JP2006238561A - ステージ装置 - Google Patents

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【課題】 環境条件によらず、ガントリーの安定した移動を行うことができるステージ装置を提供する。
【解決手段】 所定間隔をおいてベース1上に設置された2組のリニアガイド3a、3bと、これらのリニアガイドに移動可能に支持されるガントリー2と、ガントリー2をリニアガイド3a、3bに沿って駆動するX軸リニアモータ7a、7bと、ガントリー2の両端部に装着された軸受ユニット5a、5bとを備え、これらの軸受ユニットは、ガントリー2の両端部を旋回可能に支持するクロスローラ軸受7a、7bを有するとともに、一方の軸受手段5aはガントリー2の長手方向の変位を許容するリニア軸受60aを有しかつ他方の軸受手段5bはガントリー2の端部を拘束している。
【選択図】 図4

Description

本発明は、例えば液晶ディスプレイ等の電子部品の移動手段として使用されるステージ装置に関する。
半導体デバイスの製造装置の露光装置あるいは各種ディスプレイの製造装置においては、検査機器などの移動手段としてステージが使用されている。例えば液晶ディスプレイの製造工程においては、ガラス基板の全面に対して画像処理装置等を搭載したステージにより検査が行われるが、ステージの駆動手段としてボールネジに代わり、高精度かつ高速で処理するためにリニアモータを使用するのが一般的である。
詳述すると、液晶ディスプレイの製造設備においては、製造された液晶ディスプレイを検査するためにその移動手段としてベースに対して所定方向に移動するステージとそのステージに対して別の方向(直交する方向)に移動するステージを備えた2軸(X−Y)のステージ装置が使用されている。2軸のステージ装置としては、設置面積が小さくて済みしかも基板の大型化に対応できるようにするために、液晶ディスプレイを保持したガントリーをその長手方向の両端に固定されたリニア軸受を介して、ベース上に設置されたガイドに沿って移動させる構造が提案されている。このガントリー駆動型ステージ装置は、例えば一対のY軸リニアモータと、これらによりY軸方向に移動するX軸フレームに装着されたX軸リニアモータを備えている(特許文献1参照)。
上記リニア軸受(リニアガイド装置)としては、例えば上方に開口するC字形の断面形状とした案内レールの上面と摺接するライナを、直動ブロックの下面に貼り付け、案内レールの上板の開口縁と摺接する第1のガイド部材と案内レールの上板の内面と摺接する第2のガイド部材をねじで直動ブロックに固定するようにした構造が提案されている(特許文献2参照)。上記のライナと2つのガイド部材は、低摩擦面を構成する樹脂(PE,POM、フッ素樹脂など)で形成されている。
また移動体の前後左右から荷重が加わるような場合には、一条で全方向からの荷重を受けるために、移動体及び軌道軸に形成された循環路に、多数のローラをその回転中心軸を交互に異ならせた状態で整列保持するクロスローラ連結体を組み込むように構成した直線運動案内装置が提案されている(特許文献3参照)。
大型の液晶ディスプレー(例えば第7〜8世代)を検査する場合には、そのガラス基板は1辺の長さが約2m以上(第7世代:1870mm×2200mm、第8世代:2200mm×2600mm、2600mm×3100mm)になるので、ガントリーの長さも2〜4mになる。ガントリーは、炭素鋼、ステンレス鋼、セラミックスなどの構造用材料で形成されるが、高温の環境条件では熱膨張により長手方向(X軸方向)に伸びが発生する。例えば長さが4mのガントリーを炭素鋼(熱膨張係数:11.7×10−6/℃)又はステンレス鋼(熱膨張係数:17.3×10−6/℃)で作製した場合には、20℃の温度上昇があると、約0.9〜1.4mmの伸びが発生する。特にガントリーを、軽合金、例えばアルミニウム合金(比重:2.8)で作製した場合には、他の構造用材料、例えばセラミックス(ジルコニアの比重:3.8)、炭素鋼(比重:7.85)又はステンレス鋼(比重:7.90)と比較して、大幅な軽量化が可能となる。しかしながらアルミニウム合金の熱膨張係数は23.6×10−6/℃であり、ジルコニア(熱膨張係数:5×10−6/℃)、鋼(熱膨張係数:11.7×10−6/℃)、ステンレス鋼(熱膨張係数:17.3×10−6/℃)と比較して、かなり大きいので、高温の環境条件では熱膨張により長手方向に大きく伸びてしまう。例えば長さが4mのガントリーをアルミニウム合金で形成した場合には、20℃の温度上昇があると、約1.9mmも伸びることになる。
