JP2006219554A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】 泥汚れ等を効果的に落とすことができる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】 以下の成分（I）〜（III）を含有する洗浄剤組成物：
（Ｉ）リン元素含有化合物；
（II）以下の式（ａ−１）又は（ａ−２）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物；
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物、
（III）以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物；
【化１】
ＹIII＝ＯＨ；ｋ＝１〜５；ＸIII＝スルホン酸基又はカルボキシル基；Ｚ＝アミノ基；各ｎ及びｍ＝０〜５、ｎ＋ｍ≧1以上；各ｐ及びｑ＝０〜７。
【解決手段】 以下の成分（I）〜（III）を含有する洗浄剤組成物：
（Ｉ）リン元素含有化合物；
（II）以下の式（ａ−１）又は（ａ−２）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物；
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物、
（III）以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物；
【化１】
ＹIII＝ＯＨ；ｋ＝１〜５；ＸIII＝スルホン酸基又はカルボキシル基；Ｚ＝アミノ基；各ｎ及びｍ＝０〜５、ｎ＋ｍ≧1以上；各ｐ及びｑ＝０〜７。
Description
本発明は、衣類等の繊維製品上の落としにくい泥汚れの洗浄などに好適に使用される洗浄剤組成物に関する。
泥汚れは、通常の洗浄では落しにくく、特に繊維のように形状が複雑な部分に着いた泥汚れを落すのは困難である。泥汚れの主な成分である黒土は、無機物と有機物の混合汚れであり、この無機物と有機物を効率よく落す必要がある。
特許文献１には、窒素とエチレンオキシド付加型の４級アンモニウムカチオン活性剤を含有した液体洗浄剤組成物を用いて、泥洗浄の評価を行っている例が開示されている。特許文献２には、窒素を含有した高分子を用いて粘土除去を目的とし、この実施例にリン化合物のキレート剤を含有した例が開示されている。特許文献３には、酵素を用いて、土壌粘土の除去を目的とし、この実施例に３級アミノ基、アミノオキシド基を持つ高分子とリン化合物のキレート剤を組成に含有した例が開示されている。
特許文献１には、窒素とエチレンオキシド付加型の４級アンモニウムカチオン活性剤を含有した液体洗浄剤組成物を用いて、泥洗浄の評価を行っている例が開示されている。特許文献２には、窒素を含有した高分子を用いて粘土除去を目的とし、この実施例にリン化合物のキレート剤を含有した例が開示されている。特許文献３には、酵素を用いて、土壌粘土の除去を目的とし、この実施例に３級アミノ基、アミノオキシド基を持つ高分子とリン化合物のキレート剤を組成に含有した例が開示されている。
しかし、特許文献１に記載の組成物には、黒土の無機物に作用する成分が無いため充分な効果は期待できない。特許文献２に記載の組成物と特許文献３に記載の組成物には、黒土の有機成分を効果的に除去する芳香族化合物が無いため、高い効果は期待できない。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、有機物と無機物からなる泥汚れのような混合汚れであっても、効果的に落とすことができる洗浄剤組成物を提供することを課題とする。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、有機物と無機物からなる泥汚れのような混合汚れであっても、効果的に落とすことができる洗浄剤組成物を提供することを課題とする。
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の洗浄剤組成物を用いることにより、泥汚れのような混合汚れであっても、効果的に洗浄できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の成分（I）〜（III）を含有することを特徴とする洗浄剤組成物を提供する：
（Ｉ）リン元素含有化合物；
（II）以下の（ａ−１）又は（ａ−２）である、少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物；
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物、
（III）以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物；
すなわち、本発明は、以下の成分（I）〜（III）を含有することを特徴とする洗浄剤組成物を提供する：
（Ｉ）リン元素含有化合物；
（II）以下の（ａ−１）又は（ａ−２）である、少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物；
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物、
（III）以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物；
（式中、ＸIIIはスルホン酸基又はカルボキシル基のいずれかを表す；ＹIIIは水酸基である；ＺIIIはアミノ基を表す；ｋは１〜５の整数を表す；ｎ及びｍはそれぞれ０〜５の整数を表し、ｎ＋ｍは1以上の整数を表す；ｐ及びｑはそれぞれ０〜７の整数を表す。）
本発明によれば、有機物と無機物からなる泥汚れのような混合汚れであっても、効果的に落とすことができる。
（Ｉ）成分
本発明で（Ｉ）成分として使用されるリン元素含有化合物は、通常、洗浄剤組成物にキレート剤として用いられており、泥汚れ中の無機質部と有機質部の多価金属に直接作用する成分である。該成分は多価金属イオンを除去し、捕捉することによって、間接的に洗浄に寄与している。リン元素含有化合物としては、例えば、リン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸や、これらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩が挙げられる。好ましくは、ヘキサメタリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩である。特に、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸及びトリポリリン酸のアルカリ金属塩、特にナトリウム塩が好ましい。これらの化合物としては商業的に入手できるものを使用することができる。
本発明で（Ｉ）成分として使用されるリン元素含有化合物は、通常、洗浄剤組成物にキレート剤として用いられており、泥汚れ中の無機質部と有機質部の多価金属に直接作用する成分である。該成分は多価金属イオンを除去し、捕捉することによって、間接的に洗浄に寄与している。リン元素含有化合物としては、例えば、リン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸や、これらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩が挙げられる。好ましくは、ヘキサメタリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩である。特に、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸及びトリポリリン酸のアルカリ金属塩、特にナトリウム塩が好ましい。これらの化合物としては商業的に入手できるものを使用することができる。
これらリン元素含有化合物は１種単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、その配合量は、洗浄剤組成物の使用形態、使用方法、汚れの付着している被洗物の種類、汚れの量、汚れの付着状態などによって異なることから、適宜調製すればよい。好ましくは（Ｉ）と（ＩＩ）と（ＩＩＩ）成分の合計を１００質量％とした場合、成分（Ｉ）は５〜６０質量％であり、より好ましくは７〜５０質量％であり、更に好ましくは１０〜４０質量％である。（Ｉ）と（ＩＩ）と（ＩＩＩ）成分の合計における成分（Ｉ）の量がこのような範囲にあると、金属の除去性の観点で好ましい。
（ＩＩ）成分
本発明の洗浄剤組成物に使用される（ＩＩ）成分は、以下の（ａ−１）及び（ａ−２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物である：
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物。
（ＩＩ）成分は、主に汚れ中の有機物に作用し、有機物の分散性と再汚染防止をすると考えられる。
本発明の洗浄剤組成物に使用される（ＩＩ）成分は、以下の（ａ−１）及び（ａ−２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物である：
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物。
（ＩＩ）成分は、主に汚れ中の有機物に作用し、有機物の分散性と再汚染防止をすると考えられる。
（ａ−１）
本発明に使用できる（ａ−１）としては、例えば、下記式（１）で表される化合物が挙げられる。
本発明に使用できる（ａ−１）としては、例えば、下記式（１）で表される化合物が挙げられる。
式（１）中、ＲII-1およびＲII-2は各々独立に、水素、炭素数１〜２０の直鎖状または分岐鎖状アルキル基または直鎖状または分岐鎖状不飽和炭化水素鎖（該アルキル基及び炭化水素基は、炭素鎖中に水酸基、エステル部位又はハロゲンを１つ以上含んでいてもよい）、炭素数３から６のシクロアルキル基、フェニル基又はベンジル基のいずれかを示す。ＲII-1およびＲII-2は同じものであっても、異なるものでも良い。但し、ＲII-1とＲII-2は、同時に水素を表すことはなく、ＲII-1かＲII-2のどちらか一方が水素の場合は、他方は炭素鎖であり、N原子上の電荷はその時の液性により、帯電した状態の化学種でも、帯電していない化学種でもよく、この時のＸ−も液性によって、カウンターイオンとして存在しても無くてもよい。また、汚れへの吸着のしやすさからＲII-1＋ＲII-2の炭素数は５以上が好ましく、７以上がより好ましい。特に、ＲII-1又はＲII-2のいずれかの炭素数が５以上であって、界面活性を示す高分子化合物が好ましい。更に特に、ＲII-1が水素、ベンジル基、フェニル基であり、ＲII-2が炭素数１４〜１８の直鎖アルキル基又はアルケニル基であるのが好ましい。
ｓおよびｔは、エチレンオキシド基の平均付加モル数であり、各々独立に０以上の整数である。ｓ＋ｔは、汚れの分散性や、汚れの再付着防止の点から、１０以上が好ましく、より好ましくは１０以上６０以下である。Ｘ-はカウンターアニオンを示し、Ｘ-としては、ハロゲンイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、有機酸イオンなどを例示でき、好ましくは塩素イオン、臭素イオン、フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン等である。
式（１）で表される高分子化合物は１種単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
式（１）で表される高分子化合物としては、商業的に入手できるものを使用してもよいし、当業界で公知の方法により製造することもできる。
ｓおよびｔは、エチレンオキシド基の平均付加モル数であり、各々独立に０以上の整数である。ｓ＋ｔは、汚れの分散性や、汚れの再付着防止の点から、１０以上が好ましく、より好ましくは１０以上６０以下である。Ｘ-はカウンターアニオンを示し、Ｘ-としては、ハロゲンイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、有機酸イオンなどを例示でき、好ましくは塩素イオン、臭素イオン、フッ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン等である。
式（１）で表される高分子化合物は１種単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
式（１）で表される高分子化合物としては、商業的に入手できるものを使用してもよいし、当業界で公知の方法により製造することもできる。
（ａ−２）
本発明に使用できる（ａ−２）としては、特に制限はないが、例えば、以下の高分子化合物（イ）、高分子化合物（ロ）、高分子化合物（ハ）が好ましいものとして挙げられる。
本発明に使用できる（ａ−２）としては、特に制限はないが、例えば、以下の高分子化合物（イ）、高分子化合物（ロ）、高分子化合物（ハ）が好ましいものとして挙げられる。
（ｉ）高分子化合物（イ）
高分子化合物（イ）は、アニオン性ビニル単量体（Ａ）に由来する構成単位（Ａ′）と、４級アンモニウム基または３級アミノ基を有するビニル単量体（Ｂ）に由来する構成単位（Ｂ′）と、疎水性ビニル単量体（Ｃ）に由来する構成単位（Ｃ′）と、親水性ビニル単量体（Ｄ）に由来する構成単位（Ｄ′）とを含有するものであって、高分子化合物（イ）の水溶媒への溶解性、泥への吸着性、泥の分散性、汚れの再付着防止などの観点からは、特にこれらの構成単位を下記組成比で含有するものが好ましい。
高分子化合物（イ）は、アニオン性ビニル単量体（Ａ）に由来する構成単位（Ａ′）と、４級アンモニウム基または３級アミノ基を有するビニル単量体（Ｂ）に由来する構成単位（Ｂ′）と、疎水性ビニル単量体（Ｃ）に由来する構成単位（Ｃ′）と、親水性ビニル単量体（Ｄ）に由来する構成単位（Ｄ′）とを含有するものであって、高分子化合物（イ）の水溶媒への溶解性、泥への吸着性、泥の分散性、汚れの再付着防止などの観点からは、特にこれらの構成単位を下記組成比で含有するものが好ましい。
すなわち、組成比（Ａ′）／（Ｂ′）は、８０／２０〜２０／８０モル％が好ましく、より好ましくは７０／３０〜３０／７０モル％、さらに好ましくは６０／４０〜４０／６０モル％である。構成単位（Ａ′）、（Ｂ′）、（Ｃ′）、（Ｄ′）の合計に占める（Ｃ′）、すなわち（Ｃ′）／［（Ａ′）＋（Ｂ′）＋（Ｃ′）＋（Ｄ′）］は、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜１５質量％、さらに好ましくは、０．３〜１０質量％である。また、（Ｄ′）／［（Ａ′）＋（Ｂ′）＋（Ｃ′）＋（Ｄ′′）］は０．１〜５０質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜４０質量％、さらに好ましくは、０．３〜３０質量％である。
