JP2006240964A - 高純度シリコンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶融シリコンに酸化剤を付与してシリコン中のホウ素を酸化して除去するシリコンの製造方法において、高温酸化剤から発生した酸化性ガスを精製炉内、又は、溶融Si上の狭い空間に密閉することにより、系外に廃棄されるガス量を減少させ、酸化剤使用量を抑制するものである。酸化剤のガス化は、その温度での飽和蒸気圧に達した時点で停止するので、それ以降、酸化剤の急速なガス化は発生せず、酸化性ガスによるSi中のホウ素酸化は安定して進行する。
【選択図】図1
Description
図1を用いて、第1発明を説明する。精製炉1内に設置されたるつぼ2は、周囲のヒータ3により加熱・保温される。るつぼ内には溶融させたSi4を保持でき、所定温度に維持される。るつぼ2内の溶融Si4上に酸化剤供給管7を通して酸化剤5が供給される。これら、溶融Si−酸化剤起因の酸化性ガス間でB除去を含めた反応・精製がなされる。加熱時の炉内雰囲気は、ガス供給管10、ガス排気管11を通して、ガス種・ガス濃度が制御される。精製中は、これらの配管の弁13を閉止して、炉内を密閉する。その結果、酸化剤より発生したガスにより、炉内は高圧化する。炉内圧力は、反応速度の観点からは、より高圧であることが望ましいが、100気圧を超える高圧設備は一般に極めて高価であるため、100気圧以下が望ましい。酸化剤が充分消耗(Si融液との反応によるもの)した時点で、残酸化剤はるつぼ外に排出される。排出方法は、るつぼに設置されたるつぼ傾動装置12によってるつぼが傾けられ、溶融Si上部に存在する残酸化剤及びSiの酸化により副次的に生成したスラグのみが冷却材受9に排出される。この後、るつぼを元の位置に戻し、必要であれば、再度酸化剤を溶融Si上に供給して精製を複数回継続してもよい。
酸化剤に関しては、酸化能力、純度、取り扱い易さ、並びに、価格の条件を満たせばどの様なものでもよい。しかし、望ましくは、酸化剤は、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属の炭酸塩の水和物、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩の水和物、又は、アルカリ土類金属の水酸化物の内、1種又は2種以上の組み合わせを主成分とする物質であるべきである。なぜならば、これらの物質は、第1に、高温下で酸化性ガスを容易に発生させ、第2に、Siへの溶解による汚染が少ないからである。更に望ましくは、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属の炭酸塩の水和物、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩の水和物、又は、アルカリ土類金属の水酸化物として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、又は、これらの水和物、水酸化マグネシウム、又は、水酸化カルシウムの内、1種又は2種以上を用いることである。なぜならば、これらの物質は、第1に、Siの酸化に伴いSi融液表面に発生する強固なSiO2薄膜と反応して低粘度のスラグを形成し、酸化剤とSi融液の接触阻害を回避させる効果があるから、第2に、工業的に大量に生産されており、高純度製品の製造法が確立しているからである。尚、この明細書及び請求の範囲に記載されているアルカリ土類金属は、ベリリウムとマグネシウムを含むものとする。
スラグは、Si融点以上の高温で固体又は液体として安定に存在し、かつ、Siへの汚染の少ないものが望ましい。この様な物質の例として、高純度のシリカ、アルミナを主体にすることが望ましい。また、後述の様に低温での作業が望ましいので、低温でもスラグに流動性を付与するため、添加剤を用いることが適当である。添加剤としては、Siを汚染し難い物質として、CaO、NaCO3等を用いることができる。但し、スラグの粘性を過度に低下させると、スラグの下方で酸化剤から発生したガスがスラグ中を気泡として容易に上昇してしまうので、問題である。特に、酸化剤との反応によって、作業後半ではスラグの粘性は急激に低下するので、投入時のスラグは、流動可能な範囲で、できるだけ高粘度、例えば、0.01Pa・sec以上にすべきである。また、スラグは僅かな流動性を有すればSi上を密閉することが可能なので、例えば、105Pa・sec以下の粘度のものであれば十分使用できる。スラグ温度は、スラグの流動性を好適にするため、適宜設定されるべきである。但し、1000℃未満のスラグでは、酸化性ガスの吸収速度が著しく低下するので、これ以上の温度とすべきであり、るつぼ保護の観点からは2000℃以下で作業すべきである。
使用するるつぼについては、溶融シリコンや酸化剤に対して安定であることが望ましく、例えば、黒鉛やアルミナが使用可能である。
