JP2006229154A - 圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、およびそれらの製造方法 - Google Patents
圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、およびそれらの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006229154A JP2006229154A JP2005044415A JP2005044415A JP2006229154A JP 2006229154 A JP2006229154 A JP 2006229154A JP 2005044415 A JP2005044415 A JP 2005044415A JP 2005044415 A JP2005044415 A JP 2005044415A JP 2006229154 A JP2006229154 A JP 2006229154A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- piezoelectric
- adhesion layer
- electrode layer
- adhesion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】 電極層の密着性を改善できる圧電アクチュエータ、インクジェットヘッドおよびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】 振動板2上に、エアロゾルデポジション法により、圧電層5を構成する材料と同一のPZTからなる密着層3を形成する。このとき、セラミックス材料であるPZTの粒子は比較的硬く、衝突の衝撃によって振動板2にめり込むため、密着層3が振動板2に強く密着する。そして、この密着層3上に、下部電極4を形成し、その上に圧電層5を重ねる。このとき、下部電極4を圧力室16の開口部16Aに対応する領域に設け、その周縁には密着層3が露出する露出領域3Aを設けておく。そして、この上に圧電層5を積層すると、露出領域3においては圧電層5が密着層3上に直接に積層され、密着層3と一体化する。したがって、下部電極4が密着層3と圧電層5からなるセラミックス層に閉じ込められて強固に固定される。
【選択図】 図1
Description
なお、密着層を構成する層の具体例としては、例えばアルミナ、ジルコニア等からなる絶縁層、拡散防止層等が挙げられる。
をさらに備えるものである。
そして、この密着層上に、一の電極層を形成し、その上に圧電層を重ねる。このとき、一の電極層の周縁には密着層が露出する露出領域が設けられるから、この露出領域が上層に形成される圧電層と直接に接し、圧電層と密着する。ここで、密着層はセラミックス材料により形成されて、圧電層(多くは酸化物セラミックスである)と親和性が良いから、密着層と圧電層とが強く密着する。このようにすれば、一の電極層が密着層と圧電層との間に挟み込まれ、密着層の露出領域と圧電層との密着によって固定される。これにより、下部電極の基板及び圧電層との剥離を防止でき、良好な圧電特性を確保することができる。
以下、本発明を具体化した第1実施形態について、図1〜図3を参照しつつ詳細に説明する。図1には、本実施形態のインクジェットヘッド10を示す。インクジェットヘッド10は、インク20が収容される複数の圧力室16を備えた流路ユニット11(本発明のインク流路形成体に該当する)と、この流路ユニット11上に圧力室16を閉じるように接合されたアクチュエータプレート1(本発明の圧電アクチュエータに該当する)とを備えている。
なお、この圧電層5は、エアロゾルデポジション法により形成されたものであって、その厚み方向に分極するように分極処理が施されている。
以下、本発明の第2実施形態について、図4および図5を参照しつつ説明する。図4には、本実施形態のインクジェットヘッド40を、図5には、このインクジェットヘッド40用のアクチュエータプレート41の製造工程を示した。本実施形態の第1実施形態との相違点は、密着層43が圧電層45とは異なる種類のセラミックス材料により形成されている点である。
その余の構成は第1実施形態と同様であるので説明を省略する。
<実施例1>
1.下部電極および圧電層の形成
(1)密着層
ステンレス(SUS430)製の基板の表面に、AD法により厚さ2μmの密着層を形成した。セラミックス材料としてはアルミナを用い、成膜条件は、ノズル開口0.4mm×10mm、成膜チャンバー内圧力400Pa、エアロゾル室内圧力30000Pa、キャリアガス種類He、ガス流量は6リットル/min、ノズル−基板間距離10〜20mmとした。
下部電極材料としては、Ti/Pt合金を用いた。成膜装置としては上記実施形態と同様のものを使用した。
密着層上に、RF(高周波)スパッタ法により厚さ1μmの下部電極層を形成した。スパッタ条件は高周波電力1kW、チャンバ内圧力0.08Paとした。このとき、下部電極をアルミナ層よりも一回り小さく形成し、下部電極の周縁に密着層が露出した領域が残るようにした。
次いで、この下部電極層を形成した密着層上に、AD法により圧電層を形成した。圧電材料としてはPZTを用い、成膜条件はノズル開口0.4mm×10mm、成膜チャンバー内圧力300Pa、エアロゾル室内圧力30000Pa、キャリアガス種類He、ガス流量は4リットル/min、ノズル−基板間距離10〜20mmとした。このとき、圧電層を密着層上面の全面にわたって形成し、下部電極周縁の密着層が露出した領域においては、圧電層が密着層上に直接に積層されるようにした。圧電層の厚さは表面粗さ計による段差測定で概ね8μmであった。
圧電膜上に粘着性樹脂テープを用いてマスキングを行い、有効面積3.6mm2以上の上部電極をAu蒸着機を用いて形成して、圧電アクチュエータを構成した。
この圧電アクチュエータに、また、強誘電体測定器(TFANALYZER2000;AiXACT社製)により、周波数1Hzで電圧を+30V〜−30Vまで変化させながら印加して静電容量を測定し、残留分極(Pr)および抗電界(Ec)を求めた。
圧電層を下部電極上にのみ形成し、圧電層と密着層とが直に接する部分が無いようにした。その他は、実施例1と同様にして下部電極および圧電層の形成、および試験を行った。
実施例、比較例ともに、試験開始直後のPrは36μC/cm2、Ecは80kV/cmであった。実施例においては、開始60分後のPrは34μC/cm2、Ecは82kV/cmであり、良好な圧電特性を維持していた。一方、比較例では、開始10分後にPrが10μC/cm2、Ecが90kV/cmとなり、圧電特性が大きく低下していることから、下部電極層の剥離が生じていると判断された。
このことから、実施例においては、密着層の露出領域と圧電層との強い密着により下部電極層が固定されているために、下部電極の密着層および圧電層からの剥離が回避され、高い圧電特性を維持できているといえる。
(1)上記実施形態では、圧電材料としてPZTを使用したが、圧電材料の種類としては圧電アクチュエータの材料として通常に使用されるものであれば特に制限はなく、例えばチタン酸バリウム、チタン酸鉛、マグネシウムニオブ酸鉛(PMN)、ニッケルニオブ酸鉛(PNN)、亜鉛ニオブ酸鉛等を使用することができる。