また、高分子化合物（イ）は、構成単位（Ａ′）〜（Ｄ′）を含有するランダムポリマーであっても、ブロックポリマーであってもよい。このような範囲にあると、有機物の分散性の観点で好ましい。
また、高分子化合物（イ）は、構成単位（Ａ′）〜（Ｄ′）を含有するランダムポリマーであっても、ブロックポリマーであってもよい。このような範囲にあると、有機物の分散性の観点で好ましい。
（アニオン性ビニル単量体（Ａ））
高分子化合物（イ）の構成単位（Ａ′）をなすアニオン性ビニル単量体（Ａ）は、アニオン性の官能基を備えたビニル単量体またはその塩であって、このようなものとしては、例えばカルボキシル基を備えたビニル単量体またはその塩、スルホン酸基を備えたビニル単量体またはその塩などを例示でき、これらの単量体を１種単独で使用しても、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。以下、塩を形成していないアニオン性官能基を備えたビニル単量体を酸型、塩を形成しているものを塩型という場合がある。
高分子化合物（イ）の構成単位（Ａ′）をなすアニオン性ビニル単量体（Ａ）は、アニオン性の官能基を備えたビニル単量体またはその塩であって、このようなものとしては、例えばカルボキシル基を備えたビニル単量体またはその塩、スルホン酸基を備えたビニル単量体またはその塩などを例示でき、これらの単量体を１種単独で使用しても、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。以下、塩を形成していないアニオン性官能基を備えたビニル単量体を酸型、塩を形成しているものを塩型という場合がある。
カルボキシル基を備えたビニル単量体としては、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸などを例示できる。塩型の場合、具体的にはアルカリ金属塩、アンモニウム誘導体などが挙げられる。なお、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸の少なくとも一方を示す。
アルカリ金属塩、アンモニウム誘導体の例としては、ナトリウム塩（Ｎａ塩）、カリウム塩（Ｋ塩）、アンモニウム塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエチルアミン塩等が挙げられる。塩型を使用する場合は、塩型単独で用いても、酸型と混合して用いてもよい。また、ビニル単量体として酸型のものを用いて高分子化合物（イ）を製造した後、この高分子化合物（イ）中のカルボキシル基をアルカリ剤で中和してもよい。
アルカリ金属塩、アンモニウム誘導体の例としては、ナトリウム塩（Ｎａ塩）、カリウム塩（Ｋ塩）、アンモニウム塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエチルアミン塩等が挙げられる。塩型を使用する場合は、塩型単独で用いても、酸型と混合して用いてもよい。また、ビニル単量体として酸型のものを用いて高分子化合物（イ）を製造した後、この高分子化合物（イ）中のカルボキシル基をアルカリ剤で中和してもよい。
カルボキシル基を備えたビニル単量体またはその塩をより具体的に挙げると、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、アクリル酸Ｎａ塩、アクリル酸Ｋ塩、メタクリル酸Ｎａ塩、メタクリル酸Ｋ塩、マレイン酸Ｎａ塩、マレイン酸Ｋ塩、フマル酸Ｎａ塩、フマル酸Ｋ塩、アクリル酸アンモニウム塩、メタクリル酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、フマル酸アンモニウム塩、アクリル酸モノエタノールアミン塩、メタクリル酸モノエタノールアミン塩、マレイン酸モノエタノールアミン塩、フマル酸モノエタノールアミン塩等を示すことができる。これらのなかで好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸Ｎａ塩、メタクリル酸Ｎａ塩、アクリル酸モノエタノールアミン塩、メタクリル酸モノエタノールアミン塩である。
スルホン酸基を備えたビニル単量体としては、ビニルスチレンスルホン酸、または下記の一般式（２）および一般式（３）で示されるものなどを使用できる。塩型の場合、具体的にはアルカリ金属塩、アンモニウム誘導体などが挙げられる。
アルカリ金属塩、アンモニウム誘導体の例としては、Ｎａ塩、Ｋ塩、アンモニウム塩、モノエタノールアミン塩、トリエチルアミン塩が挙げられる。塩型を使用する場合は、塩型単独で用いても、酸型と混合して用いてもよい。また、ビニル単量体として酸型のものを用いて高分子化合物（イ）を製造した後、この高分子化合物（イ）中のスルホン酸基をアルカリ剤で中和して用いてもよい。
アルカリ金属塩、アンモニウム誘導体の例としては、Ｎａ塩、Ｋ塩、アンモニウム塩、モノエタノールアミン塩、トリエチルアミン塩が挙げられる。塩型を使用する場合は、塩型単独で用いても、酸型と混合して用いてもよい。また、ビニル単量体として酸型のものを用いて高分子化合物（イ）を製造した後、この高分子化合物（イ）中のスルホン酸基をアルカリ剤で中和して用いてもよい。
式中（２）、（３）中のＲは、水素または炭素数１〜２のアルキル基を示し、Ｙはスルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）またはスルホン酸塩を示す。Ａは酸素原子またはＮＨを示し、Ｖは炭素数１〜１５の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基または炭素数２〜１５の直鎖状または分岐鎖状の不飽和炭化水素鎖を示す。Ｖの炭素鎖中に水酸基が結合してもよく、また、Ｖが不飽和炭化水素鎖である場合には、これに炭素数３から６のシクロアルキル基、フェニル基が結合していてもよい。Ｗは炭素数１〜２０の直鎖状または分岐鎖状または脂環式のアルキル基、あるいは、炭素数２〜２０の直鎖状または分岐鎖状または脂環式のアルケニル基を示す。
一般式（２）で示されるスルホン酸基を備えたビニル単量体の例としては、アクリルアミドメタンスルホン酸、メタクリルアミドメタンスルホン酸、アクリルアミドエタンスルホン酸、メタクリルアミドエタンスルホン酸、アクリルアミドプロパンスルホン酸、メタクリルアミドプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、メタンスルホン酸アクリレート、メタンスルホン酸メタクリレート、エタンスルホン酸アクリレート、エタンスルホン酸メタクリレート、プロパンスルホン酸アクリレート、プロパンスルホン酸メタクリレートが挙げられる。
また、一般式（２）で示されるスルホン酸基を備えたビニル単量体の塩型の例としては、アクリルアミドメタンスルホン酸Ｎａ塩、メタクリルアミドメタンスルホン酸Ｎａ塩、アクリルアミドエタンスルホン酸Ｎａ塩、メタクリルアミドエタンスルホン酸Ｎａ塩、アクリルアミドプロパンスルホン酸Ｎａ塩、メタクリルアミドプロパンスルホン酸Ｎａ塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸Ｎａ塩、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸Ｎａ塩、メタンスルホン酸アクリレートＮａ塩、メタンスルホン酸メタクリレートＮａ塩、エタンスルホン酸アクリレートＮａ塩、エタンスルホン酸
メタクリレートＮａ塩、プロパンスルホン酸アクリレートＮａ塩、プロパンスルホン酸メタクリレートＮａ塩、アクリルアミドメタンスルホン酸Ｋ塩、メタクリルアミドメタンスルホン酸Ｋ塩、アクリルアミドエタンスルホン酸Ｋ塩、メタクリルアミドエタンスルホン酸Ｋ塩、アクリルアミドプロパンスルホン酸Ｋ塩、メタクリルアミドプロパンスルホン酸Ｋ塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸Ｋ塩、２−メタクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸Ｋ塩、メタンスルホン酸アクリレートＫ塩、メタンスルホン酸メタクリレートＫ塩、エタンスルホン酸アクリレートＫ塩、エタンスルホン酸メタクリレートＫ塩、プロパンスルホン酸アクリレートＫ塩、プロパンスルホン酸メタクリレートＫ塩、アクリルアミドメタンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタクリルアミドメタンスルホン酸トリエチルアミン塩、アクリルアミドエタンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタクリルアミドエタンスルホン酸トリエチルアミン塩、アクリルアミドプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタクリルアミドプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタンスルホン酸アクリレート、メタンスルホン酸メタクリレートトリエチルアミン塩、エタンスルホン酸アクリレートトリエチルアミン塩、エタンスルホン酸メタクリレートトリエチルアミン塩、プロパンスルホン酸アクリレートトリエチルアミン塩、プロパンスルホン酸メタクリレートトリエチルアミン塩等を挙げられる。
メタクリレートＮａ塩、プロパンスルホン酸アクリレートＮａ塩、プロパンスルホン酸メタクリレートＮａ塩、アクリルアミドメタンスルホン酸Ｋ塩、メタクリルアミドメタンスルホン酸Ｋ塩、アクリルアミドエタンスルホン酸Ｋ塩、メタクリルアミドエタンスルホン酸Ｋ塩、アクリルアミドプロパンスルホン酸Ｋ塩、メタクリルアミドプロパンスルホン酸Ｋ塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸Ｋ塩、２−メタクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸Ｋ塩、メタンスルホン酸アクリレートＫ塩、メタンスルホン酸メタクリレートＫ塩、エタンスルホン酸アクリレートＫ塩、エタンスルホン酸メタクリレートＫ塩、プロパンスルホン酸アクリレートＫ塩、プロパンスルホン酸メタクリレートＫ塩、アクリルアミドメタンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタクリルアミドメタンスルホン酸トリエチルアミン塩、アクリルアミドエタンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタクリルアミドエタンスルホン酸トリエチルアミン塩、アクリルアミドプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタクリルアミドプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタンスルホン酸アクリレート、メタンスルホン酸メタクリレートトリエチルアミン塩、エタンスルホン酸アクリレートトリエチルアミン塩、エタンスルホン酸メタクリレートトリエチルアミン塩、プロパンスルホン酸アクリレートトリエチルアミン塩、プロパンスルホン酸メタクリレートトリエチルアミン塩等を挙げられる。
これら一般式（２）で示されるスルホン酸基を備えたビニル単量体およびその塩の中では、アクリルアミドメタンスルホン酸、アクリルアミドメタンスルホン酸Ｎａ塩、アクリルアミドメタンスルホン酸トリエチルアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸Ｎａ塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、メタクリルアミドメタンスルホン酸、メタクリルアミドメタンスルホン酸Ｎａ塩、メタクリルアミドメタンスルホン酸トリエチルアミン塩、２−メタクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸Ｎａ塩、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩が好ましく、２−アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸Ｎａ塩、２−アクリルアミド２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸Ｎａ塩、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸トリエチルアミン塩がより好ましい。
一般式（３）で示されるスルホン酸基を備えたビニル単量体およびその塩の例としては、モノ−ｎ−ブチル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−ブチル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩、モノ−ｎ−ブチル−モノビニルスルホコハク酸エステルＫ塩、モノ−ｎ−ブチル−モノビニルスルホコハク酸エステルトリエチルアミン塩、モノ−ｎ−へキシル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−へキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩、モノ−ｎ−へキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルＫ塩、モノ−ｎ−へキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルトリエチルアミン塩、モノシクロへキシル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノシクロへキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルナトリウム塩、モノシクロへキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルトリエチルアミン塩、モノ−２−エチルへキシル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−２−エチルへキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩、モノ−２−エチルへキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルＫ塩、モノ−２−エチルへキシル−モノビニルスルホコハク酸エステルトリエチルアミン塩、モノ−ｎ−オクチル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−オクチル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩、モノ−ｎ−オクチル−モノビニルスルホコハク酸エステルＫ塩、モノ−ｎ−オクチル−モノビニルスルホコハク酸エステルトリエチルアミン塩、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステルＫ塩、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステルトリエチルアミン塩、モノ−ｎ−ステアリル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−ステアリル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩、モノ−ｎ−ステアリル−モノビニルスルホコハク酸エステルＫ塩、モノ−ｎ−ステアリル−モノビニルスルホコハク酸エステルトリエチルアミン塩を挙げることができる。