特開2001−69744号公報(第2頁、図6) 特開2003−343555号公報(第3〜4頁、図1、図2) 特開2000−46053号公報(第5〜7頁、図1、図2、図3)
上述したような伸びが発生すると、ガントリーはその両端でリニア軸受に拘束されているので、ガントリーの捩れが生じる。この状態でガントリーが駆動されると、一方の端部側にあるリニアモータから出力されるエンコーダ信号と他方の端部側にあるリニアモータから出力されるエンコーダ信号とのパルス差が生じるので、これらの信号に基づいて駆動回路から出力される駆動電流のバラツキとなって現れる。したがってガントリーの両端に装着されたリニアモータの推力が相互に異なるため、ガントリーの駆動を高精度で制御すことができない。
またリニア軸受の代わりに、クロスローラ連結体を使用した場合にも、ガントリーがその両端で拘束されていることに変わりはなく、熱膨張によりガントリーが大きく伸びた場合にはその伸びを吸収することができず、上記と同様にやはりガントリーの駆動を高精度で制御することができない。
従って本発明の目的は、環境条件によらずガントリーの駆動を高精度で制御することが可能なステージ装置を提供することである。
上記目的を達成するために、本発明のステージ装置は、所定間隔をおいてベース上に設置されたリニアガイドと、前記リニアガイドに移動可能に支持されるガントリーと、前記ガントリーを前記リニアガイドに沿って駆動する駆動手段と、前記ガントリーの両端部を支持する軸受ユニットとを備え、前記軸受ユニットは、前記ガントリーを前記リニアガイドに沿って案内する直動軸受と前記ガントリーを旋回可能に支持する旋回軸受を有するとともに、一方の軸受手段は前記ガントリーの長手方向の変位を許容する直動軸受を有しかつ多方の前記軸受ユニットは前記ガントリーの端部を拘束していることを特徴とするものである。
本発明においては、前記ガントリーは矩形状断面を有するとともに、前記旋回軸受は、内輪と外輪とに各々設けた対向するV字溝の間に複数の円筒コロを軸の向きが交差するように配列されたクロスローラ軸受とすることができる。
本発明においては、前記駆動手段は、前記ベースに固着された、前記ガントリーの移動方向に沿って正弦波状の磁界分布が現出する磁気空隙を有する固定子と、前記ガントリーに固定され、前記磁気空隙内に配置される多相コイルを含む可動子とを有する可動コイル型リニアモータであることが好ましい。
本発明によれば、移動方向と直交する方向に伸長するガントリーの両端部が旋回軸受を介して支持されると共に、ガントリーの一端部においては、ガントリーと旋回軸受との間に、リニア軸受が介装されているので、ガントリーの一端側は他端側を支点として回転可能に支持され、しかもガントリーの一端側はガントリーの長手方向に沿って自由に動き得る状態とされる。従ってガントリーが熱膨張により伸びても、ガントリーの一端側において、その伸びが吸収され、もってガントリーの駆動を高精度で制御することができる。
以下本発明の詳細を添付図面により説明する。図1は本発明の実施の形態に係わるステージ装置の平面図、図2は図1をA方向から見た矢視図、図3は図1をB方向から見た矢視図、図4は図1のC−C線断面図、図5は一方の軸受ユニットの断面図、図6は図5をD方向から見た矢視図、図7は他方の軸受ユニットの断面図、図8は図7をE方向から見た矢視図、図9はクロスローラ軸受の半断面図、図10は図9の一部を展開した図、図11はY軸リニアモータの断面図である。