(2)上記実施形態では、圧力室16の開口部16Aに対応する領域に下部電極4、44を形成し、開口部16Aから外れる領域を露出領域3A、43Aとしたが、下部電極と露出領域の形成位置は上記実施形態の限りではなく、下部電極の周囲を囲うように露出領域が設けられる形態であればいかなる形態であっても良い。例えば、密着層の周縁よりやや内側位置までを露出領域とし、この露出領域よりも内側の領域に全域にわたって下部電極を形成するようにしても良い。
(3)上記実施形態では、上部電極を圧電層の全面にわたって形成したが、上部電極の形状は上記実施形態の限りではなく、例えば各圧力室の開口部に対応する領域に個別に形成しても良い。
(4)第1実施形態では、密着層3を構成する材料として圧電層5を構成する材料と同一のPZTを使用し、第2実施形態では、密着層43を構成する材料として圧電層45を構成する材料とは異なるセラミックス材料であるアルミナを使用したが、密着層を構成する材料は上記実施形態の限りではなく、圧電層を構成する圧電セラミック材料と同質で親和性の良いセラミックス材料であれば適用可能である。例えば、インジウム−スズ酸化物(ITO)、SrRuO3(SRO)など、一般には電極として用いられる材料であっても良いし、また、例えば、密着層3を、圧電層を構成する材料と同一の材料と異なる材料との混合物によって形成しても良い。
2…振動板(基板)
3…密着層
3A…露出領域
4…下部電極(一の電極層)
5…圧電層
6…上部電極(他の電極層)
10…インクジェットヘッド
11…流路ユニット(インク流路形成体)
16…圧力室
16A…開口部
19…インク吐出ノズル
Claims (11)
- 基板と、
前記基板上にセラミックス材料により形成された密着層と、
前記密着層上に、周縁に前記密着層が露出された露出領域を残しつつ形成された一の電極層と、
前記一の電極層が設けられた前記密着層上に圧電材料の粒子を含むエアロゾルを噴き付けて前記粒子を付着させることにより前記露出領域および前記一の電極層を覆うように設けられた圧電層と、
前記圧電層上に設けられて前記一対の電極と対となる他の電極層と、
を備える圧電アクチュエータ。 - 前記密着層が前記圧電材料の粒子を含む請求項1に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記密着層の厚みが5μm以下である請求項1または請求項2に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記密着層が、組成の異なる複数の層が積層されてなるものであって、前記複数の層の厚みがそれぞれ3μm以下である請求項1〜請求項3のいずれかに記載の圧電アクチュエータ。
- 前記一の電極層が、前記基板に含まれる元素の前記圧電層への拡散を防止する拡散防止機能を有する請求項1〜請求項4のいずれかに記載の圧電アクチュエータ。
- 前記密着層が、前記セラミックス材料の粒子を含むエアロゾルを前記基板に噴き付けて付着させることにより設けられるものである請求項1〜請求項5のいずれかに記載の圧電アクチュエータ。
- インクを吐出するためのインク吐出ノズルと、
前記インク吐出ノズルに連通するとともに一面側に開口する開口部を備えた圧力室が複数設けられたインク流路形成体と、
前記インク流路形成体の一面側に前記開口部を閉じるように設けられた振動板と、
前記振動板上にセラミックス材料により形成された密着層と、
前記密着層上に、周縁に前記密着層が露出された露出領域を残しつつ形成された一の電極層と、
前記一の電極層が設けられた前記密着層上に、圧電材料の粒子を含むエアロゾルを噴き付けて前記粒子を付着させることにより前記露出領域および前記一の電極層を覆うように設けられた圧電層と、
前記圧電層上に設けられて前記一対の電極と対となる他の電極層と、
を備えるインクジェットヘッド。 - 前記一の電極層が、前記開口部に対応する開口領域に設けられているとともに、前記振動板に含まれる元素の前記圧電層への拡散を防止する拡散防止機能を有する請求項7に記載のインクジェットヘッド。
- 基板にセラミックス材料の粒子を含むエアロゾルを噴き付けてこのセラミックス材料の粒子を付着させることにより密着層を形成する密着層形成工程と、
前記密着層上において、周縁に前記密着層が露出する露出領域を残しつつ一の電極層を形成する第1の電極層形成工程と、
前記一の電極層を形成させた密着層上に圧電材料の粒子を含むエアロゾルを噴き付けてこの圧電材料の粒子を付着させることにより前記露出領域および前記一の電極層を覆うように圧電層を形成する圧電層形成工程と、
前記圧電層をアニール処理するアニール処理工程と、
前記圧電層上に前記一の電極層と対をなす他の電極層を形成する第2の電極層形成工程と、
を含む圧電アクチュエータの製造方法。 - インクを吐出するためのインク吐出ノズルに連通するとともに一面側に開口する開口部を備えた圧力室が複数設けられたインク流路形成体と、
前記インク流路形成体の一面側に前記開口部を閉じるように設けられる振動板と、この振動板上に積層される圧電膜とを備える圧電アクチュエータと、
を備えるインクジェットヘッドを製造する方法であって、
前記振動板にセラミックス材料の粒子を含むエアロゾルを噴き付けてこのセラミックス材料の粒子を付着させることにより密着層を形成する密着層形成工程と、
前記密着層上において、前記開口部に対応する開口領域に、周縁に前記密着層が露出する露出領域を残しつつ一の電極層を形成する第1の電極層形成工程と、
前記一の電極層を形成させた密着層上に圧電材料の粒子を含むエアロゾルを噴き付けてこの圧電材料の粒子を付着させることにより前記露出領域および前記一の電極層を覆うように圧電層を形成する圧電層形成工程と、
前記圧電層をアニール処理するアニール処理工程と、
前記圧電層上に前記一の電極層と対をなす他の電極層を形成する第2の電極層形成工程と、
を含むインクジェットヘッドの製造方法。 - 前記密着層形成工程の前に、
前記インク流路形成体を形成する前記インク流路形成体形成工程と、
前記インク流路形成体の前記一面に前記振動板を接合する振動板接合工程と、
をさらに備える請求項10に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005044415A JP2006229154A (ja) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | 圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、およびそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005044415A JP2006229154A (ja) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | 圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、およびそれらの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006229154A true JP2006229154A (ja) | 2006-08-31 |
Family