一般式（３）で示されるスルホン酸基を備えたビニル単量体およびその塩の中では、モノ−ｎ−オクチル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−オクチル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩であり、より好ましくは、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステル、モノ−ｎ−ラウリル−モノビニルスルホコハク酸エステルＮａ塩が好ましい。
（４級アンモニウム基または３級アミノ基を有するビニル単量体（Ｂ））
高分子化合物（イ）の構成単位（Ｂ′）をなすビニル単量体（Ｂ）は、４級アンモニウム基または３級アミノ基を有するものであり、そのような単量体を１種単独で使用しても、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
３級アミノ基を有するビニル単量体としては、下記一般式（４）で示されるものや、１−ビニル−４−ジメチルアミノベンゼン、１−ビニル−４−ジエチルアミノベンゼンなどを例示できる。
高分子化合物（イ）の構成単位（Ｂ′）をなすビニル単量体（Ｂ）は、４級アンモニウム基または３級アミノ基を有するものであり、そのような単量体を１種単独で使用しても、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
３級アミノ基を有するビニル単量体としては、下記一般式（４）で示されるものや、１−ビニル−４−ジメチルアミノベンゼン、１−ビニル−４−ジエチルアミノベンゼンなどを例示できる。
式（４）中、Ｒは水素または炭素数１〜２のアルキル基を示し、Ａは酸素原子またはＮＨを示し、Ｖは炭素数１〜１５の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基、あるいは、炭素数２〜１５の直鎖状または分岐鎖状の不飽和炭化水素鎖を示す。なお、Ｖの炭素鎖中に水酸基が結合してもよく、また、Ｖが不飽和炭化水素鎖である場合には、これに炭素数３から６のシクロアルキル基、フェニル基が結合していてもよい。また、Ｒ１とＲ２は炭素数１〜２のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２は互いに同一であっても、異なっていてもよい。
一般式（４）で示される単量体の具体例としては、ジメチルアミノエチルアクリレート
、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリレート、ジメチルアミノプロピルメタクリレート、ジメチルアミノブチルアクリレート、ジメチルアミノブチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、ジメチルアミノブチルアクリルアミド、ジメチルアミノブチルメタクリルアミド、ジエチルアミノエチルアクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリルアミド等を挙げることができる。これらの中では、好ましくはジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミドであり、より好ましくはジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリルアミドである。
、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリレート、ジメチルアミノプロピルメタクリレート、ジメチルアミノブチルアクリレート、ジメチルアミノブチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、ジメチルアミノブチルアクリルアミド、ジメチルアミノブチルメタクリルアミド、ジエチルアミノエチルアクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリルアミド等を挙げることができる。これらの中では、好ましくはジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミドであり、より好ましくはジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリルアミドである。
４級アンモニウム基を有するビニル単量体としては、下記一般式（５）や（６）で示されるものや、１−ビニル−４−トリメチルアミノベンゼン、１−ビニル−４−トリエチルアミノベンゼンなどを例示できる。
式（５）、（６）中、Ｒは水素または炭素数１〜２のアルキル基を示し、Ａは酸素原子または又はＮＨを示し、Ｖは炭素数１〜１５の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基、あるいは、炭素数２〜１５の直鎖状または分岐鎖状の不飽和炭化水素鎖を示す。なお、Ｖの炭素鎖中に水酸基が結合してもよく、また、Ｖが不飽和炭化水素鎖である場合には、これに炭素数３から６のシクロアルキル基、フェニル基が結合していてもよい。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は各々炭素数１〜２のアルキル基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、互いに同一でも、異なっていてもよい。また、Ｚ１およびＺ２は、炭素数１〜３の直鎖状のアルキレン基を示し、Ｚ１とＺ２は互いに同一でも異なっていてもよい。また、式（６）中の２つの
Ｒも互いに同一でも、異なっていてもよい。
また、Ｘ−はカウンターアニオンを示し、Ｘ−としては、ハロゲンイオン、硫酸イオン、有機酸イオンなどを例示でき、好ましくは塩素イオン、臭素イオン、フッ素イオン、硫酸イオン、クエン酸イオン等である。
Ｒも互いに同一でも、異なっていてもよい。
また、Ｘ−はカウンターアニオンを示し、Ｘ−としては、ハロゲンイオン、硫酸イオン、有機酸イオンなどを例示でき、好ましくは塩素イオン、臭素イオン、フッ素イオン、硫酸イオン、クエン酸イオン等である。
一般式（５）で示されるビニル単量体の具体例として、カウンターアニオンＸ−として塩素イオンを備えた（塩化物）ものを以下に例示するが、塩化物に限定されるものではない。
すなわち、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノベンゼン、塩化１−ビニル−４−トリエチルアミノベンゼン、塩化トリメチルアミノエチルアクリレート、塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルアクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリレート、塩化トリメチルアミノブチルアクリレート、塩化トリメチルアミノブチルメタクリレート、塩化トリエチルアミノエチルアクリレート、塩化トリエチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノエチルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノエチルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノブチルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノブチルメタクリルアミド、塩化トリエチルアミノエチルアクリルアミド、塩化トリエチルアミノエチルメタクリルアミド等が挙げられ、好ましくは、ジメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド等が挙げられ、好ましくは塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノエチルアクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノベンゼン、塩化１−ビニル−４−トリエチルアミノベンゼン等が挙げられ、より好ましくは、塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノベンゼン等である。
すなわち、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノベンゼン、塩化１−ビニル−４−トリエチルアミノベンゼン、塩化トリメチルアミノエチルアクリレート、塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルアクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリレート、塩化トリメチルアミノブチルアクリレート、塩化トリメチルアミノブチルメタクリレート、塩化トリエチルアミノエチルアクリレート、塩化トリエチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノエチルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノエチルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノブチルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノブチルメタクリルアミド、塩化トリエチルアミノエチルアクリルアミド、塩化トリエチルアミノエチルメタクリルアミド等が挙げられ、好ましくは、ジメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド等が挙げられ、好ましくは塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノエチルアクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノベンゼン、塩化１−ビニル−４−トリエチルアミノベンゼン等が挙げられ、より好ましくは、塩化トリメチルアミノエチルメタクリレート、塩化トリメチルアミノプロピルメタクリルアミド、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノベンゼン等である。
一般式（６）は、４級アンモニウム基を有するビニル単量体が２官能性単量体である場合を示したものである。以下、その具体例として、カウンターアニオンＸ−として塩素イオンを備えた（塩化物）ものを例示するが、塩化物に限定されるものではない。
すなわち、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムブロマイド、ジアリルジエチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメエチルアンモニウムブロマイド等が挙げられ、好ましくはジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムブロマイド等であり、より好ましくはジアリルジメチルアンモニウムクロライドである。
すなわち、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムブロマイド、ジアリルジエチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメエチルアンモニウムブロマイド等が挙げられ、好ましくはジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムブロマイド等であり、より好ましくはジアリルジメチルアンモニウムクロライドである。
（疎水性ビニル単量体（Ｃ））
高分子化合物（イ）の構成単位（Ｃ′）をなす疎水性ビニル単量体（Ｃ）は、疎水性を示す単量体であればよく、特に限定されるものではないが、下記の一般式（７）で示されるものや、一般式（８）で示されるシリコンマクロマーなどを好ましく例示できる。これらは１種の単量体を単独で使用しても、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
高分子化合物（イ）の構成単位（Ｃ′）をなす疎水性ビニル単量体（Ｃ）は、疎水性を示す単量体であればよく、特に限定されるものではないが、下記の一般式（７）で示されるものや、一般式（８）で示されるシリコンマクロマーなどを好ましく例示できる。これらは１種の単量体を単独で使用しても、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
式（７）、（８）中、Ｒは、水素または炭素数１〜２のアルキル基を示し、Ａは酸素原子またはＮＨを示し、Ｘ１は炭素数１〜１５の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、あるいは、炭素数２〜１５の直鎖状または分岐鎖状のアルケニル基を示す。また、Ｒ４はエーテル基を含有しても良い炭素数１〜６、好ましくは１〜４の２価脂肪族基を示し、Ｒ５は炭素数１〜３０、好ましくは１〜１８の脂肪族基、または炭素数１〜２２の含フッ素アルキル基を示す。ｈは０、１または２であり、ｊは０〜５００、好ましくは０〜３００の整数である。
一般式（７）で示される単量体の具体例としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルアクリレート、オクチルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、プロピルアクリレアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルメタクリルアミド、ヘキシルアクリルアミド、ヘキシルメタクリルアミド、オクチルアクリルアミド、オクチルメタクリルアミド、ラウリルアクリルアミド、ラウリルメタクリルアミド等が挙げられ、好ましくはメチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等であり、より好ましくは、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等である。