図1〜図3に示すように、X軸リニアモータ(不図示)によりX軸方向に走行するガントリー2を有するステージ(以下ステージ装置という)100は、平板状のベース1と、ベース1上に所定間隔をおいて設置された2条のリニアガイド3a及び同じくベース1上に所定間隔をおいて設置された2条のリニアガイド3bと、ガントリー2の両端部を支持する2つの軸受ユニット5a、5bとを備えている。軸受ユニット5a、5bを保持するリニアテーブル30a、30bは、各々リニア軸受6a、6bを介してリニアガイド3a、3bに沿って移動可能に支持されている。各リニアガイド3a、3bの両端側には、ガントリー2の走行範囲を規制するために、サイドプレート4a、4bに支持されたストッパー41a、41bが配設されている。ガントリー2の上面には、Y軸方向に移動するリニアモータ8(図2及び図3参照)が設置されているが、理解を容易にするために図1では省略されている。
ステージ装置100の各部の構成は次の通りである。
ベース1は、高い位置決め精度を実現するために、剛性が高くかつ周囲の温度及び湿度変化に対して影響を受けにくい材料(例えばグラナイトに代表される石材)で形成されると共に、基準面となる表面は、高い面精度と平面度を有するように加工されている。
ガントリー2は、ベース1のY軸方向の略全長にわたって伸長する中空の角柱体状部材であるのが好ましく、セラミックス、FRPまたはオーステナイト系ステンレス鋼などの非磁性体で形成することができるが、軽量化を図る場合は、例えば、比重の小さい非磁性金属材料(例えばアルミニウム合金)で形成される。
ガントリー2の両端を支持する軸受ユニット5a、5bの構成を図5〜図10により説明する。まず、一方の軸受ユニット5aは、図5及び図6に示すように、Y軸方向に沿って配列された複数のボルト59aによりガントリー2(図4参照)の一端部が固定される支持板51aと、複数のボルト56aによりリニアテーブル30a(図4参照)の上面に固定される回転リング52aと、その外周に装着されたスライド板53aを有する。支持板51aはガントリー2のY軸方向の変位を許容するために、2組のリニア軸受60aを介してスライド板53aに対して相対移動可能に支持されている。回転リング52aとスライド板53aとの間には、軸心S2を有するクロスローラ軸受50a(図9及び図10参照)が介装されている。クロスローラ軸受50aの内輪501は、ボルト57aにより回転リング52aに締結された押え板54aにより、回転リング52aと連動して回転できるように支持されている。外輪502は、ボルト58aによりスライド板53aに締結された押え板55aによりスライド板53aに結合されている。ボルト56a、57a及び58aは、各々ピッチ円P1、P2及びP3(いずれも軸心S2と同心)の上に所定角度間隔をおいて配置される。
次に、他方の軸受ユニット5bは、図7及び図8に示すように、Y軸方向に沿って配列された複数のボルト59bにより、スペーサ50を介してガントリー2(図4参照)の他端部が固定される支持板51bと、複数のボルト56bによりリニアテーブル30b(図4参照)の上面に固定される回転リング52bと、その外周に装着されたスライド板53bを有する。回転リング52bとスライド板53bとの間には、クロスローラ軸受50b(図9及び図10参照)が介装されている。クロスローラ軸受50bの内輪501は、ボルト57bにより回転リング52bに締結された押え板54bにより回転リング52bと連動して回転できるように支持されている。クロスローラ軸受50bの外輪502は、ボルト58bによりスライド板53bに締結された押え板54bによりスライド板53bに結合されている。ボルト56b、57b及び58bは、各々ピッチ円P1、P2及びP3(いずれも軸心S1と同心)の上に所定角度間隔をおいて配置される。
