JP2006216137A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006216137A
JP2006216137A JP2005026712A JP2005026712A JP2006216137A JP 2006216137 A JP2006216137 A JP 2006216137A JP 2005026712 A JP2005026712 A JP 2005026712A JP 2005026712 A JP2005026712 A JP 2005026712A JP 2006216137 A JP2006216137 A JP 2006216137A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
read
block
data line
clock
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005026712A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4834311B2 (ja
Inventor
Mariko Kako
真理子 加来
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2005026712A priority Critical patent/JP4834311B2/ja
Priority to US11/344,206 priority patent/US7248538B2/en
Publication of JP2006216137A publication Critical patent/JP2006216137A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4834311B2 publication Critical patent/JP4834311B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4096Input/output [I/O] data management or control circuits, e.g. reading or writing circuits, I/O drivers or bit-line switches 
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4076Timing circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1051Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1051Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
    • G11C7/106Data output latches
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1078Data input circuits, e.g. write amplifiers, data input buffers, data input registers, data input level conversion circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1078Data input circuits, e.g. write amplifiers, data input buffers, data input registers, data input level conversion circuits
    • G11C7/1087Data input latches
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/22Read-write [R-W] timing or clocking circuits; Read-write [R-W] control signal generators or management 
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2207/00Indexing scheme relating to arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C2207/10Aspects relating to interfaces of memory device to external buses
    • G11C2207/104Embedded memory devices, e.g. memories with a processing device on the same die or ASIC memory designs

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Databases & Information Systems (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

【課題】 高速、大容量のメモリマクロを構成できる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】 外部回路とのインターフェース部と、書き込みデータ線と、読み出しデータ線と、インターフェース部に書き込みデータ線を介して接続されたデータ制御部と、このデータ制御部に接続されたメモリブロックとを有するデータ記憶部と、読み出しデータ線とインターフェース部との間に接続された読み出しラッチブロックとを具備し、データ制御部は前記メモリブロックから読み出されたデータをクロックの後縁をトリガーとして読み出しデータ線に出力し、読み出しラッチブロックはクロックの後縁から少なくとも1サイクル後の他のクロックの後縁をトリガーとしてデータをラッチし、インターフェース部は他のクロック後の更に他のクロックの前縁をトリガーとして外部回路へデータを出力することを特徴とする半導体記憶装置。
【選択図】図9

Description

本発明は、I/Oブロックの上に複数のメモリブロックが積層された、例えばeDRAM(embedded Dynamic Random Access Memory)のような構成を持つ大容量の半導体記憶装置に関する。
I/Oブロックと複数のメモリブロックにより構成される、例えばeDRAMのような構成を持つ大容量の半導体記憶装置は大容量メモリマクロと呼ばれる。従来の大容量メモリマクロは例えば図17に示すように構成されている。図17において、複数のメモリブロック204<0>〜204<3>夫々は相補データ線DQt/cを介してデータ制御部であるDQBブロック203に接続しており、DQBブロック203はさらにIOブロックと接続している。外部からの書き込みデータはDINに供給されI/Oブロック201によりDQBブロック203へ送られ、データ線DQt/cを介してメモリブロック204<0>〜204<3>のいずれかに選択的に書き込まれる。例えばeDRAMの場合であれば、夫々のメモリブロックはデータ線DQt/cと接続するセンスアンプ部およびメモリアレイを有しており、データ線DQt/cへ伝えられた書き込みデータはセンスアンプ部によりメモリアレイへ書き込まれる。また、メモリブロック204<0>〜204<3>のいずれかから選択的に読み出された読み出しデータは、データ線DQt/cを介してDQBブロック203へ伝えられる。例えばeDRAMの場合あれば、メモリブロック内に有するメモリアレイによりセンスアンプ部へ読み出しデータが読み出された後増幅され、データ線DQt/cを介してDQBブロックへ伝えられる。DQBブロック203に読み出されたデータは再び増幅されI/Oブロックに伝えられてラッチされた後、外部に出力データDOUTとして出力される。