一般式（８）で示されるシリコンマクロマーのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法で測定した質量平均分子量は、重合溶媒との相溶性から１００〜４万の範囲、好ましくは２００〜２万の範囲にあることが好ましい。
（親水性ビニル単量体（Ｄ））
高分子化合物（イ）の構成単位（Ｄ′）をなす親水性ビニル単量体（Ｄ）としては、一般式（９）で示される単量体が挙げられる。
高分子化合物（イ）の構成単位（Ｄ′）をなす親水性ビニル単量体（Ｄ）としては、一般式（９）で示される単量体が挙げられる。
式（９）中、Ｒは水素または炭素数１〜２のアルキル基を示し、Ａは酸素原子またはＮＨを示す。ｎは１〜３０の整数であり、Ｂは水素またはメチル基を示す。
式（９）で示される単量体の具体例としては、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：１〜３０）、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：１〜３０）等が挙げられ、好ましくはメトキシポリエチレングリコールメタクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：４、９、２３）等を示すことができる。
式（９）で示される単量体の具体例としては、メトキシポリエチレングリコールアクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：１〜３０）、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：１〜３０）等が挙げられ、好ましくはメトキシポリエチレングリコールメタクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：４、９、２３）等を示すことができる。
とりわけ、高分子化合物（イ）としては、アニオン性ビニル単量体（Ａ）として式（２）で表されるスルホン酸基を有するビニル単量体、中でも２−メチル−２−アクリルアミドプロパンスルホン酸；
４級アンモニウム基又は３級アミノ基を有するビニル単量体（Ｂ）として式（５）で表されるビニル単量体、中でも塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド；
疎水性ビニル単量体（Ｃ）として式（７）で表される化合物、中でもメチルメタクリレート；
親水性ビニル単量体（Ｄ）として式（９）で表される化合物、中でもメトキシポリエチレングリコールメタクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：１〜３０）；
から構成されるものが好ましい。
なお、高分子化合物（イ）は、当業界で公知の方法により製造することが出来る。
４級アンモニウム基又は３級アミノ基を有するビニル単量体（Ｂ）として式（５）で表されるビニル単量体、中でも塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド；
疎水性ビニル単量体（Ｃ）として式（７）で表される化合物、中でもメチルメタクリレート；
親水性ビニル単量体（Ｄ）として式（９）で表される化合物、中でもメトキシポリエチレングリコールメタクリレート（オキシエチレン繰り返し単位数：１〜３０）；
から構成されるものが好ましい。
なお、高分子化合物（イ）は、当業界で公知の方法により製造することが出来る。
（ｉｉ）高分子化合物（ロ）
高分子化合物（ロ）は、Ｎ−ビニルピロリドン単量体からなる構成単位を含有する高分子化合物であり、水への溶解度が２５℃において、少なくても１０質量％あるものが好ましく使用できる。また、高分子化合物（ロ）は、Ｎ−ビニルピロリドン単量体からなる構成単位を含有する限り、ホモポリマー、ランダムポリマー、ブロックポリマーのいずれでもよい。
高分子化合物（ロ）は、Ｎ−ビニルピロリドン単量体からなる構成単位を含有する高分子化合物であり、水への溶解度が２５℃において、少なくても１０質量％あるものが好ましく使用できる。また、高分子化合物（ロ）は、Ｎ−ビニルピロリドン単量体からなる構成単位を含有する限り、ホモポリマー、ランダムポリマー、ブロックポリマーのいずれでもよい。
このようなものとしては、例えば、Ｎ−ビニルピロリドンのホモポリマーであるＢＡＳＦ社製Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ １７（商品名）、Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ ３０（商品名）、Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ ９０（商品名）等が市販されている。
また、Ｎ−ビニルピロリドン単量体とＮ−ビニルイミダゾリン単量体を含有する高分子化合物であるＢＡＳＦ社製Ｌｕｖｉｔｅｃ ＶＰＩ ５５ Ｋ ７２ Ｗ（商品名）等が市販されている。
また、その他に、Ｎ−ビニルピロリドン／ジメチルアミドエチルメタクリレート／メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／メトキシポリエチレングリコール（ｐ＝２３）メタクリレートの共重合体で、例えば組成比が４１．５／１３／２０．５／２１／４（モル％）であるものが好ましいものとして挙げられる。
また、Ｎ−ビニルピロリドン単量体とＮ−ビニルイミダゾリン単量体を含有する高分子化合物であるＢＡＳＦ社製Ｌｕｖｉｔｅｃ ＶＰＩ ５５ Ｋ ７２ Ｗ（商品名）等が市販されている。
また、その他に、Ｎ−ビニルピロリドン／ジメチルアミドエチルメタクリレート／メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／メトキシポリエチレングリコール（ｐ＝２３）メタクリレートの共重合体で、例えば組成比が４１．５／１３／２０．５／２１／４（モル％）であるものが好ましいものとして挙げられる。
（ｉｉｉ）高分子化合物（ハ）
高分子化合物（ハ）は、ビニルピリジン部を有する単量体に由来した構成単位を含有する高分子化合物であり、このような単量体として一般式（１０）のものを示すことができる。
高分子化合物（ハ）は、ビニルピリジン部を有する単量体に由来した構成単位を含有する高分子化合物であり、このような単量体として一般式（１０）のものを示すことができる。
式（１０）中、Ｄは、Ｏ−、ＯＨ、ＣＨ2ＣＯＯＨの酸型またはアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩を表す。）
このようなものとしては、例えば、ＤがＯ−である単量体からなるＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＰＥＣＩＡＬＩＴＹ ＰＲＯＤＵＣＴＳ ＩＮＣ．製の「ＣｈｒｏｍＢｏｎｄ Ｓ−４００（商品名）」と、ＤがＣＨ２ＣＯＯＨである単量体からなる同社の「ＣｈｒｏｍＢｏｎｄ Ｓ−１００（商品名）」が市販されている。
このようなものとしては、例えば、ＤがＯ−である単量体からなるＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＰＥＣＩＡＬＩＴＹ ＰＲＯＤＵＣＴＳ ＩＮＣ．製の「ＣｈｒｏｍＢｏｎｄ Ｓ−４００（商品名）」と、ＤがＣＨ２ＣＯＯＨである単量体からなる同社の「ＣｈｒｏｍＢｏｎｄ Ｓ−１００（商品名）」が市販されている。
本発明の洗浄剤組成物は、上述した（Ｉ）成分、（ＩＩ）成分をそれぞれ少なくとも１種含有するものであって、これら各成分の洗浄剤組成物中の配合比は、この組成物の使用形態、使用方法、汚れの付着している被洗物の種類、汚れの量、汚れの付着状態などによって異なることから、適宜調製すればよく、好ましくは（Ｉ）、（ＩＩ）と（ＩＩＩ）成分の合計を１００質量％とした場合、成分（ＩＩ）は１０〜７０質量％がよく、好ましくは、１５〜６０質量％であり、より好ましくは２０〜５０質量％である。（Ｉ）、（ＩＩ）と（ＩＩＩ）成分の合計に対する成分（ＩＩ）の量がこのような範囲にあると、有機物の分散、再汚染防止性の観点で好ましい。
成分（ＩＩ）の重量平均分子量は、５００以上であり、１０００以上であるのがより好ましく、２００万以下であるのが好ましく、１５０万以下であるのがより好ましい。重量平均分子量がこのような範囲にあると、有機物の分散、再汚染防止性の観点で好ましい。なお、本発明において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定することができる。
成分（ＩＩ）の重量平均分子量は、５００以上であり、１０００以上であるのがより好ましく、２００万以下であるのが好ましく、１５０万以下であるのがより好ましい。重量平均分子量がこのような範囲にあると、有機物の分散、再汚染防止性の観点で好ましい。なお、本発明において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定することができる。
成分（ＩＩＩ）
本発明で使用できる成分（ＩＩＩ）は、以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物である：
本発明で使用できる成分（ＩＩＩ）は、以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物である：
成分（ＩＩＩ）は、主に汚れ中の有機質の溶解を促進すると考えられる。
式中、ＸIIIはスルホン酸基又はカルボキシル基のいずれかを表し、酸型、またはアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩のいずれか、あるいは、混合型のどの形態でもよい。
ＹIIIは水酸基である。
ＺIIIはアミノ基を表す。
ｋは１〜５の整数を表す。好ましくは１〜３である。
ｎ及びｍは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ０〜５の整数を表し、ｎ＋ｍは1以上の整数を表す。ｎ＋ｍが１〜３の整数であるのが好ましい。
ｐ及びｑは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ０〜７の整数を表す。ｐ＋ｑが１〜３であるのが好ましい。
式（ｂ−３）で表される化合物の置換基の位置は、どちらの芳香族環にあってもよい。
式中、ＸIIIはスルホン酸基又はカルボキシル基のいずれかを表し、酸型、またはアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩のいずれか、あるいは、混合型のどの形態でもよい。
ＹIIIは水酸基である。
ＺIIIはアミノ基を表す。
ｋは１〜５の整数を表す。好ましくは１〜３である。
ｎ及びｍは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ０〜５の整数を表し、ｎ＋ｍは1以上の整数を表す。ｎ＋ｍが１〜３の整数であるのが好ましい。
ｐ及びｑは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ０〜７の整数を表す。ｐ＋ｑが１〜３であるのが好ましい。
式（ｂ−３）で表される化合物の置換基の位置は、どちらの芳香族環にあってもよい。
式（ｂ−１）で表される化合物の例を、以下に列挙するがこれらに制限されない。
１，２−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、１，２，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，６−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，３，４−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，３，５−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，３，４−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，４，５−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，４，５，６−ペンタヒドロキシベンゼンが挙げられ、より好ましくは、１，２−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、１，２，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，６−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４，５−テトラヒドロキシベンゼンが挙げられ、更に好ましくは、１，２−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、１，２，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，６−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベンゼンが挙げられる。
１，２−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、１，２，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，６−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，３，４−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，３，５−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，３，４−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，４，５−テトラヒドロキシベンゼン、１，２，４，５，６−ペンタヒドロキシベンゼンが挙げられ、より好ましくは、１，２−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、１，２，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，６−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４，５−テトラヒドロキシベンゼンが挙げられ、更に好ましくは、１，２−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、１，２，５−トリヒドロキシベンゼン、１，２，６−トリヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベンゼンが挙げられる。