クロスローラ軸受50(50a、50b)は、例えば図9及び図10に示すように構成することができる。すなわち、内輪501と外輪502に各々設けられたV型転走溝503、504の間に、複数のコロ505を、相隣るコロの軸の向きが交差するように配列され、これらのコロ505は、例えばリテーナ506により、互いに間隔をおいて保持されている。コロ505は、リテーナの代わりに、リング状の保持器により、互いに間隔をおいて保持することができる。クロスローラ軸受50a、50bは、このような構造を有するので、ラジアル荷重(軸受の中心軸に直角(Y軸方向)に加わる荷重)及びアキシアル荷重(軸受の中心に加わる総質量)の他に大きなモーメント荷重(ラジアル荷重およびアキシアル荷重が軸受中心を通らない時、各荷重と軸受中心から荷重方向までの距離との積を合計したもの)を受けた場合でも、ガントリーを安定した状態に支持することができる。
ガントリー2を駆動するX軸リニアモータ7a(7b)は、図4に示すように、非磁性かつ剛性の大なる材料からなる一対の支持ブロック11a、11a(11b、11b)の内側に固設された固定子71a(71b)とリニアテーブル30a(30b)の下面に固着された可動子75a(75b)を有する。固定子71a(71b)は、強磁性体からなる断面コ字型のヨーク72a(72b)とその内面に固着された一対の永久磁石体73a、74a(73b、74b)を含み、各永久磁石体は、厚さ方向に磁化された複数のブロック状永久磁石が空隙を介して異極性の磁極が対面しかつ相隣る磁極の極性が異なるようにX軸方向に連続又は所定間隔をおいて配置された構造(例えば複数のブロック状永久磁石により構成したハルバッハ型磁気回路等)を有する。従って一対の永久磁石体73a、74a(73b、74b)の間に形成された磁気空隙には強い磁界強度でかつ正弦波状の磁束密度分布が形成されている。
可動子75a(75b)は、リニアテーブル30a(30b)の下面に固着されたコイルユニット(不図示)を有する。コイルユニットは、コイルボビンとそこに装着された複数の偏平コイルを含む多相コイル(例えば2相または3相コイル)であり、各相のコイルに駆動電流(所定方向のパルス電流)が給電された時にX軸方向の推力が発生するように結線されている。
可動子75a(75b)の位置決めを行うために、リニアエンコーダを使用し、位置信号などのエンコーダ信号(パルス信号)を駆動回路(不図示)に出力し、この駆動回路から所定の駆動電流を可動子75a(75b)のコイルに供給することができる。リニアエンコーダとしては、固定側に設置された磁気スケールと可動子側に設置された磁気抵抗効果素子(例えばホール素子)などの磁気センサー(不図示)とを組合せた磁気式エンコーダを使用できるが、小型化が容易な光学式リニアエンコーダが好ましい。光学式リニアエンコーダの場合は、例えば、リニアスケールに設けた一定のピッチの目盛に相当する明暗の模様を反射光学式エンコーダで読み取る方式、又はスリットの有無で光の透過量が変化することを利用して、位置に対応するパルス信号を発振する透過光学式リニアエンコーダのいずれでもよい。
またガントリー2がX軸方向に沿って所定位置まで移動すると、ガントリー2の上に設置されたY軸リニアモータ8が駆動される。図11に示すように、Y軸リニアモータ8は、ガントリーに固定されるベース80に支持されるケ−ス81と、その内面に固着された固定子82と、ケース81の外周面に設置されたリニアガイド87a、87bに、リニア軸受88a、88bを介して案内されるキャリッジ89に固定された可動子86を有する。固定子82はY軸方向に沿って伸びる断面コ字型のヨーク83とその内面に固着された一対の永久磁石体84、85を有する。可動子86はキャリッジ89に固定されたコイルユニット(不図示)を含む。永久磁石体84、85及び可動子86のコイルユニットは、X軸リニアモータ7の永久磁石体73,74及びコイルユニットと同様に構成することができる。
次に上記のステージ装置100の動作を説明する。X軸リニアモータ7a、7bのコイルユニットに通電して、可動子75a、75bにX軸方向の推力を発生させることにより、ガントリー2はリニアガイド3a、3bに沿って(X軸方向に)走行する。上記の多極多相型リニアモータ7a、7bによれば、起動時には多相コイルに大電流を流して大きな推力を発生させ、所定速度まで加速された時には駆動電流を低減させて一定の速度で駆動し、目標位置に近づくと再び駆動電流を高めて減速させるような速度パターンで駆動される。ガントリー2の走行中に環境温度が上昇すると、ガントリー2は熱膨張によりY軸方向に伸びる。