一般に、メモリマクロが大容量化すると、データ線長が増大しメモリマクロの高速動作に大きな障害となる。よってデータ線長増大の抑制は大容量のメモリマクロには必須であるが、この問題の解決にはデータ線制御の複雑化を招くことが多い。データ線制御の複雑化はDQBブロックの回路面積を増大させ、結果としてメモリマクロの面積を増大させてしまう。
従ってこの発明の目的は、DQBブロック回路を簡略化しDQBブロックの回路面積の増大を防ぐことで高速、大容量のメモリマクロを構成することができる半導体記憶装置を提供することである。
この発明の一実施形態によれば、外部回路との間でデータの授受を行うインターフェース部と、
書き込みデータ線と、読み出しデータ線と、前記インターフェース部に前記書き込みデータ線を介して接続されたデータ制御部と、このデータ制御部に接続されたメモリブロックとを有するデータ記憶部と、
前記読み出しデータ線と前記インターフェース部との間に接続された読み出しラッチブロックとを具備し、
前記データ制御部は前記メモリブロックから読み出されたデータをクロックの後縁をトリガーとして前記読み出しデータ線に出力し、前記読み出しラッチブロックは前記クロックの後縁から少なくとも1サイクル後の他のクロックの後縁をトリガーとして前記データをラッチし、前記インターフェース部は前記他のクロック後の更に他のクロックの前縁をトリガーとして前記外部回路へデータを出力することを特徴とする半導体記憶装置が構成される。
上記の構成によれば、高速、大容量のメモリマクロを構成することができる半導体記憶装置を提供することができる。
実施の形態の説明に先立って、まず、この発明の前提となった参考例について説明する。
図1は本参考例に係るメモリマクロの全体の構成を概略的に示すブロック図である。
従来のメモリマクロにおいては、DQBブロックと各メモリブロックを接続するデータ線は、全メモリブロックと接続するため、結果として非常に大きい寄生容量を持つこととなる。よって大容量化に伴うこのデータ線の寄生容量と抵抗増大はメモリマクロの高速動作に大きな障害となる。
図1に示す構成は、メモリマクロの大容量化に伴う、DQBブロックと各メモリブロック間を接続するデータ線の配線長増大を抑制することを目的とするメモリマクロの一例であり、メモリマクロを複数のサブマクロに分割し、ぞれぞれのサブマクロにDQBブロックおよびローカルデータ線を配することでこの目的を実現している。また、図1においては、夫々のDQBブロックおよびI/Oブロック間のデータの書き込みおよび読み出しはグローバルデータ線を介して行われる。
図1を詳細に説明する。メモリマクロはI/Oブロック101およびメモリサブマクロ102<0>、102<1>、…102<i>が順次隣接する構成を有する。例えばメモリサブマクロ102<0>は、データ制御部であるDQBブロック103<0>と、これに関連して設けられたメモリブロック104<0>とより構成される。他のメモリサブマクロ102<1>、…102<i>についても同様に、それぞれDQBブロック103<1>〜103<i>、メモリブロック104<1>〜104<i>により構成されている。
DQBブロック103<i>はローカルデータ線が接続している。ローカルデータ線はここでは相補であり、DQBブロック103<i>は相補ローカルデータ線DQt、DQcを介して対応するメモリブロックと接続する。他のDQBブロック103<0>、103<1>、…103<i−1>についても同様に相補ローカルデータ線を介して夫々対応するメモリブロックと接続されている。
DQBブロック103<0>〜103<i>はクロックCLKによって動作するDQB制御回路105<0>〜105<i>からの制御信号DQWLTCp、QSEn、RDEpによりその動作が制御される。I/Oブロック101もI/O制御回路106からのラッチ制御信号IOWLTCp、IORLTCpによりそのデータラッチ動作が制御される。
I/Oブロック101は書き込み用のグローバルデータ線WDLを介してメモリサブマクロ102<0>、102<1>、…102<i−1>,102<i>内のデータ制御部であるDQBブロック103<0>、103<1>、…103<i−1>,103<i>と共通に接続されている。外部から供給された書き込みデータWDであるDINはI/Oブロック101を介してグローバルデータ線WDLに送られ、さらにメモリサブマクロ102<0>〜102<i>のDQBブロック103<0>〜103<i>に選択的に供給されて対応するメモリブロック104<0>〜104<i>のいずれかに書き込まれる。データ読み出し時には、メモリブロック104<0>〜104<i>のうちの選択されたメモリブロックから読み出された読み出しデータRDが対応するDQBブロックを介して読み出し用のグローバルデータ線RDL上に送り出される。この読み出しデータRDはI/Oブロック101にラッチされた後、外部に出力データDOUTとして出力される。
例えばDQBブロック103<0>は図4に示すように構成される。図4において、書き込み用のグローバルデータ線には書き込みデータWDのラッチ回路111が接続され、ここで書き込みデータWDはラッチ制御信号DQWLTCpによりラッチされ、相補データDt,Dcに変換される。これらの相補データDt,Dcはドライバ回路112を介してローカルデータ線DQt、DQcに供給され、選択されたメモリブロック104<0>に書き込まれる。
一方、選択されたメモリブロック104<0>から読み出された相補データはローカルデータ線DQt、DQcを介してリードアンプ回路113に供給されて、制御信号QSEnによって増幅されローカル読み出しデータLRDとしてラッチ回路114にラッチされた後、制御信号RDEpに応じて読み出しデータRDとしてドライバ回路115を介してグローバルデータ線RDLに送出される。
図1に示すような構成のメモリマクロを高周波クロックにより高速動作させる場合、データの書き込み、読み出しのいずれの場合もDQBブロック103<0>〜103<i>の夫々とI/Oブロック101との間にクロックの1サイクル分の時間差を設けることが一般に行われる。これによりI/Oブロック101とDQBブロック103<0>〜103<i>との間のグローバルデータ線WDL,RDLの配線長の差によるデータ転送時の遅延の差等の不都合を吸収することができる。
データ書き込み時の動作について図2を参照して説明する。図2(a)に示したクロックCLKに対して図2(b)に示すタイミングで書き込みデータ入力DINがI/Oブロック101に供給されたものとする。このクロックCLKに同期してI/O制御回路106からは図2(c)に示すように書き込みラッチ制御信号IOWLTCpが出力される。これにより入力データDINはI/Oブロック101内にクロックCLKの前縁の立ち上がりに同期してラッチされる。ラッチされた入力データDINは制御信号IOWLTCpの立ち上がり部をトリガーとしてグローバルデータ線WDL上に送出され、次のクロックCLKの前縁の立上がり部に同期して生成される図2(e)に示すラッチ信号DQWLTCpによってDQBブロック103<0>〜103<i>のいずれかにラッチされる。このように、I/Oブロック101に入力データDINがラッチされてからDQBブロック103<0>〜103<i>にラッチされるまでにクロックCLKの前縁からつぎの1サイクル後の前縁までの時間差が設けられる。