式（ｂ−２）及び（ｂ−３）で表される化合物を、以下に列挙するがこれらに制限されない。また、以下は酸型を例に書くが、塩型でもよく、塩型の場合は具体的にはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン塩などが挙げられる。アルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン塩の例としては、ナトリウム塩（Ｎａ塩）、カリウム塩（Ｋ塩）、アンモニウム塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエチルアミン塩等が挙げられる。塩型を使用する場合は、塩型単独で用いても、酸型と混合して用いてもよい。
式（ｂ−２）において、ＸIIIがスルホン酸基の例として、ベンゼンスルホン酸、２−アミノベンゼンスルホン酸、３−アミノベンゼンスルホン酸、４−アミノベンゼンスルホン酸、２，３−ジアミノベンゼンスルホン酸、２，４−ジアミノベンゼンスルホン酸、２，５−ジアミノベンゼンスルホン酸、２，６−ジアミノベンゼンスルホン酸、３，４−ジアミノベンゼンスルホン酸、３，５−ジアミノベンゼンスルホン酸、２，３，４―トリアミノベンゼンスルホン酸、２，３，５―トリアミノベンゼンスルホン酸、２，３，６―トリアミノベンゼンスルホン酸、３，４，５―トリアミノベンゼンスルホン酸、３，４，６―トリアミノベンゼンスルホン酸、２−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、３−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，５−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，６−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，５−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３，４―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３，５―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３，６―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４，５―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４，６―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、２−アミノー３−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、２−ヒドロキシー３−アミノベンゼンスルホン酸、２，４−ジアミノベンゼンスルホン酸、３，５−ジアミノベンゼンスルホン酸等が挙げられ、好ましくは、ベンゼンスルホン酸、３−アミノベンゼンスルホン酸、４−アミノベンゼンスルホン酸、３−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，５−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，６−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，５−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３，４―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３，５―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，３，６―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４，５―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４，６―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，４−ジアミノベンゼンスルホン酸、３，５−ジアミノベンゼンスルホン酸等が挙げられ、更に好ましくは、ベンゼンスルホン酸、４−アミノベンゼンスルホン酸、３−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，５−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，６−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，５−ジヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４，５―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、３，４，６―トリヒドロキシベンゼンスルホン酸、２，４−ジアミノベンゼンスルホン酸、３，５−ジアミノベンゼンスルホン酸等が挙げられる。
また、式（ｂ−２）のＸIIIがカルボン酸の例として、安息香酸、２−アミノベンゼンカルボン酸、３−アミノベンゼンカルボン酸、４−アミノベンゼンカルボン酸、２，３−ジアミノベンゼンカルボン酸、２，４−ジアミノベンゼンカルボン酸、２，５−ジアミノベンゼンカルボン酸、２，６−ジアミノベンゼンカルボン酸、３，４−ジアミノベンゼンカルボン酸、３，５−ジアミノベンゼンカルボン酸、２，３，４―トリアミノベンゼンカルボン酸、２，３，５―トリアミノベンゼンカルボン酸、２，３，６―トリアミノベンゼンカルボン酸、３，４，５―トリアミノベンゼンカルボン酸、３，４，６―トリアミノベンゼンカルボン酸、２−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、３−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、４−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，４−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，５−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，６−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，５−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３，４―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３，５―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，４，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４，５―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２−アミノー３−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、２−ヒドロキシー３−アミノベンゼンカルボン酸、５−アミノ−２−ヒドロキシベンゼンカルボン酸等が挙げられ、好ましくは、３−アミノベンゼンカルボン酸、４−アミノベンゼンカルボン酸、２−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、３−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、４−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，４−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，５−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，６−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，５−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４，５―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，４，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、５−アミノ−２−ヒドロキシベンゼンカルボン酸等が挙げられ、更に好ましくは、４−アミノベンゼンカルボン酸、２−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、３−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、４−ヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，４−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，５−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，６−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，５−ジヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３，４―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３，５―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，３，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、２，４，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４，５―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、３，４，６―トリヒドロキシベンゼンカルボン酸、５−アミノ−２−ヒドロキシベンゼンカルボン酸等が挙げられる。
式（ｂ−３）のＸIIIがスルホン酸の例として、１−ナフタレンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、２−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、３−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、４−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、５−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、６−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、７−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、８−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、１−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、３−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、４−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、５−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、６−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、７−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、８−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、２−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、５−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、７−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、８−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、１−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、３−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、４−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、５−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、７−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、８−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、３、４―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、７―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、８―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、４、５―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、４、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、５、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