図1の精製炉を用いてSiの精製を実施した。まず、精製炉内の直径500mmの黒鉛製るつぼ内に、B濃度12質量ppmで平均直径5mmの金属Si粒を50kg配置し、Ar雰囲気下で抵抗ヒータによりるつぼを加熱して、1500℃の溶融Siとして保持した。次に、酸化剤供給弁15を開放し、B濃度0.3質量ppmで粉末状の常温の炭酸ナトリウム(Na2CO3)5kgを、酸化剤供給管7を通じて精製炉内の溶融Si上に投入した。その後、酸化剤供給弁15及びガス供給管及びガス排出管の弁13を閉止して精製炉内を密閉し、溶融Siを1500℃に維持して30分間精製を実施した。精製開始後、炉内の圧力を圧力計14で連続監視した。精製中、酸化剤の昇温に伴って炉内圧力は急速に上昇したが、炉内ゲージ圧約900000Paに達した時点で安定した。精製終了後、弁13を開放し、10分間かけて徐々に炉内を常圧に復帰させ、るつぼを傾動して、残酸化剤及びSiの酸化により副次的に発生したスラグを廃スラグ受に排出した後、溶融シリコンのサンプルを採取した。サンプルの採取方法は、Siの融点以上に先端を加熱した高純度アルミナ管の先端を溶融シリコンに浸漬し、この管を通して溶融シリコンを吸引し、アルミナ管の加熱されていない部分で急冷されて凝固したシリコンをアルミナ管ごと炉外に取り出し、後に、アルミナ管からシリコンを分離したものを分析サンプルとした。1回当りのサンプル質量は、約100gであった。サンプルの成分分析方法は、広く市場で用いられているICP分析法によった。その後再び、溶融Si上に酸化剤を供給して精製を繰り返し、計7回の精製を実施した。1回の精製毎に、Si中のB濃度は、精製前の約1/2に低下した。最終的に得られたSi中のB濃度は、0.1質量ppmであり、太陽電池用SiのB濃度仕様を満足した。
図2の精製炉を用いて,Siの精製を実施した。まず、精製炉内の直径700mmの黒鉛製るつぼ内に、B濃度12質量ppmで平均直径5mmの金属Si粒を50kg配置し、Ar雰囲気下で抵抗ヒータによりるつぼを加熱して、1500℃の溶融Siとして保持した。次に、これとは別の第2の加熱炉内において、B濃度1.5質量ppmで平均直径10mmの高純度ケイ砂100kg及びB濃度0.3質量ppmで粉末状の炭酸ナトリウム(Na2CO3)30kgを事前に混和した後、第2の加熱炉内に配置された黒鉛るつぼ内で1600℃まで加熱・保持してスラグを形成した。次に、酸化剤供給弁15を開放し、B濃度0.3質量ppmで粉末状の炭酸ナトリウム(Na2CO3)5kgを、酸化剤供給管7を通じて精製炉内の溶融Si上に投入した後、スラグ供給弁16を開放し、第2の加熱炉内で生成させたスラグをるつぼと共に精製炉上まで輸送し、るつぼを傾動させ、スラグ供給管8を通じて精製炉内の溶融Si上にスラグを注湯した。酸化剤投入からスラグ注湯までの時間は、約5分であった。スラグ注湯後に、酸化剤供給弁15、スラグ供給弁16、並びに、ガス供給管及びガス排出管の弁13を閉止して精製炉内を密閉し、溶融Siを1500℃に維持して30分間精製を実施した。精製開始後、炉内の圧力を圧力計14で連続監視した。精製中、酸化剤の昇温に伴って炉内圧力は急速に上昇したが、炉内ゲージ圧が約10000Paに達した時点で安定した。精製終了後、弁13を開放して10分間かけて徐々に炉内を常圧に復帰させ、るつぼを傾動して、スラグ及び残酸化剤を廃スラグ受9に排出した後、溶融シリコン及びスラグのサンプルを採取した。サンプルの採取方法及び分析方法は、実施例1と同様である。その後再び、溶融Si上に酸化剤及びスラグを供給して精製を繰り返し、計8回の精製を実施した。1回の精製毎に、Si中のB濃度は、精製前の約1/2に低下した。最終的に得られたSi中のB濃度は、0.1ppmであり、太陽電池用SiのB濃度仕様を満足した。
図2の弁13を開放して炉内発生ガスを系外に排気することにより、精製時の炉内圧力を常圧に保持する条件とし、これ以外の条件を全て実施例2と同様に設定して、Si精製を実施した。最終的に得られたSi中のB濃度は、0.23ppmであり、太陽電池用SiのB濃度仕様を満足した。
2 るつぼ、
3 ヒータ、
4 溶融シリコン、
5 酸化剤、
6 スラグ、
7 酸化剤供給管、
8 スラグ供給管、
9 廃スラグ受、
10 ガス供給管、
11 ガス排気管、
12 るつぼ傾動装置、
13 弁、
14 圧力計、
15 酸化材供給弁、
16 スラグ供給弁。
Claims (5)
- シリコン精製炉内に配置された溶融シリコンに酸化剤を付与してシリコン中のホウ素を酸化してシリコン中から除去するシリコンの製造方法において、酸化剤から発生するガスを精製炉内に密閉することを特徴とする高純度シリコンの製造方法。
- シリコン精製炉内に配置された溶融シリコンに酸化剤を付与してシリコン中のホウ素を酸化してシリコン中から除去するシリコンの製造方法において、溶融シリコン上に酸化剤を配置し、酸化剤の上部を液体物質で覆うことにより、酸化剤からのガス発生量を抑制することを特徴とする高純度シリコンの製造方法。