ここで、ガントリー2の端部(図1の下側)は、直接クロスローラ軸受50b(図7参照)で支持されているが、ガントリー2の別の端部(図1の上側)は、リニア軸受60aを介してクロスローラ軸受50a(図5参照)で支持されているので、ガントリー2は、その伸びが拘束されず、ガントリー2のY軸方向への変位が許容される。このため、ガントリー2の端部は、クロスローラ軸受50bの軸心S1を支点として、S1からクロスローラ軸受50aの軸心S2までの距離を半径とした円弧に沿って所定角度(α)だけ矢印Z方向に回転することができるので、ガントリー2は、捩れることなく、Y軸方向に伸びた状態を保ちながら、リニアガイド3a、3bに沿ってX軸方向に案内される。実用上、α=0.1〜10°、好ましくはα=1〜5°程度に設定される。したがってガントリー2のX軸方向の駆動を高精度で制御することができる。具体的には、ガントリー2の長さ(L)が4m程度までは、その平行度(ガントリー2の一方の端部と他方の端部とのずれ量)を最大20〜30μm以下に保つことが可能となり、ガントリー2が伸びた状態であっても、リニアガイド3a、3bに沿って平行に移動することができる。
以下、本発明を下記の実施例により詳細に説明するが、それにより本発明が限定されるものではない。
(実施例)
図1に示すステージ装置100において、ガントリー2を100mm/secの速度で、X軸方向(図中右から左)に900mmだけ移動させた時に、一方のX軸リニアモータ(7a)で得られたエンコーダ信号のパルス数と他方のX軸リニアモータ(7b)で得られたエンコーダ信号のパルス数との差異(ヨーイング誤差)を測定した結果を図12に示す。またこの移動動作中において、駆動回路(不図示)からX軸リニアモータ7a、7bの各3相コイルに供給された駆動電流の波形を測定した結果を図13に示す。図12において、縦軸はパルス数(P)を示し、横軸は走行時間を示す。1Pは0.5μmに相当するとともに、目標指令は0パルス(P)の線である。図13において、縦軸は電圧(1Vは1Aに相当する)を示し、a1が一方のX軸リニアモータ(7a)の駆動電流、a2が他方のX軸リニアモータ(7b)の駆動電流である。
(比較例)
比較のために、軸受ユニット5a、5bを取り外した以外は上記ステージ装置100と同一の構造とした比較例のステージ装置において、ガントリー2を100mm/secの速度で、X軸方向に900mmだけ移動させた時に、一方のX軸リニアモータ(7a)で得られたエンコーダ信号のパルス数と他方のX軸リニアモータ(7b)で得られたエンコーダ信号のパルス数との差異(ヨーイング誤差)を測定した結果を図14に示す。またこの移動動作中において、駆動回路(不図示)からコイルに供給された駆動電流の波形を測定した結果を図15に示す。図14において、縦軸はパルス数(P)を示し、1Pは0.5μmに相当するとともに、目標指令は0パルス(P)の線である。図15において、縦軸は電圧(1Vは1Aに相当する)を示し、b1が一方のX軸リニアモータ(7a)の駆動電流であり、b2が他方のX軸リニアモータ(7b)の駆動電流である。
図12に示すように、一方のリニアモータと他方のリニアモータとのエンコーダ信号のパルスの差を検討すると、ヨーイング誤差は略±2μmに収まり、本発明のステージ装置によれば、クロスローラ軸受とリニア軸受により、ガントリーの機械的な捩れが吸収されることがわかる。これに対して、従来のステージ装置においては、図14に示すように、一方のリニアモータと他方のリニアモータとのエンコーダ信号のパルスの差を検討すると、ヨーイング誤差は8〜18μmにも達し、ガントリーの位置に依存するガントリーの機械的な捩れが、エンコーダパルスの差として現れることがわかる。