４−アミノ−３−ヒドロキシ−１−ナフタレンスルホン酸が挙げられ、より好ましくは、１−ナフタレンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、３−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、４−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、５−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、６−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、７−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、８−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、１−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、３−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、４−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、５−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、６−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、７−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、８−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、３−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、５−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、７−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、８−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、１−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、３−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、４−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、５−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、７−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、８−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、３、４―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、７―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、８―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、４、５―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、４、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、５、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４−アミノ−３−ヒドロキシ−１−ナフタレンスルホン酸等が挙げられ、更により好ましくは、１−ナフタレンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、３−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、４−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、５−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、６−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、７−アミノー１−ナフタレンスルホン酸、３−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、４−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、５−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、６−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、７−アミノー２−ナフタレンスルホン酸、３−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、５−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、７−ヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、４−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、５−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、６−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、７−ヒドロキシー２−ナフタレンスルホン酸、３、４―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、７―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、８―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、４、５―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、３、４、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４、５、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンスルホン酸、４−アミノ−３−ヒドロキシ−１−ナフタレンスルホン酸等が挙げられる。
式（ｂ−３）のＸIIIがカルボン酸の例として、１−ナフタレンカルボン酸、２−ナフタレンカルボン酸、２−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、３−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、４−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、５−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、６−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、７−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、８−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、１−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、３−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、４−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、５−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、６−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、７−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、８−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、２−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、５−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、６−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、７−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、８−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、１−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、３−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、４−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、５−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、６−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、７−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、８−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、３、４―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、７―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、８―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、４、５―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、４、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、５、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸等が挙げられ、より好ましくは、３−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、４−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、５−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、６−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、７−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、８−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、１−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、３−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、４−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、５−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、６−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、７−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、８−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、３−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、５−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、６−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、７−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、８−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、１−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、３−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、４−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、５−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、６−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、７−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、８−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、３、４―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、７―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、８―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、４、５―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、４、