半導体集積回路側に光通信素子を搭載するようにしてもよい。
更に、上記半導体集積回路群は、単一の第1の半導体集積回路と、単一の第2の半導体集積回路と、を積層して構成されるものに限定されず、複数の第1の半導体集積回路と、複数の第2の半導体集積回路と、を積層して構成するようにしてもよい。
100 ドライバーダイウエハ(第1の半導体基板)
200 データ処理ダイウエハ(第2の半導体基板)
150N1 第1の半導体集積回路
250N1 第2の半導体集積回路
12 光通信素子
300 半導体集積回路群
400 半導体集積回路体
200 データ処理ダイウエハ(第2の半導体基板)
150N1 第1の半導体集積回路
250N1 第2の半導体集積回路
12 光通信素子
300 半導体集積回路群
400 半導体集積回路体
Claims (12)
- 光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路が複数形成された複数の第1の半導体基板各々における各第1の半導体集積回路と、光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路が複数形成された複数の第2の半導体基板各々における各第2の半導体集積回路との良否を判定するステップと、
前記判定結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板とを重ね合わせるとした場合、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数を計数するステップと、
前記計数結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板との組合せを決定するステップと、
前記決定された組合せにおける第1の半導体基板と第2の半導体基板とを積層するステップと、
互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組における第1の半導体集積回路側に光通信素子を搭載するステップと、
互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組を、前記積層された第1の半導体基板と第2の半導体基板とから切断するステップと、
を備えた半導体集積回路群の製造方法。 - 前記搭載のステップは、前記接合のステップの後で、前記切断のステップの前に行うことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路群の製造方法。
- 光通信する光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路と、
前記光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路と、
を積層して構成された半導体集積回路群。 - 前記光通信素子が前記第1の半導体集積回路に積層されたことを特徴とする請求項3記載の半導体集積回路群。
- 請求項4に記載の半導体集積回路群と、
前記半導体集積回路群と前記光通信を補助する基板との間を中継する中継基板と、
を備えた半導体集積回路体。 - 前記中継基板であって、
表面からくぼむくぼみ部が形成されると共に、
前記くぼみ部により露出され、前記光通信のための光が透過する透過性部材を備えた
ことを特徴とする請求項5記載の半導体集積回路体。 - 前記透過性部材はガラスにより構成されたことを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路体。
- 前記透過性部材には、光を集光する光学系部分を備えていることを特徴とする請求項6又は請求項7記載の半導体集積回路体。
- 前記中継基板に、前記透過性部材を支持する支持層が設けられていることを特徴とする請求項6乃至請求項8の何れか1項に記載の半導体集積回路体。
- 前記透過性部材は平面状に形成され、
前記支持層は、
前記透過性部材を挟んで保持する一群の挟持層と、
前記透過性部材の端部に当接する当接層と、
を備えていることを特徴とする請求項9記載の半導体集積回路体。 - コンピュータに、以下の半導体基板組合せ決定処理を実行させる半導体基板組合せ決定プログラムであって、
前記半導体基板組合せ決定処理は、
記憶手段に、光通信素子を駆動させる機能を有する第1の半導体集積回路が複数形成された複数の第1の半導体基板各々における各第1の半導体集積回路と、光通信素子の駆動を制御する機能を有する第2の半導体集積回路が複数形成された複数の第2の半導体基板各々における各第2の半導体集積回路との良否判定結果を記憶するステップと、
計数手段により、前記判定結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板とを重ね合わせるとした場合、互いに良となる第1の半導体集積回路と第2の半導体集積回路との組の数を計数するステップと、
決定手段により、前記計数結果に基づいて、第1の半導体基板と第2の半導体基板との組合せを決定するステップと、
を備えた半導体基板組合せ決定プログラム。 - 前記複数の第1の半導体基板と前記複数の第2の半導体基板の一方の半導体基板各々の各半導体集積回路の良否判定結果に基づいて、半導体集積回路が良でない数の大きい順に、前記計数のステップ及び前記決定のステップを実行することを特徴とする請求項11記載の半導体基板組合せ決定プログラム。
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