図1のステージ装置100によれば、図13に示すように、駆動回路から左右のX軸リニアモータ7a,7bの各3相コイルに供給される駆動電流が同等であり(駆動電流が同相で変化する)、ガントリー2を駆動するための推力を一対のリニアモータ7a,7bで均等に負担しており、ガントリー2の機械的な捩れが吸収できることがわかる。これに対して、従来のステージ装置によれば、図15に示すように、一対のX軸リニアモータに供給される駆動電流が大きくばらつき(電流の位相が逆になる)、ガントリーを駆動するための推力を両方のX軸リニアモータで負担しており、ガントリーを案内するレールの曲がりなどに起因する機械的な捩れが、駆動電流の大きなばらつきとして現れることがわかる。
本発明は、上記の実施の形態に限らず、例えば次のような変形が可能である。
ガントリーの長手方向の両端部を摺動自在に支持するリニア軸受の変わりに、非接触で支持する流体圧軸受(例えば空気軸受)を使用することができる。
旋回軸受としては、クロスローラ円すいころ軸受、単列スラストアンギュラ玉軸受(内輪及び外輪の軌道溝がアーチ状に形成された4点接触玉軸受)、複列スラストアンギュラ玉軸受(上下2列の軌道を有し、上列がアキシアル荷重、ラジアル荷重及びモーメント荷重を負荷し、下列がラジアル荷重及びモーメント荷重を負荷する玉軸受)、または旋回複合スラスト円筒ころ軸受(3列の円筒ころを用いた複合軸受)などの種々の形式の軸受を使用することができる。
上記実施の形態では可動コイル型リニアモータの場合を記載したが特に限定されず、X軸リニアモータ及びY軸リニアモータとして可動磁石型の多極多相型リニアモータを使用することができる。
本発明の実施の形態に係わるステージ装置の平面図である。 図1をA方向からみた矢視図である。 図1をB方向からみた矢視図である。 図1のC−C線矢視断面図である。 一方の軸受ユニットの断面図である。 図5をD方向から見た矢視図である。 他方の軸受ユニットの断面図である。 図7をE方向から見た矢視図である。 クロスローラ軸受の半断面図である 図9の一部を展開した図である。 Y軸リニアモータの断面図である。 図1のステージ装置のヨーイング誤差特性を示す図である。 図1のステージ装置の駆動電流特性を示す図である。 従来のステージ装置のヨーイング誤差特性を示す図である。 従来のステージ装置の駆動電流特性を示す図である。
符号の説明
100:ステージ装置、1:ベース、2:ガントリー、3a、3b:リニアガイド、4a、4b:サイドプレート、41a、41b:ストッパー、5a、5b:軸受ユニット、51a、51b:支持板、52a、52b:回転リング、53a、53b:スライド板、54a、54b:押え板、6a、6b、60a:リニア軸受、50、50a、50b:クロスローラ軸受、501:内輪、502:外輪、503、504:転走溝、505:コロ、506:リテーナ、
7a、7b:X軸リニアモータ、71a、71b:固定子、72a、72b:ヨーク、73a、73b、74a、74b:永久磁石、75a、75b:可動子、
8:Y軸リニアモータ、80:ベース、81:ケース、82:固定子、83:ヨーク、84、85:永久磁石、86:可動子、87:リニアガイド、88:リニア軸受、89:キャリッジ

Claims (3)

  1. 所定間隔をおいてベース上に設置されたリニアガイドと、前記リニアガイドに移動可能に支持されるガントリーと、前記ガントリーを前記リニアガイドに沿って駆動する駆動手段と、前記ガントリーの両端部を支持する軸受ユニットとを備え、前記軸受ユニットは、前記ガントリーを旋回可能に支持する旋回軸受を有するとともに、一方の軸受ユニットは前記ガントリーの長手方向の変位を許容する直動軸受を有しかつ他方の前記軸受ユニットは前記ガントリーの端部を拘束していることを特徴とするステージ装置。
  2. 前記ガントリーは矩形状断面を有するとともに、前記旋回軸受は、内輪と外輪とに各々設けた対向するV字溝の間に複数の円筒コロを軸の向きが交差するように配列されたクロスローラ軸受であることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
