JP2006219402A - ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法 - Google Patents

ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006219402A
JP2006219402A JP2005033190A JP2005033190A JP2006219402A JP 2006219402 A JP2006219402 A JP 2006219402A JP 2005033190 A JP2005033190 A JP 2005033190A JP 2005033190 A JP2005033190 A JP 2005033190A JP 2006219402 A JP2006219402 A JP 2006219402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mol
hydroxycinnamic acid
bromophenol
bromophenols
acid esters
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005033190A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Takahashi
真 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2005033190A priority Critical patent/JP2006219402A/ja
Publication of JP2006219402A publication Critical patent/JP2006219402A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】 本発明は、ブロモフェノール類とアクリル酸エステルからヒドロキシ桂皮酸エステル類を製造するに際して、工業的に入手容易な酢酸パラジウムのみを触媒とし、極めて低触媒量で短時間に反応を完結させる、工業的に有利な方法を提供する。
【手段】 溶媒として少なくとも20の誘電率を示す非プロトン性有機溶媒を用い、酢酸パラジウム及び無機塩基の存在下、有機リン化合物を用いることなくブロモフェノール類とアクリル酸エステルを反応させる一般式(I)で表されるヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
【化1】
Figure 2006219402

[式中、R1は炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基を表し、R2は置換基を表し、nは0〜4の整数を表す。]
【選択図】 なし