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、５、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸等が挙げられ、更により好ましくは、３−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、４−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、５−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、６−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、７−アミノー１−ナフタレンカルボン酸、３−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、４−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、５−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、６−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、７−アミノー２−ナフタレンカルボン酸、３−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、５−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、６−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、７−ヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、４−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、５−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、６−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、７−ヒドロキシー２−ナフタレンカルボン酸、３、４―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、７―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、８―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、５―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、６―ジヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、４、５―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、３、４、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸、４、５、６―トリヒドロキシー１−ナフタレンカルボン酸等が挙げられる。
成分（ＩＩＩ）の重量平均分子量は、３００以下であり、１００以上であるのが好ましい。重量平均分子量がこのような範囲にあると、有機物等が層間等に入りやすくなるので好ましい。
成分（ＩＩＩ）は１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。また、成分（ＩＩＩ）の配合量は、洗浄剤組成物の使用形態、使用方法、汚れの付着している被洗物の種類、汚れの量、汚れの付着状態などによって異なることから、適宜調製すればよい。好ましくは（Ｉ）、（ＩＩ）と（ＩＩＩ）成分の合計を１００質量％とした場合、成分（ＩＩＩ）は２０〜８０質量％であり、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは３５〜７０質量％である。（Ｉ）と（ＩＩ）と（ＩＩＩ）成分の合計における成分（ＩＩＩ）の量がこのような範囲にあると、有機物除去促進効果の観点で好ましい。
また、成分（Ｉ）、（ＩＩ）と（ＩＩＩ）の（Ｉ）／（ＩＩ）／（ＩＩＩ）質量％は５〜６０／１０〜７０／２０〜８０質量％がよく、好ましくは、７〜５０／１５〜６０／３０〜７５質量％であり、より好ましくは１０〜４０／２０〜５０／３５〜７０質量％である。このような範囲にあると、洗浄性の観点で好ましい。
また、成分（Ｉ）、（ＩＩ）と（ＩＩＩ）の（Ｉ）／（ＩＩ）／（ＩＩＩ）質量％は５〜６０／１０〜７０／２０〜８０質量％がよく、好ましくは、７〜５０／１５〜６０／３０〜７５質量％であり、より好ましくは１０〜４０／２０〜５０／３５〜７０質量％である。このような範囲にあると、洗浄性の観点で好ましい。
＜その他の成分＞
本発明の洗浄剤組成物は、必須成分である（Ｉ）、（ＩＩ）成分や、任意成分（ＩＩＩ）の他に、さらに、界面活性剤、キレート剤、有機溶剤、ｐＨ調整剤、消臭剤、蛍光剤、香料等を必要に応じて含有できる。
界面活性剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等を例示でき、市販の界面活性剤をいずれも用いることができる。
キレート剤としては、例えば、トリエチレンテトラミンーＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'， Ｎ'''，Ｎ'''−六酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ニトロソ三酢酸、クエン酸、シュウ酸、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸とマレイン酸の共重合物、メタクリル酸とマレイン酸の共重合物等を挙げることができる。
有機溶剤としては、例えば、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エタノール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。
ｐＨ調整剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ホウ酸、塩酸、硝酸、硫酸等を例示できる。
これらの成分はそれぞれ洗浄剤組成物の組成物中に０．０１〜４０重量％含有させるのが好ましい。
本発明の洗浄剤組成物は、必須成分である（Ｉ）、（ＩＩ）成分や、任意成分（ＩＩＩ）の他に、さらに、界面活性剤、キレート剤、有機溶剤、ｐＨ調整剤、消臭剤、蛍光剤、香料等を必要に応じて含有できる。
界面活性剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等を例示でき、市販の界面活性剤をいずれも用いることができる。
キレート剤としては、例えば、トリエチレンテトラミンーＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'， Ｎ'''，Ｎ'''−六酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ニトロソ三酢酸、クエン酸、シュウ酸、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸とマレイン酸の共重合物、メタクリル酸とマレイン酸の共重合物等を挙げることができる。
有機溶剤としては、例えば、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エタノール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。
ｐＨ調整剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ホウ酸、塩酸、硝酸、硫酸等を例示できる。
これらの成分はそれぞれ洗浄剤組成物の組成物中に０．０１〜４０重量％含有させるのが好ましい。
本発明の洗浄剤組成物の液性は、通常の洗濯を後工程にする場合も考慮して、液性は１質量％に希釈した水溶液において、２５℃におけるｐＨは７〜１３がよく、より好ましくは、ｐＨは７．５〜１０．５がよい。
本発明の洗浄剤組成物は、上述の必須成分や必要に応じて配合される成分を混合することにより調製できる。また、その形態は、粉状、粒状、ゲル状、液体のいずれの形態でもよく限定されない。また、洗浄剤組成物中の各成分の濃度は、洗浄剤組成物の形態などに応じて、適宜調整できる。例えば、粉状、粒状、ゲル状、液体の形態の場合、各成分の濃度を濃く調製し、使用する際に水などの溶媒で適宜希釈して、被洗物を洗浄剤組成物を含む液中に浸漬して、洗浄することができる。洗浄剤組成物がゲル状、液体などである場合には、はじめから洗浄に適した濃度に調製しておき、そのまま、同様に浸漬して被洗物を洗浄すればよい。
また、本発明の洗浄剤組成物の対象とする被洗物としては、繊維、陶器、磁器、ガラス、プラスチック、金属、塗装金属、タイル等であり、その具体例としては、靴下、服、ズボン、カーテン、便器等トイレ、窓ガラス、乗り物のガラス、めがね、透明プラスチック、温室用のシート、鏡、浴槽、浴室の壁や床、排水口、排水溝、流し台、洗面台等や、家やビル等建物の外壁等が挙げられる。また、対象とする汚れの種類にも特に制限はないが、繊維間のように形が複雑な部分に付着し、無機物と有機物からなる泥汚れのような混合汚れに対して、各成分が相乗的に働くためと推察されるが特に優れた効果を発揮し、極めて有用である。
洗浄剤組成物の使用形態にも特に限定はないが、繊維間のような複雑な部分に付着した汚れを効率よく落すためには、被洗物を洗浄剤組成物を含む液中に浸漬する工程で実施することが好ましい。
浸漬する時間は、好ましくは１０分から２４時間、より好ましくは、１時間から２０時間、さらに好ましくは、５時間から１８時間である。浸漬の後には水で濯ぐだけでもよいが、被洗物が繊維からなるものである場合には、通常の衣類用洗浄剤などで洗濯した方が、より効果的である。
浸漬する時間は、好ましくは１０分から２４時間、より好ましくは、１時間から２０時間、さらに好ましくは、５時間から１８時間である。浸漬の後には水で濯ぐだけでもよいが、被洗物が繊維からなるものである場合には、通常の衣類用洗浄剤などで洗濯した方が、より効果的である。
以上説明したこのような洗浄剤組成物は、たとえ繊維間のような形状が複雑な部分に付着し、通常の洗浄では落ちにくい有機物と無機物からなる泥汚れのような混合汚れであっても、（Ｉ）成分のキレート剤が主に汚れ中における金属を介した有機物と無機物などに作用することによって、有機物を取れ易くし、（ＩＩ）成分が汚れ中の有機物を分散させ、更に再汚染を防止し、（ＩＩＩ）成分は（ＩＩ）成分の分散性を促進するといった相乗効果により、効果的に洗浄することができる。
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
［合成例１］
以下のようにして、実施例１および実施例３および実施例１１および実施例１３で使用した合成高分子化合物１を製造した。
冷却還流管、温度計、窒素導入管及び攪拌装置を取り付けたセパラブルフラコにイオン交換水８０ｇを仕込み、窒素を吹き込みながら８０℃で３０分撹拌した。ここに、予め２００ｍｌ用ビーカーに２−メチル−２−アクリルアミドプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）１６．０ｇ、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド（ＡＡＰＴＡＣ）１２．７５ｇ、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノメチルベンゼン（ｐ−ＴＭＡＭＶＢ）３．２６ｇ、メトキシポリエチレングリコール（ｐ＝２３）メタクリレート（Ｍ２３０Ｇ）８．０ｇ、水酸化ナトリウム２．９ｇ、過硫酸ナトリウム０．３９ｇ、イオン交換水８０ｇを仕込み、この溶液を激しく攪拌しながら２時間かけてセパラブルフラスコに滴下した。
滴下中、セパラブルフラスコ内を撹拌しながら、温度を８０℃に保った。滴下後、８５℃に昇温し４時間反応を行った。生成物を反応器から取り出し、ヘキサンで再沈澱させることにより合成高分子化合物１の固体を３９ｇ得た。
得られた合成高分子化合物１の質量平均分子量は１５万であった。なお、質量平均分子量はＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）法により測定した。すなわち、カラムとして、東ソー（株）社製 ＴＳＫｇｅｌ α５０００、α３０００、α２５００の３本を用いた。溶出液は０．３ ｍｏｌ／Ｌトリエチルアミンをリン酸にてｐＨを２．９に調整した溶液を用い、流速０．０５ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度４０℃にて流した。標準サンプルにＳｈｏｄｅｘ社製 プルランを用い検量した。
［合成例１］
以下のようにして、実施例１および実施例３および実施例１１および実施例１３で使用した合成高分子化合物１を製造した。
冷却還流管、温度計、窒素導入管及び攪拌装置を取り付けたセパラブルフラコにイオン交換水８０ｇを仕込み、窒素を吹き込みながら８０℃で３０分撹拌した。ここに、予め２００ｍｌ用ビーカーに２−メチル−２−アクリルアミドプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）１６．０ｇ、塩化トリメチルアミノプロピルアクリルアミド（ＡＡＰＴＡＣ）１２．７５ｇ、塩化１−ビニル−４−トリメチルアミノメチルベンゼン（ｐ−ＴＭＡＭＶＢ）３．２６ｇ、メトキシポリエチレングリコール（ｐ＝２３）メタクリレート（Ｍ２３０Ｇ）８．０ｇ、水酸化ナトリウム２．９ｇ、過硫酸ナトリウム０．３９ｇ、イオン交換水８０ｇを仕込み、この溶液を激しく攪拌しながら２時間かけてセパラブルフラスコに滴下した。
滴下中、セパラブルフラスコ内を撹拌しながら、温度を８０℃に保った。滴下後、８５℃に昇温し４時間反応を行った。生成物を反応器から取り出し、ヘキサンで再沈澱させることにより合成高分子化合物１の固体を３９ｇ得た。
得られた合成高分子化合物１の質量平均分子量は１５万であった。なお、質量平均分子量はＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）法により測定した。すなわち、カラムとして、東ソー（株）社製 ＴＳＫｇｅｌ α５０００、α３０００、α２５００の３本を用いた。溶出液は０．３ ｍｏｌ／Ｌトリエチルアミンをリン酸にてｐＨを２．９に調整した溶液を用い、流速０．０５ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度４０℃にて流した。標準サンプルにＳｈｏｄｅｘ社製 プルランを用い検量した。