- 前記酸化剤が、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属の炭酸塩の水和物、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩の水和物、又は、アルカリ土類金属の水酸化物の内、1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする請求項1又は2に記載の高純度シリコンの製造方法。
- 前記アルカリ金属の炭酸塩、前記アルカリ金属の炭酸塩の水和物、前記アルカリ金属の水酸化物、前記アルカリ土類金属の炭酸塩、前記アルカリ土類金属の炭酸塩の水和物、又は、前記アルカリ土類金属の水酸化物が、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、又は、これらの水和物、水酸化マグネシウム、又は、水酸化カルシウムの内、1種又は2種以上の組み合わせであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の高純度シリコンの製造方法。
- 前記液体物質が、シリコン酸化物、又は、アルミニウム酸化物の一方又は両方を主成分とするスラグであることを特徴とする請求項2に記載の高純度シリコンの製造方法。
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WO2008035799A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-03-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Procédé de purification du silicium, silicium et cellule solaire |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09202611A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Kawasaki Steel Corp | 金属シリコン中のボロン除去方法 |
WO2003066523A1 (fr) * | 2002-02-04 | 2003-08-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Procede de purification du silicium, scories pour purifier le silicium et silicium purifie |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09202611A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Kawasaki Steel Corp | 金属シリコン中のボロン除去方法 |
WO2003066523A1 (fr) * | 2002-02-04 | 2003-08-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Procede de purification du silicium, scories pour purifier le silicium et silicium purifie |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006240963A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Nippon Steel Corp | 高純度のシリコンの製造方法 |
JP4741860B2 (ja) * | 2005-03-07 | 2011-08-10 | 新日鉄マテリアルズ株式会社 | 高純度のシリコンの製造方法 |
WO2008035799A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-03-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Procédé de purification du silicium, silicium et cellule solaire |
JP5210167B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-06-12 | 信越化学工業株式会社 | 珪素の精製方法 |
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