JP2006250646A - X線回折分析装置およびx線回折分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 固定保持されている試料(1)を照らす入射X線(8)として所定の元素の特性X線を発生させるX線管(9)が固定保持される位置が、入射X線(8)が試料(1)の被測定領域(A)全体を照らすことのできる位置であって且つ試料(1)と接触しない範囲で限りなく試料(1)に接近した位置である。
【選択図】図1
Description
メータのθ/2θ走査を省略する技術が一般的となっている。しかし、試料の各部位の情報を得るためには1点ずつ部位ごとに測定しなければならないことにはかわりがないため、試料の広い領域中の各部位の情報を得ようとすると測定点が多数となり依然として測定に長時間を要してしまう。
加藤誠軌、『X線回折分析』、東京工業大学工学部無機材料工学科編セラミックス基礎講座3、内田老鶴圃、1990年、pp.119-120 Y. Chikaura, Y. Yoneda and G. Hildebrandt, "Polycrystal scattering topography", Journal of Applied Crystallography, vol.15, pp.48-54, 1982
対して垂直に延在する回転軸線のまわりで回動可能に配置し、前記試料で回折されて前記被測定領域内の各部位から出射する回折X線をそれぞれ前記二次元位置敏感型検出器の異なる検出素子で区別して検出するために当該回折X線の角度発散を制限する角度発散制限手段を、前記回転軸線のまわりで前記二次元位置敏感型検出器と一体的に回動するように設け、前記検出素子でそれぞれ検出した回折X線の強度を各画素値とする二次元の回折X線画像を形成し記録することを特徴とするX線回折分析装置によって解決される。
域の最適な照明を実現することができる。また、これらの調整は測定前に行われ、測定が始まると試料とX線管は動かされることがないので、当該機構は手動操作のものでよい。
折X線強度を各画素値とする二次元の回折X線画像を生成して記録するための画像形成記録部を内部もしくは外部に有している。
れる。
0度回動させた位置では、試料・検出器間距離は12〜15mm程度が目安となる。ただし、それより離れたら測定が行えないというものではない。試料・検出器間距離が離れすぎないということを考慮すると、試料表面に対して60〜120度の範囲の出射角度をもつ回折X線(6)だけを利用するという選択、すなわち、二次元位置敏感型検出器(3)の回動角度範囲をこの範囲に限定してしまうということも十分に考え得る。注目する格子面としてこの角度範囲内で回折X線(6)を検出できる格子面を選べばよいのである。
2 試料支持部
3 二次元位置敏感型検出器
4 検出器支持部
5 二次元位置敏感型検出器の回動に関する回転軸線
6 回折X線
7 角度発散制限手段
8 入射X線
9 X線管
10 X線管支持部
A 被測定領域
Claims (8)
- 固定保持されている不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を含んだX線回折図形を、試料を照らす入射X線として所定の元素の特性X線を発生させるX線管と、二次元に配列された複数の検出素子からなる二次元位置敏感型検出器とを用いて取得するためのX線回折分析装置において、
前記X線管を、前記入射X線が試料表面の観察しようとする被測定領域全体を照らすことのできる位置であって且つ前記試料と接触しない範囲で限りなく前記試料に接近した位置に固定保持し、
前記二次元位置敏感型検出器を、試料表面に前記被測定領域の中心を通って入射X線の光軸に垂直に延在する回転軸線のまわりで回動可能に配置し、
前記試料で回折されて前記被測定領域内の各部位から出射する回折X線をそれぞれ前記二次元位置敏感型検出器の異なる検出素子で区別して検出するために当該回折X線の角度発散を制限する角度発散制限手段を、前記回転軸線のまわりで前記二次元位置敏感型検出器と一体的に回動するように設け、
前記検出素子でそれぞれ検出した回折X線の強度を各画素値とする二次元の回折X線画像を形成し記録すること
を特徴とするX線回折分析装置。 - 前記X線管が、線状の細い長方形断面を有するX線ビームを発生させるX線管であり、前記長方形断面の長軸が前記回転軸線に平行に延在し且つ試料表面と前記入射X線の光軸とがなす角度が0〜3度となるように前記X線管が固定保持されていること、を特徴とする請求項1に記載のX線回折分析装置。
- 前記X線管が、交換可能であり、異なる元素の特性X線を発生させる複数のX線管の中からX線管を選択して使用可能であることを特徴とする、請求項1または2に記載のX線回折分析装置。
- 前記X線管と前記試料との間の距離および試料表面と前記入射X線の光軸とがなす角度を調整するための機構が設けられていることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載のX線回折分析装置。
- 前記X線管のX線取り出し窓が、前記X線管で発生する特性X線のうちのKβ線を吸収するフィルター材からなることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載のX線回折分析装置。
- 前記二次元位置敏感型検出器および前記角度発散制限手段の回動角度範囲が、試料表面に対して60度の位置から120度の位置までであることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載のX線回折分析装置。
- 試料表面と前記二次元位置敏感型検出器との間の距離を調整する機構が設けられていることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載のX線回折分析装置。
- 固定保持されている不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を含んだX線回折図形を、試料を照らす入射X線として所定の元素の特性X線を発生させるX線管と、二次元に配列された複数の検出素子からなる二次元位置敏感型検出器とを用いて取得するためのX線回折分析方法において、
試料に近接して配置されたX線管から出射して一切の光学素子を介さずに試料に入射する入射X線によって試料表面の観察しようとする被測定領域全体を照らすこと、
試料で回折されて前記被測定領域内の各部位から出射する回折X線の角度発散を制限す
ることにより、各部位から出射する回折X線をそれぞれ二次元位置敏感型検出器の異なる検出素子で区別して検出すること、および
試料表面に被測定領域の中心を通って入射X線の光軸に垂直に延在する回転軸線のまわりで二次元位置敏感型検出器を回動移動させて所望の角度位置に二次元位置敏感型検出器を保持し、その位置で各検出素子が検出した回折X線の強度を各画素値とする二次元の回折X線画像を形成して記録すること
を特徴とするX線回折分析方法。
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