データ読み出し時にも、図3に示すように、DQBブロック103<0>〜103<i>からI/Oブロック101までの読み出しデータRDの転送にクロックCLKの1サイクルの時間が与えられる。図4のリードアンプ回路113において、ローカルデータ線DQt、DQc上に相補データが読み出された状態で、図3(b)に示す信号QSEnがクロックCLKと同期して供給されると、信号QSEnの立ち上がり部すなわちクロックCLKの立ち下がり部である後縁に同期して相補データが増幅されローカルデータLRDとしてラッチされる。このローカルデータLRDはクロックCLKの立上がり部である前縁に同期して図3(c)に示す信号RDEpが供給されると、ラッチ回路114に更にラッチされる。ラッチされたデータは図3(d)に示す読み出しデータRDとしてドライバ115を介してグローバルデータ線RDL上に送出され、図3(e)に示すI/O制御回路106からの信号IORLTCpによりI/Oブロック101にクロックCLKの前縁に同期してラッチされる。ラッチされたデータRDは図3(f)に示すタイミングでデータ出力DOUTとして外部に出力される。
このように、図1に示すメモリマクロは、DQBブロック103<0>〜103<i>の夫々とI/Oブロック101との間にクロックの1サイクル分の時間差を設けるため、DQBブロック103<0>〜103<i>がクロックCLKの前縁に同期して読み出しデータRDをグローバルデータ線RDL上に送出し、I/Oブロック101がクロックCLKの前縁に同期して読み出しデータRDをラッチしている。つまり、DQBブロック103<0>〜103<i>の夫々が、リードアンプ回路113とラッチ回路114との2段のデータラッチ部を有し、リードアンプ回路113がクロックCLKの後縁に同期してラッチした信号をラッチ回路114がクロックCLKの前縁に同期してラッチすることにより、読み出しデータRDをクロックCLKの前縁に同期した信号としている。
図5は、図1に示す参考例を基本として、メモリマクロの大容量化に伴ってサブマクロ数が増大した場合に生じるグローバルデータ線長増大の影響、特に、読み出し時のグローバルデータ線の配線遅延軽減に対策を施した場合を概略的に示すブロック図である。なお、図5は、グローバルデータ線によるI/Oブロックおよび各サブマクロ間の接続関係に注目したものであり、各DQBブロックおよびI/Oブロックに対応する制御信号が夫々DQBブロック制御回路およびI/Oブロック制御回路により生成されることは図1と同様である。
以下、図5の詳細な説明を行う。I/Oブロック11には外部回路から供給された書き込みデータWDがラッチされ、あるいは内部メモリから読み出された読み出しデータがラッチされる。I/Oブロック11はグローバルデータ線WDLを介してメモリサブマクロ12<0>、12<1>、…12<i−1>,12<i>内のデータ制御部であるDQBブロック13<0>、13<1>、…13<i−1>,13<i>と共通に接続されている。このDQBブロック13<i>は相補ローカルデータ線DQt、DQcを介して対応して設けられたメモリブロック14<i>と接続されている。他のDQBブロック13<0>、13<1>、…13<i−1>についても同様に相補ローカルデータ線を介して夫々対応するメモリブロックと接続されている。
図5における参考例では、DQBブロック13<0>、13<1>、…13<i−1>,13<i>内に読み出しデータ用のリピータを夫々設け、このリピータを介して読み出し用のグローバルデータ線が各DQBブロック13<0>、13<1>、…13<i−1>,13<i>毎に分割して設けられる。例えば、I/Oブロック11に最も近いDQBブロック13<0>内に設けられたリピータから出力された読み出しデータRD<0>は、個別グローバルデータ線RDL<0>を介してI/Oブロック11に供給される。他のDQBブロック13<1>、…13<i−1>,13<i>についても同様にリピータが設けられており、夫々個別グローバルデータ線RDL<1>、…RDL<i−1>,RDL<i>を介して隣接するDQBブロック13<0>、13<1>、…13<i−1>に接続される。
例えば、DQBブロック13<i−1>の内部は図6のように構成されている。図6において、書き込み用のグローバルデータ線WDLには書き込みデータWDのラッチ回路21が接続され、ここで書き込みデータWDはラッチ制御信号DQWLTCpによりラッチされ、相補データDt,Dcに変換される。これらの相補データDt,Dcはドライバ回路22を介してローカルデータ線DQt、DQcに供給され、選択されたメモリブロック14<i−1>に書き込まれる。
一方、選択されたメモリブロック14<i−1>から読み出された相補データはローカルデータ線DQt、DQcを介してリードアンプ回路23に供給されて、制御信号QSEnによって増幅されローカル読み出しデータLRDとしてラッチ回路24にラッチされた後、制御信号RDEpに応じて読み出しデータRDとしてドライバ回路25を介してグローバルデータ線RDLに送出される。
ここで、ドライバ回路25はRDL<i>のリピータとしての機能を併せ持つもので、前段のサブマクロ12<i>から読み出されたデータRD<i>をグローバルデータ線RDL<i>を介して受け取って再駆動し、グローバルデータ線RDL<iー1>を介して、次のサブマクロへ伝える。このRDドライバ25がローカル読み出しデータLRDの駆動回路として動作するか前段のDQBブロックの出力のリピータ回路として動作するかは制御信号RDEpの状態によって切り分けられ、制御信号RDEpが非活性化の場合は前段のDQBブロックの出力のリピータ回路として、制御信号RDEpが活性化している場合はローカル読み出しデータLRDの駆動回路として動作する。
ここで、図7を参照して図6に示したリードアンプ回路23、ローカルRDラッチ回路24、RDドライバ25の詳細な構成の一例を説明する。
リードアンプ回路23において、一方のローカルデータ線DQcはPチャネル型のトランジスタ231の一端に接続され、他方のローカルデータ線DQtはPチャネル型のトランジスタ232の一端に接続される。トランジスタ231の他端は内部データ線Qcを介してNANDゲート233の一方の入力端に接続され、トランジスタ232の他端は内部データ線Qtを介してNANDゲート234の一方の入力端に接続される。トランジスタ231、232のゲートは互いに接続され、その接続点にはリードアンプ駆動信号QSEnが供給される。
内部データ線Qc、Qt間には2個のPチャネルのセンストランジスタ235、236が直列に接続されるとともに、このトランジスタ回路と並列に2個のNチャネルのセンストランジスタ237、238が直列に接続される。内部データ線Qc側に接続されたセンストランジスタ235、237のゲートは他方の内部データ線Qtに共通に接続され、センストランジスタ236、238のゲートは内部データ線Qcに共通に接続される。トランジスタ235、236の接続点には電源電圧Vが供給される。トランジスタ237、238の接続点はNチャネルのトランジスタ239を介して接地される。このトランジスタ239のゲートには前記リードアンプ駆動信号QSEnが供給される。
NAND回路233の出力端は他方のNAND回路234の他の入力端に接続され、NAND回路234の出力端は他のNAND回路233の他方の入力端に接続されてフリップフロップ構成のラッチ回路となる。このラッチ回路の出力はローカル読み出しデータLRDとして次段のLRDラッチ回路24に供給される。
LRDラッチ回路24はクロックドインバータ243、241bおよびインバータ241aを組み合わせて構成された第1のラッチ回路241、クロックドインバータ244、242bおよびインバータ242aを組み合わせて構成された第2のラッチ回路242を有する。第1のラッチ回路241のクロックドインバータ243、241bにはDQBRLTCp、DQBRLTCnがクロックとして図1に示すように供給されており、第1のラッチ回路241はDQBRLTCpがLレベルの期間でローカル読み出しデータLRDを受け付け、DQBRLTCpがHレベルの期間それを保持する。第2のラッチ回路242のクロックドインバータ244、242bにはDQBRLTCp、DQBRLTCnがクロックとして図7に示すように供給されており、第2のラッチ回路242はDQBRLTCpがHレベルの期間に第一のラッチ回路の出力を受け付け、DQBRLTCpがLレベルの期間それを保持する。結果としてLRDラッチ回路24はDQBRLTCpがLレベルの期間に取り込んだローカル読み出しデータLRDからのデータをDQBRLTCpの前縁の立ち上がり部に同期してRDドライバ25へ出力し、かつ次のDQBRLTCpの前縁の立ち上がりまでその出力データを保持する。