  3. 前記駆動手段は、前記ベースに固着された、前記ガントリーの移動方向に沿って正弦波状の磁界分布が現出する磁気空隙を有する固定子と、前記ガントリーに固定され、前記磁気空隙内に配置される多相コイルを含む可動子とを有する可動コイル型リニアモータであることを特徴とする請求項1または2に記載のステージ装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100914494B1 (ko) 2007-01-22 2009-08-28 정훈택 이동장치
JP2017217736A (ja) * 2016-06-09 2017-12-14 大銀微系統股▲分▼有限公司Hiwin Mikrosystem Corp. フレキシブルメカニズムとそれを有するガントリー装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03243199A (ja) * 1990-02-20 1991-10-30 Matsushita Electric Works Ltd 位置決め装置
JP2001069744A (ja) * 1999-08-13 2001-03-16 Mirae Corp Xyガントリーの冷却装置
JP2001258289A (ja) * 2000-03-15 2001-09-21 Canon Inc リニアモータおよびステージ装置ならびに露光装置とデバイス製造方法
JP2002521214A (ja) * 1998-07-23 2002-07-16 アーツェーテック・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング−アドヴァンスト・キャスティング・テクノロジーズ・ギーセライテヒノロギー 直線状の直接駆動をもつ平面ガントリシステム
JP2002300766A (ja) * 2001-03-30 2002-10-11 Hitachi Metals Ltd 揺動モータおよびステージ装置
JP2004072960A (ja) * 2002-08-09 2004-03-04 Nippon Thompson Co Ltd リニアモータを内蔵したアライメントステージ装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03243199A (ja) * 1990-02-20 1991-10-30 Matsushita Electric Works Ltd 位置決め装置
JP2002521214A (ja) * 1998-07-23 2002-07-16 アーツェーテック・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング−アドヴァンスト・キャスティング・テクノロジーズ・ギーセライテヒノロギー 直線状の直接駆動をもつ平面ガントリシステム
JP2001069744A (ja) * 1999-08-13 2001-03-16 Mirae Corp Xyガントリーの冷却装置
JP2001258289A (ja) * 2000-03-15 2001-09-21 Canon Inc リニアモータおよびステージ装置ならびに露光装置とデバイス製造方法
JP2002300766A (ja) * 2001-03-30 2002-10-11 Hitachi Metals Ltd 揺動モータおよびステージ装置
JP2004072960A (ja) * 2002-08-09 2004-03-04 Nippon Thompson Co Ltd リニアモータを内蔵したアライメントステージ装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100914494B1 (ko) 2007-01-22 2009-08-28 정훈택 이동장치
JP2017217736A (ja) * 2016-06-09 2017-12-14 大銀微系統股▲分▼有限公司Hiwin Mikrosystem Corp. フレキシブルメカニズムとそれを有するガントリー装置

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