Description

本発明は、ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法に関する。詳しくは、ブロモフェノール類とアクリル酸エステルを反応させて、安価かつ効率的にヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造する方法に関する。
ヒドロキシ桂皮酸類は、紫外線吸収能,ラジカル捕捉能,酸化防止能,活性酸素消去能などを有しており、食品、抗酸化剤、農産物鮮度保持剤、抗菌剤、色素の褪色防止剤、サンスクリーン剤など用途に有用である(例えば特許文献1参照)。
アクリル酸誘導体をパラジウム触媒及び塩基の存在下に、ハロゲン化芳香族化合物と反応させるヘック(Heck)反応による桂皮酸誘導体の合成が試みられている。
例えば、ブロモフェノール類は電子供与基であるヒドロキシル基を有するため、ヘック反応に対する活性は、ブロモ芳香族化合物の中でも低い部類に入る。実際、パラジウム化合物の存在下、ブロモフェノールとアクリル酸エステルを反応させてヒドロキシ桂皮酸エステル類を合成している例は少なく、その結果も低触媒量かつ短時間で反応が完結するものは無く、満足の行くものではなかった。例えば特許文献2では、パラジウム化合物を担持した触媒を用いているが、該文献2の実施例ではハロゲン化フェノール類100モルに対して、パラジウムとして0.2〜1モル用いており、しかも反応時間は140℃、または170℃で10時間を要しており、工業的に満足出来るものではない。
特開平5−331101号公報 特開2004-149438号公報
本発明は、ブロモフェノール類とアクリル酸エステルからヒドロキシ桂皮酸エステル類を製造するに際して、工業的に入手容易な酢酸パラジウムのみを触媒とし、極めて低触媒量で短時間に反応を完結させる、工業的に有利な方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
[1] 溶媒として少なくとも20の誘電率を示す非プロトン性有機溶媒を用い、酢酸パラジウム及び無機塩基の存在下、ブロモフェノール類とアクリル酸エステルを反応させることを特徴とする一般式(I)で表されるヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。反応には有機リン化合物を用いないことが好ましい。
一般式(I)
Figure 2006219402
[式中、R1は炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基を表し、R2は置換基を表し、nは0〜4の整数を表す。]
[2] 前記非プロトン性有機溶媒がジアルキルスルホキシド類、N,N-ジアルキルアミド類またはアルキル化ラクタム類である、[1]に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
[3] 前記無機塩基がリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウム、もしくはマグネシウムの炭酸塩、炭酸水素塩、またはリン酸塩である、[1]または[2]に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
[4] 前記無機塩基がナトリウム、カリウム、もしくはセシウムの炭酸塩、炭酸水素塩、またはリン酸塩である、[1]〜[3]のいずれか一項に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
[5] 前記ブロモフェノール類がp−ブロモフェノール類である、[1]〜[4]のいずれか一項に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
[6]前記酢酸パラジウムをブロモフェノール類100モルに対して0.01〜0.1モルの量用いる[1]〜[5]のいずれか一項に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
本発明の製造方法を用いれば、経済的に有利なブロモフェノール類とアクリル酸エステルを原料として、工業的に入手容易な触媒を用い、低触媒量、短時間でヒドロキシ桂皮酸エステル類を製造することが可能である。
本明細書及び特許請求の範囲では、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値)〜(数値)」という記載は「(数値)以上(数値)以下」の意味を表す。
本発明の製造方法において、原料として用いるブロモフェノール類は下記一般式(II)で表される。
一般式(II)
Figure 2006219402
前記一般式(II)中のR2及びnは一般式(I)におけると同義である。
2で表される置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が1〜16のアルキル基、炭素原子数が1〜16のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が1〜16のアルコキシ基、炭素原子数が2〜16のアシル基、炭素原子数が1〜16のアルキルチオ基、炭素原子数が2〜16のアシルオキシ基、炭素原子数が2〜16のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が2〜16のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が2〜16のアシルアミノ基が挙げられる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって可能な形で置換されていてもよい。また、n=2以上の場合、それぞれのR2は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
2として好ましくはフッ素原子である。
上記一般式(II)で表されるブロモフェノール類の中でも、下記一般式(IIa)で表されるp−ブロモフェノール類を本発明の方法に対して好適に用いることができ、有用な4−ヒドロキシ桂皮酸エステル類を得ることが出来る。
一般式(IIa)
Figure 2006219402
一般式(IIa)中、R2 、nは一般式(II)におけると同義である。
次に、もう一つの原料であるアクリル酸エステルは下記一般式(III)で表されるものが好ましい。
一般式(III)
Figure 2006219402
前記一般式(III)中のR1は一般式(I)におけると同義である。
1で表されるアルキル基は環状構造を有していても良く、また、このアルキル基はさらに置換基を有していても良い。
アクリル酸エステルの具体例としてはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸t−アミル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸アダマンチルなどが挙げられる。
本発明の製造方法においては、アクリル酸エステルをブロモフェノール類に対して小過剰量用いることが効率的であり、、アクリル酸エステルをブロモフェノール類に対して1当量以上1.5当量以下用いることが収率およびコストの面で好ましい。
本発明で用いるパラジウム化合物は酢酸パラジウム(Pd(OAc)2)である。本発明において用いる酢酸パラジウムの量は、特に制限は無いが、コスト及び反応効率を鑑みると、例えば原料であるブロモフェノール類100モルに対して、酢酸パラジウム0.0001〜0.1モル、好ましくは0.001〜0.1モル、より好ましくは0.01〜0.1である。また、一般的に、ヘック反応においてしばしばパラジウム触媒と共に用いられるトリアリールホスフィンなどの有機リン化合物は、廃棄物の毒物学的及び生態学的観点から、本発明の方法には使用しないことが好ましい。
本発明に用いる無機塩基としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウム、もしくはマグネシウムの炭酸塩、炭酸水素塩、またはリン酸塩などが好ましく、ナトリウム、カリウムもしくはセシウムの炭酸塩、またはリン酸塩がより好ましく、カリウムの炭酸塩、またはリン酸塩がさらに好ましい。その使用量は1モルのブロモフェノール類に対して1〜2モル、好ましくは1〜1.5モルの範囲が適している。これ以上添加しても差し支えないが、収率およびコストの面で無機塩基を増量してもその利益が無い。
本発明に用いる溶媒としては、少なくとも20の誘電率を示す非プロトン性有機溶媒を用いる。中でも、ジアルキルスルホキシド類、N,N−ジアルキルアミド類またはアルキル化ラクタム類などが好ましく用いられ、例えばジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の溶媒を挙げることができる。