ラッチ回路242の出力データRDyは2段のインバータで構成されるバッファ回路245を介した制御信号RDEpとともにラッチ回路24の出力データとしてRDドライバ25の入力段を構成するNANDゲート251に供給される。NANDゲート251の出力端はNANDゲート252の一方の入力端に接続され、NANDゲート252の他方の入力端には前段のメモリサブマクロ12<i>からの読み出しデータRD<i>がグローバルデータ線RDL<i>を介して供給される。NANDゲート252の出力データはインバータ253を介して読み出しデータRD<i−1>として出力される。
以下、図8のタイミングチャートを参照して図6、図7の回路の動作を説明する。メモリブロック14<i−1>からのデータ読み出し時には、図8(a)に示すクロックCLKに同期し逆相の関係で図8(b)に示したリードアンプ駆動信号QSEnが発生される。このリードアンプ駆動信号QSEnがLレベルとなる期間にはPチャネルのトランジスタ231、232が導通してローカルデータ線DQc、DQt上に読み出された相補データがローカルデータ線Qc、Qtに供給され、このデータ線Qc,Qtからトランジスタ235〜238で構成されるアンプ回路に供給される。この時は接地電位に接続されたNチャネルのトランジスタ239は非導通となる。
信号QSEnがHレベルとなるタイミングで、トランジスタ239が導通し、例えば読み出し相補データによりローカルデータ線QcがHレベル、QtがLレベルとなると、トランジスタ235、238が導通、トランジスタ236,237が非導通となる。この結果、図8(c)に示すようにローカルデータ線Qc,Qt上の相補データがトランジスタ235,238によって増幅され、読み出しデータに復元されてNAND回路233,234で構成されたラッチ回路に図8(d)に示すようにローカルデータLRDとしてラッチされる。
この状態で、図8(e)に示す読み出しデータラッチ信号DQBRLTCがクロックCLKの前縁の立ち上がり部をトリガーとして活性化される。読み出しデータラッチ信号DQBRLTCは実際は相補クロックDQBRLTCp、DQBRLTCnとしてLRDラッチ回路24に供給されるもので、これによりローカル読み出しデータLRDはラッチ回路241,242を介して図8(g)に示すように、ドライバ25中のNANDゲート251の他方の入力端に供給される。このとき、DQBブロック13<i−1>が選択されているので、図8(f)に示すように制御信号RDEpが同時に活性化してHレベルに固定されるから、図8(g)の読み出しデータRDyはこのゲート251を通過してNANDゲート252へ供給される。このとき後述する理由でRD<i>はHレベルであるので、NANDゲート252に供給された読み出しデータはインバータ253を介して図8(h)の読み出しデータRD<iー1>として出力される。
一方、DQBブロック13<i−1>が非選択のときは、制御信号RDEpがLレベルに固定され、従ってNANDゲート251の出力がHレベルに固定される。この結果、前段のDQBブロック13<i>からの読み出しデータRD<i>がNANDゲート252、インバータ253を介して出力され、RDドライバ25はこのデータRD<i>に対してリピータとして動作することになる。なお、図5において、DQBブロック13<i>には前段のDQBブロックが存在しないため、DQBブロック13<i>のRDドライバ25において、NANDゲート252には前段のDQBブロックの出力データの替わりに電源電圧が供給される。このため、DQBブロック13<i>が非選択であるとRD<i>はHレベルとなり、DQBブロック13<i−1>が選択された際、選択されているDQBブロック13<i-1>のRDドライバ25において、NANDゲート252がNANDゲート251の出力を受け付けることが可能となる。
図1の参考例ではメモリマクロをサブマクロに分割しDQBブロックとメモリブロック間を接続するデータ線をローカルデータ線として分割することでその配線遅延を軽減したが、結果としてDQBブロック数が増加しその回路面積が増大している。また、図5の参考例では読み出しデータが伝送されるグローバルデータ線が各DQBブロックのところでリピータを介して接続される構成となっているから、多数のメモリサブマクロがI/Oブロックに接続されたメモリマクロを構成してもグローバルデータ線RDLのCR遅延による誤読み出しなどの不都合を解消できる。しかしながら、この参考例では図7に示したように各DQBブロック内に3段のラッチ回路を必要としており、その数は図1の参考例よりも多くDQBブロックの回路面積をさらに増大させている。大容量化に伴いDQBブロックを多数用いるメモリマクロの場合には、そのDQBブロックのエリアペナルティが大容量化の障害となる。従って、以下に説明する第1の実施形態ではこの点を改良し、高速、大容量化が可能なメモリマクロを実現した。
<第1の実施の形態>
図9に第1の実施形態のメモリマクロの全体の構成のブロック図を示す。図9において、I/Oブロック31には、後で説明する読み出しデータRDのラッチブロック37を介して、複数のメモリサブマクロ32<0>、32<1>、…32<i>が順次隣接する構成を有する。メモリサブマクロ32<0>は、データ制御部であるDQBブロック33<0>と、これに関連して設けられたメモリブロック34<0>とより構成される。他のメモリサブマクロ32<1>、…32<i>についても同様に、それぞれDQBブロック33<1>〜33<i>、メモリブロック34<1>〜34<i>により構成されている。DQBブロック33<0>〜33<i>は、外部からのDQBブロック選択信号DQBSEL<0>からDQBSEL<i>およびクロックCLKによって動作するDQB制御回路35<0>〜35<i>からの制御信号DQWLTCp、QSEn、RDEpによりその動作が制御される。I/Oブロック31もI/O制御回路36からのラッチ制御信号IOWLTCp、IORLTCp<1>によりそのデータラッチ動作が制御される。I/O制御回路36はさらにラッチ制御信号IORLTCp<0>をRDラッチブロック37に出力し、RDラッチブロック37はこのラッチ制御信号IORLTCp<0>により読み出しデータRDのラッチ動作が制御される。このラッチ動作については後で詳述する。
データ書き込み時には、外部から供給された書き込みデータWDであるDINはI/Oブロック31を介してグローバルデータ線WDLに送られ、さらにメモリサブマクロ32<0>〜32<i>のDQBブロック33<0>〜33<i>に選択的に供給されて対応するメモリブロック34<0>〜34<i>のいずれかに書き込まれる。
データ読み出し時には、メモリブロック34<0>〜34<i>のうちの選択されたメモリブロックから読み出された読み出しデータRDが、対応するDQBブロックを介して読み出し用のグローバルデータ線RDL上に送り出される。この読み出しデータRDは読み出しデータRDのラッチブロック37にラッチされた後、I/Oブロック31にラッチされ、外部に出力データDOUTとして出力される。
