JP2006263641A - ガス溶解方法とその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 水の供給・循環ポンプに溶解予定ガスを供給し、少しガスを溶解させてバブリングさせた水を作製し、これを当該ガスを入れた気液接触リアクター内を落下させる構成とすることで、通常の冷水であっても短時間の処理で、例えば水素ガスの場合、マイナス数百mV以下という非常に低い酸化還元電位を有する水素還元水が得られる。
【選択図】 図1
Description
図1に示す実施例において、水槽2容量を50リットルとし、循環用のポンプ7に20l/minの渦流ポンプを使用し、気液接触手段3には、市販の外径80Aの静止型気液接触装置を使用した。処理原水には大阪市営の25℃以下の水道水を用いた。
処理塔5を0.2Mpaの加圧下で、流量が8l/min、平均滞留6.25分となるよう連続操作した。原水の酸化還元電位は607mV、処理水の酸化還元電位は-559mVで、pH6.9であった。
1,20,30 ガス溶解装置
2,22,31,32 水槽
3,23,33 気液接触手段
4,24,34,36 気液接触筒
5,25,35,37 処理塔
6,2638 ガス供給管
7,27,40 ポンプ
8,28,41 水供給管
9,29 循環路
10 ガス循環路
11 供給管
12 液面計
13 圧力計
39 自吸式散気装置
Claims (11)
- 処理原水に被溶解ガスを混入させた微細気泡含有水を気液接触手段に送る給水工程と、気液接触手段にて被溶解ガスと前記微細気泡含有水とを散水接触させる気液接触工程と、前記気液接触手段を通過した処理水の全部又は一部を再度前記給水工程へと送る循環工程とを有するガス溶解方法。
- 処理原水に被溶解ガスを混入させる手段が、送水ポンプ、水槽内の拡散装置、気液接触装置のいずれかである請求項1に記載のガス溶解方法。
- 水槽上部から処理原水に被溶解ガスを混入させる手段へ被溶解ガスを導出循環させるガス循環処理工程を有する請求項1に記載のガス溶解方法。
- 水槽上部に気液接触筒を接続した構成の処理塔を複数段有し、各処理塔内に被溶解ガスを導入し、処理原水を第1処理塔の気液接触筒上部より導入落下させた微細気泡含有水を同水槽内に貯水し、これを次段処理塔の気液接触筒上部より散水導入して気液接触を繰り返す気液接触工程と、第1処理塔の水槽内の処理水を同段又は次段あるいは次段以降さらにその全ての処理塔上部より導入落下させる水循環処理工程を有するガス溶解方法。
- 各水槽上部から当該処理塔あるいは特定、全ての他上部へ被溶解ガスを導出又は循環させるガス循環処理工程を有する請求項3に記載のガス溶解方法。
- 処理塔内の圧力が1atm〜10atmである請求項1又は請求項3に記載のガス溶解方法。
- 処理塔内の圧力が2atm〜5atmである請求項1又は請求項3に記載のガス溶解方法。
- 水槽上部に気液接触筒を接続した構成の処理塔と、前記処理塔内に被溶解ガスを導入するガス導入手段と、処理原水に被溶解ガスを混入させた微細気泡含有水を気液接触筒上部より散水,落下させる混入給水手段と、水槽内の処理水を再度混入給水手段へ送る水循環手段とを有するガス溶解装置。
- 処理原水に被溶解ガスを混入させる手段が、送水ポンプ、水槽内の拡散装置、気液接触装置のいずれかである請求項8に記載のガス溶解装置。
- 水槽上部に気液接触筒を接続した構成の処理塔を複数段有し、各処理塔内に被溶解ガスを導入する管路と、処理原水を第1処理塔の気液接触筒上部より導入落下させて同水槽内に貯水してこれを次段処理塔の気液接触筒上部より導入して気液接触を繰り返すための送水源及び管路と、第1処理塔の水槽内の処理水を同段又は次段あるいは次段以降さらにその全ての処理塔上部より導入落下させる水循環管路とを有するガス溶解装置。
- 各水槽上部から当該処理塔あるいは特定、全ての他上部へ被溶解ガスを導出又は循環させるガス循環処理管路を有する請求項10に記載のガス溶解装置。
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