この反応は20〜200℃で進行し、多くの場合に60〜180℃、好ましくは100〜160℃の温度で反応を行うのが有用である。反応圧力は常圧で行うことが好ましく、本発明における反応は、不活性ガス、特に窒素ガス中で行うことが好ましい。反応時間については特に制限は無いが、5分〜8時間程度が経済的に好ましく、5分〜5時間がより好ましい。このようにして上記一般式(I)で表されるヒドロキシ桂皮酸エステル類が効率よく得られる。本発明における反応は、窒素ガス中で反応温度が100〜160℃の範囲で、かつ反応時間が5分〜5時間であることが好ましい。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、蒸留、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
[実施例]
本発明のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造例を実施例を挙げて説明する。もちろん、本発明は以下の例によって限定されるものではない。
4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチルの製造
Figure 2006219402
p−ブロモフェノール34.6g(0.2mol)、アクリル酸t−ブチル35ml(0.24mol)、炭酸カリウム33.2g(0.24mol)、酢酸パラジウム4.5mg(0.02mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド100mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で1時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル300mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル43.0g(収率98%)を得た。1H NMR(CDCl3):δ1.5(s,9H),6.2(d,1H),6.9(d,2H),7.4(d,2H),7.5(d,1H),9.1(br,1H)。
4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチルの製造
p−ブロモフェノール34.6g(0.2mol)、アクリル酸t−ブチル35ml(0.24mol)、炭酸カリウム33.2g(0.24mol)、酢酸パラジウム45mg(0.2mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド100mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で10分間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル300mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル41.4g(収率94%)を得た。
4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチルの製造
p−ブロモフェノール34.6g(0.2mol)、アクリル酸t−ブチル35ml(0.24mol)、炭酸カリウム33.2g(0.24mol)、酢酸パラジウム0.45mg(0.002mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド100mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で3時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル300mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル37.0g(収率84%)を得た。
4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチルの製造
p−ブロモフェノール34.6g(0.2mol)、アクリル酸t−ブチル35ml(0.24mol)、リン酸カリウム50.9g(0.24mol)、酢酸パラジウム45mg(0.2mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド100mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で3時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル300mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル41.2g(収率94%)を得た。
4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチルの製造
p−ブロモフェノール34.6g(0.2mol)、アクリル酸t−ブチル35ml(0.24mol)、リン酸カリウム50.9g(0.24mol)、酢酸パラジウム45mg(0.2mmol)、N−メチル−2−ピロリドン100mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で3時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル300mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル41.9g(収率95%)を得た。
2−フルオロ−4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチルの製造
Figure 2006219402
4−ブロモ−3−フルオロフェノール19.1g(0.1mol)、アクリル酸t−ブチル17ml(0.12mol)、炭酸カリウム16.6g(0.12mol)、酢酸パラジウム2.2mg(0.01mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド50mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で1時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル150mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル21.7g(収率91%)を得た。1H NMR(CDCl3):δ1.5(s,9H),6.3(d,1H),6.6−6.7(m,3H),7.4(t,1H),7.7(d,1H)。
3−フルオロ−4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチルの製造
Figure 2006219402
4−ブロモ−2−フルオロフェノール19.1g(0.1mol)、アクリル酸t−ブチル17ml(0.12mol)、炭酸カリウム16.6g(0.12mol)、酢酸パラジウム2.2mg(0.01mmol)、N,N−ジメチルアセトアミド50mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で1時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル150mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル22.4g(収率94%)を得た。1H NMR(CDCl3):δ1.5(s,9H),5.7(d,1H),6.2(d,1H),7.0(t,1H),7.2−7.3(m,2H),7.5(d,1H)。
[参考例1]
p−ブロモフェノール34.6g(0.2mol)、アクリル酸t−ブチル35ml(0.24mol)、酢酸パラジウム45mg(0.2mmol)、トリエチルアミン100mlを含む混合物を窒素雰囲気下、加熱還流にて2時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル300mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル19.8g(収率45%)を得た。
[参考例2]
p−ブロモフェノール34.6g(0.2mol)、アクリル酸t−ブチル35ml(0.24mol)、酢酸ナトリウム19.7g(0.24mol)、酢酸パラジウム45mg(0.2mmol)、N−メチル−2−ピロリドン100mlを含む混合物を窒素雰囲気下、140℃で8時間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル300mlを加え、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、有機層を回収した。有機溶媒を減圧蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル:4/1(体積比))で精製操作を行い、4−ヒドロキシ桂皮酸t−ブチル13.9g(収率32%)を得た。
実施例2、参考例1、2より、無機塩基として炭酸塩を用いた場合が、トリエチルアミンまたは酢酸ナトリウムを用いた場合より収率が高いことがわかる。