読み出しデータRDのラッチブロック37は例えば図10に示すように構成される。図10の回路において、RDのラッチブロック37はクロックドインバータ371、372およびインバータ373を組み合わせて構成されたラッチ回路374、および、クロックドインバータ376、377およびインバータ378を組み合わせて構成されたラッチ回路379を有する。ラッチ回路374のクロックドインバータ371、372にはIORLTCp<0>、およびインバータ375がIORLTCp<0>を反転して生成したラッチ信号IORLTCn<0>がクロックとして図10に示すように供給されている。ラッチ回路374はIORLTCp<0>がLレベルの期間グローバルデータ線RDL上に読み出されたデータRDを受け付け、IORLTCp<0>がHレベルの期間それを保持する。ラッチ回路379のクロックドインバータ376、377にはIORLTCp<0>、IORLTCn<0>がクロックとして図10に示すように供給されており、ラッチ回路379はIORLTCp<0>がHレベルの期間にのラッチ回路374の出力を受け付け、IORLTCp<0>がLレベルの期間それを保持する。結果としてデータRD用のラッチブロック37はIORLTCp<0>がLレベルの期間に受け付けたグローバルデータ線RDL上に読み出されたデータRDをIORLTCp<0>の前縁の立ち上がり部で2個のインバータが直列接続されたバッファ回路380を介してRDxとして出力し、かつ次のIORLTCp<0>の前縁の立ち上がりまでそのRDxを保持する。
又、例えばDQBブロック33<0>は図11に示すように構成される。図11において、書込み用のグローバルデータ線WDLには書込みデータWDのラッチ回路41が接続され、ここで書込みデータWDはラッチ制御信号DQWLTCpによりラッチされ、相補データDt,Dcに変換される。これらの相補データDt,DcはDQドライバ回路42を介してローカルデータ線DQt、DQcに供給され、選択されたメモリブロック34<0>に書き込まれる。他のDQBブロック33<1>〜33<i>も同様に構成される。
一方、例えば選択されたメモリブロック34<0>から読み出された相補データはローカルデータ線DQt、DQcを介してリードアンプ回路43に供給されて、制御信号QSEnによって増幅され、ローカル読み出しデータLRDとして、RDドライバ回路44を介してグローバルデータ線RDLに送出される。他のDQBブロック33<1>から33<i>についても同様に構成される。
次に、図12を参照して図11に示したリードアンプ回路43および読み出しデータRDのドライバ44の内部構成の一例を詳細に説明する。リードアンプ回路43において、一方のローカルデータ線DQcはPチャネル型のトランジスタ431の一端に接続され、他方のローカルデータ線DQtはPチャネル型のトランジスタ432の一端に接続される。トランジスタ431の他端は内部データ線Qcを介してNANDゲート433の一方の入力端に接続され、トランジスタ432の他端は内部データ線Qtを介してNANDゲート434の一方の入力端に接続される。トランジスタ431、432のゲートは互いに接続され、その接続点にはリードアンプ駆動信号QSEnが供給される。
内部データ線Qc、Qt間には2個のPチャネルのセンストランジスタ435、436が直列に接続されるとともに、このトランジスタ回路と並列に2個のNチャネルのセンストランジスタ437、438が直列に接続される。内部データ線Qc側に接続されたセンストランジスタ435、437のゲートは他方の内部データ線Qtに共通に接続され、センストランジスタ436、438のゲートは内部データ線Qcに共通に接続される。トランジスタ435、436の接続点には電源電圧Vが供給される。トランジスタ437、438の接続点はNチャネルのトランジスタ439を介して接地される。このトランジスタ439のゲートには前記リードアンプ駆動信号QSEnが供給される。このリードアンプ駆動信号QSEnは更に2個のインバータでなるバッファ回路440を介してRDドライバ44に供給される。
NAND回路433の出力端は他方のNAND回路434の他の入力端に接続され、NAND回路434の出力端は他のNAND回路433の他方の入力端に接続されてフリップフロップ構成のラッチ回路となる。このラッチ回路の出力はローカル読み出しデータLRDとして次段のRDドライバ44に供給される。
RDドライバ44は、リードアンプ回路43からのローカルリードデータLRDが供給されるNORゲート441と、バッファ回路440からの制御信号QSEnが供給されるインバータ442と、これらのデータLRD、信号QSEnが供給されるNANDゲート443と、NORゲート441およびNANDゲート443の出力が夫々供給されるインバータ444、445と、これらのインバータ444,445の出力がそのゲートに供給されるPチャネルトランジスタ446、Nチャネルトランジスタ447とより構成される。トランジスタ446,447の接続点からは読み出しデータRDが出力される。
以下、図13のタイミングチャートを参照して図9乃至図12の第1の実施態様のメモリマクロの動作を説明する。例えば、メモリブロック34<0>からのデータ読み出し時について説明する。図13(a)に示すクロックCLKに同期し逆相の関係で図13(b)に示したリードアンプ駆動信号QSEnが発生される。このリードアンプ駆動信号QSEnがLレベルとなる期間には図12のPチャネルのトランジスタ431、432が導通してローカルデータ線DQc、DQt上に読み出された相補データがローカルデータ線Qc、Qtに供給され、このデータ線Qc,Qtからトランジスタ435〜438で構成されるアンプ回路に供給される。この時は接地電位に接続されたNチャネルのトランジスタ439は非導通となる。
次に図13(a)に示すクロックCLKの後縁の立下り部のLレベルに対応して図13(b)に示す信号QSEnがHレベルとなるタイミングで、トランジスタ439が導通し、例えば読出し相補データによりローカルデータ線QcがHレベル、QtがLレベルとなると、トランジス435、438が導通、トランジスタ436,437が非導通となる。この結果、ローカルデータ線Qc,Qt上の相補データがトランジスタ435,438によって増幅され、読み出しデータに復元されてNAND回路433,434で構成されたラッチ回路に図13(c)に示すようにローカルデータLRDとしてラッチされる。
ラッチされたローカルデータLRDはNORゲート441、NANDゲート443の夫々一方の入力端に供給される。他方の入力端には、バッファ回路440からの制御信号QSEnがインバータ442を介し、および直接に供給される。従って、ローカルデータLRDのH,Lレベルに応じて図13(d)に示すようにインバータ444,445の出力レベルがHまたはLとなり、RDドライバ44の出力として読出しデータRDが得られる。このように、この読出しデータRDはクロックCLKの後縁の立下り部に同期したタイミングで出力されるデータである。
この状態で、次のクロックCLKの後縁の立下り部をトリガーとしてI/O制御回路36から図13(e)に示す制御信号IORLTCp<0>が図10の構成のRDラッチブロック37に供給されると、IORLTCp<0>の前縁の立上がり部に同期してクロックドインバータ371が閉じ、同時にクロックドインバータ376が開いて読出しデータRDxが出力される。このデータRDxは次のIORLTCp<0>の前縁の立上がり部すなわち、さらに次のCLKの後縁の立下り部まで保持される。