ID=36990210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005044415A Pending JP2006229154A (ja) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | 圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、およびそれらの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006229154A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008062388A (ja) * | 2006-09-04 | 2008-03-21 | Fuji Xerox Co Ltd | 液滴吐出ヘッドの検査方法と装置及び液滴吐出装置 |
JP2008195996A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Tama Tlo Kk | 物理蒸着装置および物理蒸着方法 |
JP2008244201A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Brother Ind Ltd | 圧電アクチュエータの製造方法 |
WO2010076864A1 (ja) * | 2008-12-29 | 2010-07-08 | ブラザー工業株式会社 | 圧電素子 |
WO2010116802A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | ブラザー工業株式会社 | 圧電素子 |
JP2014155350A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Canon Inc | 振動体とその製造方法及び振動型駆動装置 |
US8941290B2 (en) | 2009-07-28 | 2015-01-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibrating body and vibration wave actuator |
JP7220328B1 (ja) * | 2022-12-16 | 2023-02-09 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | ヘッドチップ、液体噴射ヘッド及び液体噴射記録装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11207957A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-03 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JPH11348297A (ja) * | 1998-06-04 | 1999-12-21 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2000094681A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-04 | Seiko Epson Corp | 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド、プリンタおよび圧電体素子の製造方法 |
JP2001156351A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-06-08 | Ricoh Co Ltd | 積層構造電極、その形成方法、及び圧電アクチュエータ |
JP2004249729A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-09-09 | Canon Inc | 圧電体素子 |
JP2005005645A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Fujitsu Ltd | 回路基板、受動部品、電子装置、及び回路基板の製造方法 |
JP2005035282A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-02-10 | Seiko Epson Corp | アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 |
JP2005101577A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層構造体及び圧電アクチュエータ、並びに、それらの製造方法 |
-
2005
- 2005-02-21 JP JP2005044415A patent/JP2006229154A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11207957A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-03 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JPH11348297A (ja) * | 1998-06-04 | 1999-12-21 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2000094681A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-04 | Seiko Epson Corp | 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド、プリンタおよび圧電体素子の製造方法 |
JP2001156351A (ja) * | 1999-11-26 | 2001-06-08 | Ricoh Co Ltd | 積層構造電極、その形成方法、及び圧電アクチュエータ |
JP2004249729A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-09-09 | Canon Inc | 圧電体素子 |
JP2005005645A (ja) * | 2003-06-16 | 2005-01-06 | Fujitsu Ltd | 回路基板、受動部品、電子装置、及び回路基板の製造方法 |
JP2005035282A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-02-10 | Seiko Epson Corp | アクチュエータ装置、液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 |
JP2005101577A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層構造体及び圧電アクチュエータ、並びに、それらの製造方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008062388A (ja) * | 2006-09-04 | 2008-03-21 | Fuji Xerox Co Ltd | 液滴吐出ヘッドの検査方法と装置及び液滴吐出装置 |
JP2008195996A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Tama Tlo Kk | 物理蒸着装置および物理蒸着方法 |
JP2008244201A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Brother Ind Ltd | 圧電アクチュエータの製造方法 |
US9186898B2 (en) | 2007-03-28 | 2015-11-17 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing piezoelectric actuator |
WO2010076864A1 (ja) * | 2008-12-29 | 2010-07-08 | ブラザー工業株式会社 | 圧電素子 |
WO2010116802A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | ブラザー工業株式会社 | 圧電素子 |
US8941290B2 (en) | 2009-07-28 | 2015-01-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibrating body and vibration wave actuator |
JP2014155350A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Canon Inc | 振動体とその製造方法及び振動型駆動装置 |
US9818927B2 (en) | 2013-02-08 | 2017-11-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibration element, method for manufacturing same, and vibration-type driving device |
JP7220328B1 (ja) * | 2022-12-16 | 2023-02-09 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | ヘッドチップ、液体噴射ヘッド及び液体噴射記録装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1953839B1 (en) | Piezoelectric Element, Ink Jet Head, and Ink Jet Recording Device | |
JP2006229154A (ja) | 圧電アクチュエータ、インクジェットヘッド、およびそれらの製造方法 | |
US7520596B2 (en) | Method for producing piezoelectric actuator, method for producing ink-jet head, and piezoelectric actuator | |
US7506441B2 (en) | Method for manufacturing a piezoelectric film on a substrate | |
US20060012646A1 (en) | Piezoelectric actuator, ink jet head, and method of manufacturing them | |
JP2013095088A (ja) | インクジェットヘッドおよびその製造方法と、インクジェット描画装置 | |
US7771780B2 (en) | Method of producing composite material, method of producing piezoelectric actuator, method of producing ink-jet head, and piezoelectric actuator | |
JP5262806B2 (ja) | 液体移送装置及び液体移送装置の製造方法 | |
JP2006054442A (ja) | 圧電アクチュエータ及びインクジェットヘッドの製造方法、圧電アクチュエータ及びインクジェットヘッド | |
JP2006116953A (ja) | 液体噴射装置及びその製造方法 | |
JP2006297915A (ja) | 圧電アクチュエータ、インクジェットヘッドおよびそれらの製造方法 | |
JP2006019718A (ja) | 圧電アクチュエータの製造方法、圧電アクチュエータ及びインクジェットヘッド。 | |
JP2006261656A (ja) | 圧電アクチュエータおよびその製造方法 | |
JP4917426B2 (ja) | 液体吐出装置 | |
JP4748352B2 (ja) | 圧電アクチュエータの製造方法、インクジェットヘッドの製造方法 | |
EP1958777B1 (en) | Method of manufacturing piezoelectric actuator and method of manufacturing liquid transporting apparatus | |
JP2007268838A (ja) | インクジェットヘッド | |
JP2007088449A (ja) | 複合材料膜、圧電アクチュエータ、およびインクジェットヘッドの製造方法、並びに圧電アクチュエータ | |
JP2003309301A (ja) | デバイス製造方法 | |
JP2010228277A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、アクチュエーター装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2001047623A (ja) | インクジェットプリンターヘッド | |
US20050220987A1 (en) | Method for manufacturing film or piezoelectric film | |
JPH10181013A (ja) | 圧電アクチュエータとその製造方法 | |
JP2005039986A (ja) | 圧電アクチュエータおよびこれを備えたインクジェット記録ヘッド | |
JP2004186574A (ja) | 圧電体薄膜素子およびインクジェット記録装置ならびにその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080220 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20091009 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20091009 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111117 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120508 |