Claims (4)

  1. 溶媒として少なくとも20の誘電率を示す非プロトン性有機溶媒を用い、酢酸パラジウム及び無機塩基の存在下、ブロモフェノール類とアクリル酸エステルを反応させることを特徴とする一般式(I)で表されるヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
    一般式(I)
    Figure 2006219402
    [式中、R1は炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基を表し、R2は置換基を表し、nは0〜4の整数を表す。]
  2. 前記非プロトン性有機溶媒がジアルキルスルホキシド類、N,N−ジアルキルアミド類またはアルキル化ラクタム類である、請求項1に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
  3. 前記無機塩基がリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、カルシウム、もしくはマグネシウムの炭酸塩、炭酸水素塩、またはリン酸塩である、請求項1または2に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
  4. 前記ブロモフェノール類がp−ブロモフェノール類である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法。
JP2005033190A 2005-02-09 2005-02-09 ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法 Pending JP2006219402A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005033190A JP2006219402A (ja) 2005-02-09 2005-02-09 ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005033190A JP2006219402A (ja) 2005-02-09 2005-02-09 ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006219402A true JP2006219402A (ja) 2006-08-24

Family

ID=36981947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005033190A Pending JP2006219402A (ja) 2005-02-09 2005-02-09 ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006219402A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06312956A (ja) * 1993-04-28 1994-11-08 Agency Of Ind Science & Technol 4−(4’−ヒドロキシフェニル)桂皮酸エステルの製造方法
JP2004149438A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Idemitsu Petrochem Co Ltd ヒドロキシ桂皮酸類の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06312956A (ja) * 1993-04-28 1994-11-08 Agency Of Ind Science & Technol 4−(4’−ヒドロキシフェニル)桂皮酸エステルの製造方法
JP2004149438A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Idemitsu Petrochem Co Ltd ヒドロキシ桂皮酸類の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK142765B (da) Fremgangsmåde til fremstilling af optisk aktive estere af chrysanthemsyre.
EP2522648B1 (en) Process for producing difluorocyclopropane compound
JP2006219402A (ja) ヒドロキシ桂皮酸エステル類の製造方法
CN1158249C (zh) 制备杀虫剂中间体的方法
JP2012020952A (ja) ヨードニウム化合物、その製造方法、及び官能基化スピロ環状化合物とその製造方法
JP2007153823A (ja) アレンカルボン酸エステル類の製造法
JP4004640B2 (ja) α−(アルコキシオキサリル)脂肪酸エステルおよびα−アルキルまたはアルケニルアクリル酸エステル類、およびそれを用いたフエニドン類の合成法
JP4768999B2 (ja) 含フッ素化合物、およびその製造方法
JP2008013506A (ja) フラン誘導体の製造方法
KR100713029B1 (ko) 하이드로퀴논 유도체 제조방법
JPH06157418A (ja) 還元的脱ハロゲン化法
JP2005134365A (ja) 光学活性ビナフチル化合物からなるnmr用キラルシフト試薬
JP5228920B2 (ja) 1−アシルオキシ−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)−1−プロペン化合物の製造方法
JP2734646B2 (ja) 2,2―ジフルオロカルボン酸誘導体の新規合成法
JP5773850B2 (ja) 光学活性α−アルキルセリン誘導体の製造方法
KR100967341B1 (ko) 카바페넴 합성 중간체의 제조방법
US8940920B2 (en) Method for preparation of (2-hydroxy-3-oxo-cyclopent-1-enyl)-acetic acid esters
KR100783456B1 (ko) 4-아세톡시아제티디논의 제조방법, 중간체, 및 중간체의제조방법
JP2734647B2 (ja) 2,2−ジフルオロカルボン酸誘導体の製造法
JP2006052144A (ja) β置換型β−メトキシアクリレートの製造方法
JP2005314354A (ja) 光学活性スルフィン酸化合物
JP2008100951A (ja) 2−シクロペンタデセノンの製造方法
JP2004244398A (ja) ベンジルイソニトリルの製法
JP2005145913A (ja) ジフルオロメチレン基を有する芳香族化合物の製造方法
JP2000256235A (ja) 光学活性1−フェニルエタノール類の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061124

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070621

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071108

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Effective date: 20071115

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Effective date: 20071122

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100422

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20100518

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20100720

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20100817

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02