このラッチされたデータRDxはI/Oブロック31が有する図10と同様の構成のラッチ回路に供給される。このラッチ回路は図13(g)に示す制御信号IORLTCp<1>およびこれの相補信号IORLTCn<1>によって図10に示すラッチ回路と同様に制御される。制御信号IORLTCp<1>は図13(g)に示すようにクロックCLKの前縁の立ち上がり部をトリガーとする信号であり、したがって、I/Oブロック31の出力DOUTは図13(h)に示すようにデータRDxに対してさらにクロックCLKの半サイクル分シフトされたデータとなる。他のDQBブロックからのデータ読出しも同様に行われる。このように、図9に示すような構成のメモリマクロを高周波クロックにより高速動作させる場合、データの書き込み、読み出しのいずれの場合もDQBブロック33<0>〜33<i>の夫々とI/Oブロック31あるいは、データRDのラッチブロック37との間にクロックの1サイクル(乃至数サイクル分)の時間差が設けられる。これによりI/Oブロック31あるいはデータRDのラッチブロック37とDQBブロック33<0>〜33<i>との間のグローバルデータ線WDLあるいはRDLの配線長の差によるデータ転送時の遅延の差等の不都合を吸収することができる。但し、図1の参考例の場合にはデータの書き込み、読み出しのいずれの場合もクロックCLKの前縁の立ち上がり部から次のクロックCLKの前縁の立ち上がり部までの1サイクルに設定されているために、既に説明したようにDQBブロック内部に読み出し時にラッチ回路を2段必要とする。このためエリアペナルティが増大していた。これに対して上述した第1の実施形態でDQBブロックではクロックCLKの後縁の立下り部をトリガーとするラッチ回路を1段とし、I/Oブロック31の前段にRDラッチブロック37を設けてクロックCLKの後縁の立下り部をトリガーとするラッチ回路でラッチしてからI/Oブロック31に供給するようにした。このため、DQBブロックには図1の場合のように2段のラッチ回路を必要としなくなったので、大容量のメモリマクロを構成してもDQBブロックのエリアペナルティの増大が抑制できる。なお、図13(b)の制御信号QSEnの活性化から図13(h)のデータDOUTの出力までのクロックCLKのサイクル数は図3で説明した図1の例と同じであり、データ読み出し時間に差はない。
<第2の実施形態>
次に、図14に第2の実施形態のメモリマクロの全体の構成のブロック図を示す。図14において、図9の実施形態と同じ部分に関しては同一の参照符号を付してその説明を省略する。図9の実施形態と異なる部分はDQBブロック51<0>〜51<i>の構成と、このDQBブロック51<0>〜51<i>に接続される読み出し用のグローバルデータ線RDL<0>〜RDL<i>の構成である。図14の実施形態では、図5に示した参考例と同様に、選択されたDQBブロックは対応するメモリブロックから読み出されたデータRDを後続のDQBブロックに送出する一方で非選択のDQBブロックは、前置されたDQBブロックからの読み出しデータに対してリピータとして動作する。従って、読み出し用のグローバルデータ線は図9の実施形態のように全てのDQBブロックに対して共通に接続される代わりに、各DQBブロック間に個々に接続される複数のデータ線として構成される。
例えば、DQBブロック51<1>は図15に示すようにリードアンプ回路61とこれに接続されたRDドライバ62とを含む。書き込み動作に関するWDラッチ回路およびDQドライバ回路の接続関係は図11と同様である。図15において、リードアンプ回路61に接続された一方のローカルデータ線DQcはPチャネル型のトランジスタ611の一端に接続され、他方のローカルデータ線DQtはPチャネル型のトランジスタ612の一端に接続される。トランジスタ611の他端は内部データ線Qcを介してNANDゲート613の一方の入力端に接続され、トランジスタ612の他端は内部データ線Qtを介してNANDゲート614の一方の入力端に接続される。トランジスタ611、612のゲートは互いに接続され、その接続点にはリードアンプ駆動信号QSEnが供給される。
内部データ線Qc、Qt間には2個のPチャネルのセンストランジスタ615、616が直列に接続されるとともに、このトランジスタ回路と並列に2個のNチャネルのセンストランジスタ617、618が直列に接続される。内部データ線Qc側に接続されたセンストランジスタ615、617のゲートは他方の内部データ線Qtに共通に接続され、センストランジスタ616、618のゲートは内部データ線Qcに共通に接続される。トランジスタ615、616の接続点には電源電圧Vが供給される。トランジスタ617、618の接続点はNチャネルのトランジスタ619を介して接地される。このトランジスタ619のゲートには前記リードアンプ駆動信号QSEnが供給される。
NAND回路613の出力端は他方のNAND回路614の他の入力端に接続され、NAND回路614の出力端は他のNAND回路613の他方の入力端に接続されてフリップフロップ構成のラッチ回路となる。このラッチ回路の出力はローカル読み出しデータLRDとして、制御信号RDEpとともに、次段のRDドライバ62の入力段を構成するNANDゲート621に供給される。NANDゲート621の出力端はNANDゲート622の一方の入力端に接続され、他方の入力端には図14に示すように、前段のメモリサブマクロからの読み出しデータRD<2>がグローバルデータ線RDL<2>を介して供給される。NANDゲート622の出力データはインバータ623を介して読み出しデータRD<1>として出力される。
この第2の実施形態も、第1の実施形態と同様に、メモリブロックからの読み出しデータRDを読み出し用のグローバルデータ線RDL<0>〜RDL<i>に出力する際にクロックCLKの後縁の立下り部をトリガーとしてラッチ回路にラッチするようにしたために、DQBブロック内におけるラッチ回路の数を減らすことができ、高速、大容量のメモリマクロの実現を可能にする。以下、図16を参照して図14、図15の実施形態の動作を説明する。
図14、図15に示したDQBブロック51<1>において、図16(a)に示すクロックCLKに同期し逆相の関係で図16(b)に示したリードアンプ駆動信号QSEnが発生される。このリードアンプ駆動信号QSEnがLレベルとなる期間には図15のPチャネルのトランジスタ611、612が導通してローカルデータ線DQc、DQt上に読み出された相補データが内部データ線Qc、Qtに供給され、この内部データ線Qc,Qtからトランジスタ615〜618で構成されるアンプ回路に供給される。この時は接地電位に接続されたNチャネルのトランジスタ619は非導通となる。
次に図16(a)に示すクロックCLKの後縁の立下り部のLレベルに対応して図16(b)に示す信号QSEnがHレベルとなるタイミングでトランジスタ619が導通し、例えば読み出し相補データにより内部データ線QcがHレベル、QtがLレベルとなると、トランジス615、618が導通、トランジスタ616,617が非導通となる。この結果、内部データ線Qc,Qt上の相補データがトランジスタ615,618によって増幅され、読み出しデータに復元されてNAND回路613,614で構成されたラッチ回路に図16(d)に示すようにローカルデータLRDとしてラッチされる。
ラッチされたローカルデータLRDは、RDドライバ62内のNANDゲート621の一方の入力端に供給される。他方の入力端には図16(c)に示すHレベルの制御信号RDEpが供給される。従って、ローカルデータLRDのH,Lレベルに応じてNANDゲート621の出力レベルがHまたはLとなり、図16(e)に示すようにRDドライバ62の出力RD<1>が得られる。このように、この読み出し出力RD<1>はクロックCLKの後縁の立下り部に同期したタイミングのデータである。この場合、DQBブロック51<1>が選択されているので前段からの読み出しデータRD<2>はHレベルに固定され、従って、NANDゲート622、インバータ623を介してNANDゲート621の出力データがDQBブロック51<1>の読み出しデータRD<1>として出力される。
この状態で、次のクロックCLKの後縁の立下り部をトリガーとして、図14のI/O制御回路36から図16(f)に示す制御信号IORLTCp<0>が図10の構成のRDラッチブロック37に供給されると、この制御信号IORLTCp<0>の前縁の立上がり部に同期してクロックドインバータ371が閉じ、同時にクロックドインバータ376が開いて読み出しデータRDxが出力される。データRDxは次の制御信号IORLTCp<0>の前縁の立上がり部即ち、更に次のクロックCLKの後縁の立下がり部まで保持される。