［合成例２］
以下のようにして、実施例６および実施例７および実施例１６および実施例１７で使用した合成高分子化合物２を製造した。
冷却還流管、温度計、窒素導入管及び攪拌装置を取り付けたセパラブルフラコにエタノール９０ｇを仕込み、窒素を吹き込みながら８０℃で３０分撹拌した。ここに、予め２００ｍｌ用ビーカーにビニルピロリドン（ＶＰ）１４．５ｇ、ジメチルアミドエチルメタクリレート（ＤＭＥＭＡ）６．５ｇ、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）６．５ｇ、ｎ−ブチルメタクリレート（ｎ-ＢＭＡ）８．５ｇ、メトキシポリエチレングリコール（ｐ＝２３）メタクリレート（Ｍ２３０Ｇ）１４．０ｇ、２．２−アゾビスイソブチロニトリル０．６１ｇ、エタノール５９ｇを仕込み、この溶液を激しく攪拌しながら２時間かけてセパラブルフラスコに滴下した。
滴下中、セパラブルフラスコ内を撹拌しながら、温度を８０℃に保った。滴下後、４時間反応を行い、合成高分子化合物３として、４８ｇ得た。
得られた合成高分子化合物３の合成例１と同法による質量平均分子量は１０万であった。
以下のようにして、実施例６および実施例７および実施例１６および実施例１７で使用した合成高分子化合物２を製造した。
冷却還流管、温度計、窒素導入管及び攪拌装置を取り付けたセパラブルフラコにエタノール９０ｇを仕込み、窒素を吹き込みながら８０℃で３０分撹拌した。ここに、予め２００ｍｌ用ビーカーにビニルピロリドン（ＶＰ）１４．５ｇ、ジメチルアミドエチルメタクリレート（ＤＭＥＭＡ）６．５ｇ、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）６．５ｇ、ｎ−ブチルメタクリレート（ｎ-ＢＭＡ）８．５ｇ、メトキシポリエチレングリコール（ｐ＝２３）メタクリレート（Ｍ２３０Ｇ）１４．０ｇ、２．２−アゾビスイソブチロニトリル０．６１ｇ、エタノール５９ｇを仕込み、この溶液を激しく攪拌しながら２時間かけてセパラブルフラスコに滴下した。
滴下中、セパラブルフラスコ内を撹拌しながら、温度を８０℃に保った。滴下後、４時間反応を行い、合成高分子化合物３として、４８ｇ得た。
得られた合成高分子化合物３の合成例１と同法による質量平均分子量は１０万であった。
［実施例１〜１０および比較例１〜３］
各例においては、配合組成を変えた以外は同様として洗浄剤組成物を調製し、それぞれ評価した。各例の配合組成を表１〜６に示す。表中の配合量の単位は質量％を示す。
なお、全成分の合計が１００質量％となるように、水量を適宜調整している。
各例においては、配合組成を変えた以外は同様として洗浄剤組成物を調製し、それぞれ評価した。各例の配合組成を表１〜６に示す。表中の配合量の単位は質量％を示す。
なお、全成分の合計が１００質量％となるように、水量を適宜調整している。
表中の成分について以下に示す。
ＨＥＤＰ：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸
ビスノールＵＰ１０：一方社油脂工業（株）社製（式（１）中、ＲII-1：牛脂由来のアルキル基、ＲII-2：ベンジル基、ｓ＋ｔ＝３０、Ｘ-：Ｃｌ-である界面活性剤。重量平均分子量１６００）
エソミンＳＡ２Ｙ−１０３：ライオンアクゾ（株）社製 （式（１）中、ＲII-1：牛脂由来のアルキル基、ＲII-2：水素、ｓ＋ｔ＝５０である界面活性剤。重量平均分子量２３００）
Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ９０：ビニルピロリドンホモポリマー（ＢＡＳＦ社製。重量平均分子量１００万）
ＬｕｖｉｔｅｃＶＰＩ５５Ｋ７２Ｗ：ビニルピロリドン／ビニルイミダゾール共重合物（ＢＡＳＦ社製。重量平均分子量３万）
クロマボンドＳ−４００：ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＰＥＣＩＡＬＩＴＹ ＰＲＯＤＵＣＴＳ ＩＮＣ．製（式（１０）においてＤがＯ−のものの重合体。重量平均分子量１２０万）
エソミンＣ／１５：ライオンアクゾ（株）社製（式（１）中、ＲII-1：炭素鎖数１０のアルキル基、ＲII-2：水素、ｓ＋ｔ＝５である界面活性剤。重量平均分子量４０３）
ＨＥＤＰ：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸
ビスノールＵＰ１０：一方社油脂工業（株）社製（式（１）中、ＲII-1：牛脂由来のアルキル基、ＲII-2：ベンジル基、ｓ＋ｔ＝３０、Ｘ-：Ｃｌ-である界面活性剤。重量平均分子量１６００）
エソミンＳＡ２Ｙ−１０３：ライオンアクゾ（株）社製 （式（１）中、ＲII-1：牛脂由来のアルキル基、ＲII-2：水素、ｓ＋ｔ＝５０である界面活性剤。重量平均分子量２３００）
Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ９０：ビニルピロリドンホモポリマー（ＢＡＳＦ社製。重量平均分子量１００万）
ＬｕｖｉｔｅｃＶＰＩ５５Ｋ７２Ｗ：ビニルピロリドン／ビニルイミダゾール共重合物（ＢＡＳＦ社製。重量平均分子量３万）
クロマボンドＳ−４００：ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＳＰＥＣＩＡＬＩＴＹ ＰＲＯＤＵＣＴＳ ＩＮＣ．製（式（１０）においてＤがＯ−のものの重合体。重量平均分子量１２０万）
エソミンＣ／１５：ライオンアクゾ（株）社製（式（１）中、ＲII-1：炭素鎖数１０のアルキル基、ＲII-2：水素、ｓ＋ｔ＝５である界面活性剤。重量平均分子量４０３）
＜洗浄評価＞
各例で得られた洗浄剤組成物を使用して、繊維に付着した泥汚れに対する洗浄評価を行った。
１．モデル泥汚れ布の作成
園芸用黒土（ｋｙｏｔｏｃｈｉｙａ製）１５ｇを秤量し、水道水５００ｇ中に投入し、ホモジナイザー（ＫＩＮＥＭＡＴＩＣＡ（スイス）社製、商品名ポリトロン Ｔｙｐｅ ＰＴ １０／３５ ）にて、８０ｒｐｍで、１５分間分散させた。得られた泥分散液中に１０ｃｍ×２５ｃｍに裁断したメンメリヤスニット布（（株）谷頭商店製）１５枚を浸漬させ、布を手で良く揉み、布全体に均一に分散液を含ませた。
布を取り出し、ローラーで軽く絞り、１時間自然乾燥させた後、１０５℃の恒温槽にてさらに１時間乾燥させた。
最後に布表面をウレタンスポンジで擦り、余分な泥粒子を落したものをモデル泥汚れ布とした。
各例で得られた洗浄剤組成物を使用して、繊維に付着した泥汚れに対する洗浄評価を行った。
１．モデル泥汚れ布の作成
園芸用黒土（ｋｙｏｔｏｃｈｉｙａ製）１５ｇを秤量し、水道水５００ｇ中に投入し、ホモジナイザー（ＫＩＮＥＭＡＴＩＣＡ（スイス）社製、商品名ポリトロン Ｔｙｐｅ ＰＴ １０／３５ ）にて、８０ｒｐｍで、１５分間分散させた。得られた泥分散液中に１０ｃｍ×２５ｃｍに裁断したメンメリヤスニット布（（株）谷頭商店製）１５枚を浸漬させ、布を手で良く揉み、布全体に均一に分散液を含ませた。
布を取り出し、ローラーで軽く絞り、１時間自然乾燥させた後、１０５℃の恒温槽にてさらに１時間乾燥させた。
最後に布表面をウレタンスポンジで擦り、余分な泥粒子を落したものをモデル泥汚れ布とした。
２．洗浄方法
洗浄方法：浸漬
実施例１〜１０、比較例１〜３の各洗浄組成液１００ｍｌに、上記モデル泥汚れ布５枚（各４ｃｍ×４ｃｍに裁断したもの）を浸漬した。浸漬時間は１５時間とした。
一方、二槽式洗濯機（三菱電機製 商品名ＣＷ−Ｃ３０Ａ１−Ｈ１）の洗濯槽に、２５℃の水道水３０Ｌを入れ、次いで衣料用洗浄剤（ライオン（株）社製 商品名「トップ」）を１５ｇ投入し、３０秒間撹拌した。その後、上記浸漬後の評価布５枚と、丸首半袖シャツ７枚（富士紡績（株）社製 ＢＶＤ．ＬＬサイズ）とを入れ、標準水流で１０分間洗浄した後、１分間脱水した。さらに、ためすすぎ３分間、脱水１分間を２セット繰り返した後、自然乾燥させた。
洗浄方法：浸漬
実施例１〜１０、比較例１〜３の各洗浄組成液１００ｍｌに、上記モデル泥汚れ布５枚（各４ｃｍ×４ｃｍに裁断したもの）を浸漬した。浸漬時間は１５時間とした。
一方、二槽式洗濯機（三菱電機製 商品名ＣＷ−Ｃ３０Ａ１−Ｈ１）の洗濯槽に、２５℃の水道水３０Ｌを入れ、次いで衣料用洗浄剤（ライオン（株）社製 商品名「トップ」）を１５ｇ投入し、３０秒間撹拌した。その後、上記浸漬後の評価布５枚と、丸首半袖シャツ７枚（富士紡績（株）社製 ＢＶＤ．ＬＬサイズ）とを入れ、標準水流で１０分間洗浄した後、１分間脱水した。さらに、ためすすぎ３分間、脱水１分間を２セット繰り返した後、自然乾燥させた。
３．洗浄力の評価
評価布の反射率を、未洗浄布、汚染布（洗浄前の布）、洗浄布（洗浄後の布）について、各々、日本電色（ＳＥ２０００）にて測定し、洗浄率（％）を下記式に基づいて算出した。尚、反射率としては、Ｚ値を採用した。
洗浄率（％）＝（洗浄布の反射率−汚染布の反射率）／
（未汚染布の反射率−汚染布の反射率）×１００
評価布５枚の洗浄率の平均値を求め、下記基準にて評価した。
○：洗浄率４５％を越える
×：洗浄率４５％以下
評価布の反射率を、未洗浄布、汚染布（洗浄前の布）、洗浄布（洗浄後の布）について、各々、日本電色（ＳＥ２０００）にて測定し、洗浄率（％）を下記式に基づいて算出した。尚、反射率としては、Ｚ値を採用した。
洗浄率（％）＝（洗浄布の反射率−汚染布の反射率）／
（未汚染布の反射率−汚染布の反射率）×１００
評価布５枚の洗浄率の平均値を求め、下記基準にて評価した。
○：洗浄率４５％を越える
×：洗浄率４５％以下
これらの結果より、本発明の洗浄剤組成物は、これらの成分が相乗的に作用し、洗浄力が良好であることが判った。一方、成分（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）のいずれかが欠けると、相乗効果が発現されず、洗浄力は低下した。
Claims (8)
- 以下の成分（I）〜（III）を含有することを特徴とする洗浄剤組成物：
（Ｉ）リン元素含有化合物；
（II）以下の（ａ−１）又は（ａ−２）である、少なくとも１種の重量平均分子量が５００以上の化合物；
（ａ−１） 窒素とポリエチレンオキサイド基とを含有する化合物、及び
（ａ−２） ４級アンモニウム基、３級アミノ基及びアミンオキシド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物、
（III）以下の式（ｂ−１）、（ｂ−２）又は（ｂ−３）で表される、少なくとも１種の重量平均分子量が３００以下の親水性基を持つ芳香族化合物；
- 成分（Ｉ）が、リン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン酸、ピロリン酸、トリポリリン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、及びこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩からなる群から選ばれる請求項１記載の洗浄剤組成物。
- 成分（ａ−１）が、下記式（１）で表される化合物である請求項１又は２記載の洗浄剤組成物。
ｓおよびｔは、エチレンオキシド基の平均付加モル数であり、各々独立に０以上の整数である；及び
Ｘ-はカウンターアニオンを示す。） - 成分（ａ−２）が、Ｎ-ビニルピロリドン単量体を構成単位として含有する高分子化合物（ロ）である請求項１又は２記載の洗浄剤組成物。
- 成分（III）が、式（ｂ−２）において、ＸIIIが酸型のスルホン酸基又はカルボキシル基であり、ｎ＋ｍが１〜３の整数である芳香族化合物である請求項１〜４のいずれか１項記載の洗浄剤組成物。
- 成分（III）が、式（ｂ−３）において、ＸIIIが酸型のスルホン酸基又はカルボキシル基であり、ｐ＋ｑが１又は２である芳香族化合物である請求項１〜４のいずれか１項記載の洗浄剤組成物。
- 成分（I）〜（III）が、質量比にして、（I）／（II）／（III）＝５〜６０／１０〜７０／２０〜８０なる量で含まれる請求項１〜６のいずれか１項記載の洗浄剤組成物。
- 請求項１に記載の洗浄剤組成物を用いて、被洗物を洗浄する方法であって、洗浄剤組成物を含む液中に被洗物を浸漬する工程を有することを特徴とする洗浄方法。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008093696A1 (ja) * | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Kao Corporation | 洗剤組成物 |
| KR20140091560A (ko) * | 2011-10-25 | 2014-07-21 | 바스프 에스이 | 세탁 과정에서의 오염 재부착방지제 및 방오제로서의 아크릴레이트 공중합체의 용도 |
| CN105237476A (zh) * | 2015-10-31 | 2016-01-13 | 高大元 | 一种4-氯-8-氨基喹啉的合成方法 |
-
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- 2005-02-09 JP JP2005032998A patent/JP2006219554A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008093696A1 (ja) * | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Kao Corporation | 洗剤組成物 |
| US8236746B2 (en) | 2007-02-01 | 2012-08-07 | Kao Corporation | Detergent composition comprising a ternary surfactant mixture and a clay |
| KR20140091560A (ko) * | 2011-10-25 | 2014-07-21 | 바스프 에스이 | 세탁 과정에서의 오염 재부착방지제 및 방오제로서의 아크릴레이트 공중합체의 용도 |
| JP2015502414A (ja) * | 2011-10-25 | 2015-01-22 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | 洗濯プロセスにおける汚れ再付着防止剤および汚れ剥離剤としてのアクリレートコポリマーの使用 |
| KR101955058B1 (ko) | 2011-10-25 | 2019-03-06 | 헨켈 아게 운트 코 카게아아 | 세탁 과정에서의 오염 재부착방지제 및 방오제로서의 아크릴레이트 공중합체의 용도 |
| CN105237476A (zh) * | 2015-10-31 | 2016-01-13 | 高大元 | 一种4-氯-8-氨基喹啉的合成方法 |
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