次にデータRDxはI/Oブロック31に含まれる図10と同様のラッチ回路に供給される。このラッチ回路は図16(h)に示す制御信号IORLTCp<1>およびこれの相補信号IORLTCn<1>によって、図10に示すラッチ回路と同様に制御される。この制御信号IORLTCp<1>は図16(h)に示すようにクロックCLKの前縁の立ち上がり部をトリガーとする信号であり、したがって、I/Oブロック31の出力DOUTは図16(i)に示すようにデータRDxに対してさらにクロックCLKの半サイクル分シフトされたデータとなる。他のDQBブロックからのデータ読み出しも同様に行われる。
このように、この第2の実施形態では、DQBブロック51<0>〜51<i>の内部に設けられるRDドライバがリピータとして動作し、かつその内部のラッチ回路の段数が図5に示す参考例に比べ少なくなっているので、メモリマクロの大容量化に伴うDQBブロック回路面積の増大が抑制できる。
この発明の前提となる参考例の全体構成を示すブロック図。 図1のメモリマクロのデータ書き込み動作を説明するためのタイミングチャート。 図1のメモリマクロのデータ読み出し動作を説明する為のタイミングチャート。 図1のDQBブロックの内部構成の一例を示すブロック図。 この発明の前提となる他の参考例の全体構成を示すブロック図。 図5に示したDQBブロックの内部構成を示すブロック図。 図6にブロックで示した回路の具体構成例を示すブロック図。 上記の参考例のメモリマクロの動作を示すタイミングチャート。 この発明の第1の実施形態の全体構成を示すブロック図。 図9に示したRDラッチブロックの具体構成例を示すブロック図。 図9に示したDQBブロックの具体構成例を示すブロック図。 図11に示したブロックの内部具体構成例を示すブロック図。 第1の実施形態のメモリマクロの動作を説明するタイミングチャート。 この発明の第2の実施形態の全体構成を示すブロック図。 図14に示したDQBブロックの具体構成例を示すブロック図。 第2の実施形態のメモリマクロの動作を説明するタイミングチャート。 従来の大容量メモリマクロの構成を示すブロック図。
符号の説明
11、31…I/Oブロック、12<0>〜12<i>、32<0>〜32<i>…メモリサブマクロ、13<0>〜13<i>、33<0>〜33<i>、51<0>〜51<i>…DQBブロック、14<0>〜14<i>、34<0>〜34<i>…メモリブロック、21…WDラッチ回路、22…DQドライバ回路、23、43…リードアンプ回路、24、44…RDラッチ回路、25…RDドライバ、35<0>〜35<i>…DQB制御回路、36…I/O制御回路。

Claims (5)

  1. 外部回路との間でデータの授受を行うインターフェース部と、
    書き込みデータ線と、読み出しデータ線と、前記インターフェース部に前記書き込みデータ線を介して接続されたデータ制御部と、このデータ制御部に接続されたメモリブロックとを有するデータ記憶部と、
    前記読み出しデータ線と前記インターフェース部との間に接続された読み出しラッチブロックとを具備し、
    前記データ制御部は前記メモリブロックから読み出されたデータをクロックの後縁をトリガーとして前記読み出しデータ線に出力し、前記読み出しラッチブロックは前記クロックの後縁から少なくとも1サイクル後の他のクロックの後縁をトリガーとして前記データをラッチし、前記インターフェース部は前記他のクロック後の更に他のクロックの前縁をトリガーとして前記外部回路へデータを出力することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 前記インターフェース部は前記外部回路からの書き込みデータをクロックの前縁をトリガーとして前記書き込みデータ線に供給し、前記データ制御部は前記書き込みデータ線上の書き込みデータを前記クロックの前縁から少なくとも1サイクル後の他のクロックの前
    縁をトリガーとして取り込むことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 前記データ制御部は前記メモリブロックから読み出されたデータを増幅するリードアンプ回路と、このリードアンプ回路の出力データを前記読み出しデータ線に供給するリードドライバとを含み、前記リードアンプ回路は前記クロックの後縁をトリガーとして読み出しデータを1サイクル期間保持する1段のラッチ回路を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
  4. 前記リードアンプは、前記メモリブロックから読み出された相補データをクロックの後縁の立下り部に応じて第1、第2の内部データ線に取り込む第1、第2のスイッチと、前記第1、第2の内部データ線上の相補データを復元して増幅する増幅回路と、この増幅回路の出力をラッチする第1のラッチ回路とを有することを特徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。
  5. 前記データ記憶部は、夫々メモリブロックと付属のデータ制御部とを有する複数のメモリサブマクロが前記書き込みデータ線を介して前記インターフェース部に接続された構成を有し、更に前記メモリサブマクロにはそれぞれメモリサブマクロ選択信号が供給される読み出し/書き込み制御回路が対応して設けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
JP2005026712A 2005-02-02 2005-02-02 半導体記憶装置 Expired - Fee Related JP4834311B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005026712A JP4834311B2 (ja) 2005-02-02 2005-02-02 半導体記憶装置
US11/344,206 US7248538B2 (en) 2005-02-02 2006-02-01 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005026712A JP4834311B2 (ja) 2005-02-02 2005-02-02 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006216137A true JP2006216137A (ja) 2006-08-17
JP4834311B2 JP4834311B2 (ja) 2011-12-14

Family

ID=36756386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005026712A Expired - Fee Related JP4834311B2 (ja) 2005-02-02 2005-02-02 半導体記憶装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7248538B2 (ja)
JP (1) JP4834311B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006216136A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2011519109A (ja) * 2008-04-24 2011-06-30 クゥアルコム・インコーポレイテッド 電気的メモリ動作におけるダイナミック電力セービングのためのシステム及び方法
JP2014149889A (ja) * 2013-01-31 2014-08-21 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100472726B1 (ko) * 2002-10-29 2005-03-10 주식회사 하이닉스반도체 고속 데이터억세스를 위한 반도체 메모리장치 및 그구동방법
JP2007311007A (ja) * 2006-05-22 2007-11-29 Toshiba Corp 半導体記憶装置
KR20100091640A (ko) * 2009-02-11 2010-08-19 삼성전자주식회사 메모리 장치, 이를 포함하는 메모리 시스템, 및 이들의 데이터 처리 방법

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000048566A (ja) * 1998-07-29 2000-02-18 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置
JP2000200488A (ja) * 1999-01-06 2000-07-18 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2006216136A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6160275A (en) * 1993-04-20 2000-12-12 Hitachi, Ltd. Semiconductor gate array device
JP2005092923A (ja) * 2003-09-12 2005-04-07 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000048566A (ja) * 1998-07-29 2000-02-18 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置
JP2000200488A (ja) * 1999-01-06 2000-07-18 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2006216136A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006216136A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2011519109A (ja) * 2008-04-24 2011-06-30 クゥアルコム・インコーポレイテッド 電気的メモリ動作におけるダイナミック電力セービングのためのシステム及び方法
JP2014149889A (ja) * 2013-01-31 2014-08-21 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7248538B2 (en) 2007-07-24
US20060171238A1 (en) 2006-08-03
JP4834311B2 (ja) 2011-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7061823B2 (en) Limited output address register technique providing selectively variable write latency in DDR2 (double data rate two) integrated circuit memory devices
US7327613B2 (en) Input circuit for a memory device
US6965539B2 (en) Write path scheme in synchronous DRAM
JP4834311B2 (ja) 半導体記憶装置
US7352650B2 (en) External clock synchronization semiconductor memory device and method for controlling same
JP2001167580A (ja) 半導体記憶装置
KR100578233B1 (ko) 동기식메모리장치의 데이터 입출력 가변제어장치
TWI276111B (en) Method and circuit for controlling operation mode of PSRAM
TWI285312B (en) Data latch circuit and semiconductor device using the same
US7548485B2 (en) Semiconductor memory device capable of synchronous/asynchronous operation and data input/output method thereof
US8000156B2 (en) Memory device with propagation circuitry in each sub-array and method thereof
KR100518604B1 (ko) 데이터의 독출 간격에 따라 반전 처리 동작을 수행하는반도체 장치의 데이터 반전회로 및 데이터 반전방법
JP2006216099A (ja) 半導体記憶装置
KR100492907B1 (ko) 글로벌 입출력 스킴을 변경한 메모리 소자
JP4952194B2 (ja) 半導体記憶装置
CN109671460B (zh) 用于读写操作的缓存电路和存储器
US7095673B2 (en) Semiconductor memory device capable of operating at high speed
CN103198854A (zh) FPGA中具有多种写入模式的Block RAM
JP2001243770A (ja) 同期型半導体記憶装置及びそのデータ読み出し方法
US6744690B1 (en) Asynchronous input data path technique for increasing speed and reducing latency in integrated circuit devices incorporating dynamic random access memory (DRAM) arrays and embedded DRAM
US8488383B2 (en) Nonvolatile memory apparatus
US7821845B2 (en) Write driver circuit of an unmuxed bit line scheme
JP4827688B2 (ja) 半導体記憶装置
US7535774B2 (en) Circuit for generating an internal enabling signal for an output buffer of a memory
US6118716A (en) Method and apparatus for an address triggered RAM circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071211

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101012

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110830

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110926

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees