JP2006210761A - はんだ接合方法及び装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】フラックスを使用せずにはんだ濡れ性を確保して確実に融着するする。
【解決手段】ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形工程と、変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態でエネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融工程とを備える。はんだボール変形工程は、接合部の接合面と密着する直交した少なくとも2つの接触面を形成するようにはんだボールを機械的に変形させる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、微細なはんだボールを使用してワークを接合するはんだ接合方法及び装置に関し、特に、フラックスを使用することなく低融点のはんだボールを使用してワークをはんだ接合するはんだ接合方法及び装置に関する。
従来、ハードディスクの構成部品であるヘッド・ジンバル・アッセンブリィ(Head Gimbals Assembly)にあっては、ポイスコイルモータで駆動されるアームの先端に装着されるサスペンションにヘッドを実装したスライダを装着しており、サスペンションとスライダの電気的な接合固定には、白金同士を用いたAu−Auの超音波接合法が用いられている。
Au超音波接合法は、キャピラリと呼ばれるヘッドをAuの接合部へ直接押し当てて機械的な超音波振動を印加して接合している。しかしながら、Au超音波接合法は、機械的な超音波振動を印加して接合しているため、接合に残留応力が残って経年変化により剥離する可能性があり、また材料及び設備コストが高い等の問題がある。
一方、サスペンションとスライダの電気的な接合固定に、はんだ接合を用いる方法も知られている。しかし、一般的にはんだ付け接続は、はんだ濡れ性を確保する目的でフラックスを使用する必要がある。このため、はんだ接合方法を使用した場合には、はんだ接合後に残留するフラックス残渣を除去(洗浄)する工程を追加しなくてはならない。洗浄が完全でないと、フラックス残渣に起因したヘッドクラッシュ等の障害に至る可能性があり、十分なマージンのある洗浄プロセスの構築が必要である。
このようなフラックスを使用したはんだ結合方法の問題を解消するため、フラックスを使用せずにはんだ結合するフラックスレスはんだ結合方法が提案されている。
例えば特許文献1のはんだ結合方法にあっては、サンペンションの導電リードの終端パッドと、スライダのコンタクト・パッドの各々に、フラックスを使用したはんだ付けによりハンダ・バンプを組立前の前工程で形成しておく。組立工程におけるはんだ接合は、サンペンションの終端パッドに付けたハンダ・バンプに、スライダのコンタクトパッドに付けたハンダ・バンプを接触又は近接配置した状態で、窒素ガスを流しながらレーザ・ビームにより加熱し、融着させている。
また特許文献2のはんだ結合方法にあっては、サスペンションのパッドに相対配置されたスライダのパッドの部分に毛細管により微細なはんだボールをを供給して窒素ガスの流出により軽く保持し、この状態で毛細管の中を通して開口部からレーザビームをはんだボールに照射してリフローしている。
特開平7−320434号公報 特開平10−079105号公報 特開2002−203872号公報
しかしながら、このような従来のフラックスレスのはんだ接合方法にあっては、次の問題がある。
特許文献1のはんだ接合方法は、サスペンションの終端パッドおよびスライダのコンタクト・パッドの各々に予めハンダ・バンプを形成する前工程を必要とし、前工程の設備コストが高く、またハンダ・バンプの正確なサイズや形状のコントロールも必要とすることから、前工程の作業が煩雑であるといった種々の問題がある。
またハンダ・パンプの加熱融着には約400mJといった熱エネルギーを必要とするため、パワーの大きなYAGレーザを使用しており、レーザも大型化して設備コストが高くなる問題がある。
一方、特許文献2のはんだ結合方法は、はんだボールの表面が酸化膜で覆われており、フラックスを使用していないため、レーザビームを照射してリフローした際のはんだ濡れ性が悪く、冷却後に残留応力によってパッドからはんだが剥離する可能性あり、信頼性に欠けるという問題がある。またハンダのリフローにパワーの大きなNd:YAGレーザを使用しており、レーザも大型化して設備コストが高くなる問題がある。
本発明は、フラックスを使用せずにはんだ濡れ性を確保して確実に融着するはんだ接合方法及び装置を提供することを目的とする。
この目的を達成するため本発明は次のように構成する。本発明は、フラックスを使用しないフラックスレスのはんだ接合方法を提供する。本発明のはんだ接合方法は、
ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形工程と、
変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態でエネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融工程と、
を備えたことを特徴とする。
ここで、はんだボール変形工程は、接合部の接合面の面着する接触面を形成するようにはんだボールを機械的に変形させる。
はんだボール変形工程は、接合部の接合面と密着する直交した少なくとも2つの接触面を形成するようにはんだボールを機械的に変形させる。
はんだボール変形工程は、
はんだボールを両側から挟み込み変形させてタイヤ状に加工する第1変形工程と、
前記第1変形工程の加工方向に直交する方向に変形して前記接合部の接合面の面着する直交した2つの接触面を形成する第2変形工程と、
を備える。
本発明のはんだ接合方法は、はんだボール変形工程の前工程として、搬入されたワークの接合部にタッキング剤を塗布する塗布工程を設ける。タッキング剤は、はんだボールを仮固定すると共にはんだボールの融点付近に沸点をもつ液剤である。例えばタッキング剤は、アルコール又は水を含む。アルコールは、グリセリン又は1-ブタノールを含む多価アルコールが好適である。
はんだ溶融工程は、接合部の雰囲気に窒素等の不活性ガスを充填する。はんだ溶融工程は、接合部の雰囲気に充填する不活性ガスに水素ガス又は塩素ガス等を含む還元ガスを混入する。
はんだ溶融工程は、はんだボールを溶融させるレーザ光照射の直前に、ワークの接合部近傍に光エネルギー又は熱エネルギーを照射してワーク自体を予熱する。
はんだ溶融工程は、半導体レーザからのレーザ光によりはんだボールを溶融させる直前に、ワークの裏面側に半導体レーザからのレーザ光を照射してワークを予熱する。
はんだボールは、低融点はんだである。低融点はんだは、Sn-57Bi、Sn-56Bi-1Ag又はSn-52In等を含む低融点鉛フリーはんだである。
本発明のはんだ接合方法において、ワークは、例えばスライダを搭載したサンペンションであり、サスペンションに形成されたパッドとスライダに形成されたパッドを電気的に接合する。
本発明は、フラックスを使用しないフラックスレスのはんだ接合装置を提供する。本発明のはんだ接合装置は、はんだボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形ユニットと、変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態で光エネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融ユニットとを備えたことを特徴する。
なお、はんだ接合装置の詳細は、本発明のはんだ接合方法の場合と基本的に同じとなる。即ち、はんだ接合方法の各工程がユニットとして設けられることになる。
本発明によれば、例えばハードディスクドライブのヘッド・ジンバル・アッセンブリィにおけるサスペンションとスライダの各パッド等の微細接合を、フラックスを使用する代わりに、接合直前にはんだボールに外力を与え機械的に変形させることで表面の酸化膜を破り、光エネルギーの照射にて接合部を急速加熱し、フラックスを必要とすることなく良好なはんだ濡れ性を確保した状態ではんだ接合することができる。
またはんだボールが直交配置されているパッドのそれぞれに面着する接触面をもつように機械的に変形され、同時に低融点はんだを使用していることで、低パワーの光エネルギーの照射で発生した熱を、はんだボール及びパッドに効率良く伝えて融着でき、はんだ融着に必要とする光エネルギーを低くでき、このため半導体レーザが使用可能となり、設備コストを大幅に低減できる。
図1は本発明によるはんだ接合方法の処理工程の説明図である。図1において本発明のはんだ接合方法は、工程順に、ワークローディング工程S1、アルコール塗布工程S2、はんだボール供給工程S3、はんだボール変形工程S4、はんだボール搭載工程S5、はんだボール溶融工程S6及びワークアンローディング工程S7で構成される。
これらの工程に対応するユニットとして、ローディングユニット14、アルコール塗布ユニット16、はんだボール供給ユニット18、はんだボール変形ユニット20、はんだボール搭載ユニット22、はんだボール溶融ユニット24及びアンローディングユニット26が設けられ、これらのユニットの組合せにより本発明のはんだ接合装置が構成されている。
ワークローディング工程S1は、ローディングユニット14によりローラ搬送などを利用してワークをはんだ接合装置内に投入する。はんだ接合の対象となるワークとしては、本発明にあっては、後の説明で明らかにするように、ハードディスクドライブのヘッド・ジンバル・アッセンブリィにおけるサスペンションの先端にスライダを搭載して、はんだ接合する場合を例にとっている。
アルコール塗布工程S2は、ディスペンスシステムなどを用いたアルコール塗布ユニット16を使用してワークのはんだ接合を行う部分に対しアルコールを微量塗布する。このときのアルコールの塗布位置は、カメラ認識処理により接合部の位置を検出して位置補正しながら、正確に接合部にアルコールを微量塗布する。
アルコールの塗布は、ワークのはんだ接合部となるAuパッド上に、はんだボールを仮固定するために行う。このはんだボールの仮固定に使用するアルコールの微量塗布は、塗布したアルコールのタッキング力を利用してはんだボールをパッド上に仮固定する。
また、はんだ溶融の際に揮発除去させるため、はんだボールの仮固定に使用するアルコールとしては、その沸点がはんだ接合に使用するはんだの融点付近のものが好適である。
本発明にあっては、後の説明で明らかにするように、はんだボールは低融点はんだを使用しており、その融点は110乃至150℃程度の範囲にあることから、はんだボールの仮固定に使用するアルコールとしては多価アルコールであるグリセリンまたは1−ブタノ−ルなどが適している。
また、はんだボールを仮固定するための液剤としては、アルコールの代わりに水を用いることもできる。水は沸点が100℃であることから、はんだ溶融の際に確実に蒸発揮発で除去することができる。
一方、ワーク10の処理と並行して、はんだ12の処理が行われる。はんだ12の処理は、ステップS3ではんだボール供給ユニット18によりはんだボールを1つずつ切り出し、切り出したはんだボールを吸着ノズルを利用して次のはんだボール変形ユニット20におけるはんだボール変形工程S4に搬送する。
ここで本発明のはんだ接合に使用するはんだボールとしては、低融点はんだを使用する。例えば融点139℃を持つSn−57Bi,Sn−56Bi−1Agや、融点117℃のSn−52Inなどの低融点鉛フリーはんだを用いる。このような低融点はんだを使用することにより、はんだ接合時の加熱によるワークへの影響と、はんだが冷却固着したときの変形応力を抑えることができる。
即ち、はんだ接合におけるはんだ固着時の変形応力は、一般的に融点と冷却後の常温の温度差ΔTが大きいほど、はんだ収縮量が大きくなることで、変形応力が大きくなる関係にある。したがって融点の低い低融点はんだを使用することで、融点と常温との温度差ΔTを小さくし、はんだ固着時の変形応力を抑え、併せてワークへの影響を抑えることができる。また低融点はんだを使用することで、はんだ溶融の光エネルギーを低減でき、半導体レーザの使用を可能とする。
はんだボール変形ユニット20によるはんだボール変形工程S4は、はんだボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破り、非酸化膜を外部に露出させる。このように機械的な変形によりはんだボール表面の酸化膜を破ることで、はんだ接合時のはんだ濡れ性を、フラックスを使用することなく確保できる。
本発明のはんだボールの変形については、後の説明で明らかにするように、金型ブロックで2段階に挟み込みを行うことで、ワーク上に直交関係に配置されているパッドに対し、変形したはんだボールが面着するような接触面を加工形成しており、変形はんだボールと接合部のパッドとの接触面積を十分に確保し、変形により表面が破れた酸化膜のない部分もしくは酸化膜の薄い部分と、接合対象となるパッドとの接触を行い易くし、フラックスを使用しなくとも、はんだ濡れ性を十分に確保したはんだ接合を可能としている。
また変形はんだボールがパッド側に十分な接触面積を持って接触していることで、後の説明で明らかにするように、レーザ光を照射して加熱した際に、変形はんだボールの加熱と同時にパッド側に熱が効率よく伝達して加熱でき、変形はんだボール及びはんだ接合先となるパッドの加熱が効率よく行われることで、より高いはんだ濡れ性を確保することができる。
はんだ付け接合は、はんだされる金属例えばAuがお互いに異物のないピュアな状態で接触することで、金属の拡散と金属化合物の生成により結合する現象であり、この場合の異物は主にはんだ表面の酸化膜であり、パッドを形成するAuは酸化しないことから、はんだ側の酸化膜をはんだボールの機械的な変形により破ることで、はんだ濡れ性を確保したはんだ付けが可能となる。
続いて、はんだボール搭載ユニット22により、はんだボール搭載工程S5が行われる。このはんだボール搭載工程S5は、はんだボール変形工程S4で変形されたはんだボールを吸着ノズルなどを利用してハンドリングし、カメラ認識により位置決めしてワーク上の接合部に搭載する。
続いて、はんだボール溶融ユニット24により、はんだボール溶融工程S6が行わせる。このはんだボール溶融工程S6は、レーザ光の照射によりはんだを溶融させ、はんだ付けを完了する。
はんだボール溶融ユニット24は、ワークの周囲を箱状に囲い、不活性ガスとして窒素ガスNを充填して酸素濃度を低下させ、レーザ加熱時におけるはんだ表面の酸化膜形成を抑えてはんだ接合を行う。窒素などの不活性ガスの充填と同時に不活性ガスに水素や塩素を含むハロゲンガスなどの還元ガスを混入することで、フラックスを使用したと同様に、加熱時における酸化膜を化学的に還元し、はんだ濡れ性を更に向上させるようにしてもよい。
本発明のはんだボール溶融工程S6で使用するレーザユニットとしては、半導体レーザを使用することができる。半導体レーザは従来のYAGレーザに比べて低パワーであるが、本発明にあっては、はんだ直前にワークを予熱(予備加熱)することで、半導体レーザの使用を可能とする。この実施形態では例えばはんだ接合直前に半導体レーザからのレーザ光をワークの裏面側に照射して予熱する。
最後に、アンローディングユニット26を使用したワークアンローディング工程S7により、ワークをはんだ接合装置から取り出して処理を終了する。
図2は本発明によるはんだ接合装置の実施形態の説明図である。図2において、はんだ接合装置11は、ワークの搬入側から順番に、ローディングユニット14、アルコール塗布ユニット16、はんだボール搭載ユニット22、はんだボール溶融ユニット24及びアンローディングユニット26を配置し、一方、はんだボール搭載ユニット22に対し、はんだボール供給ユニット18とはんだボール変形ユニット20を配置している。
ローディングユニット14はローラ搬送などを利用してワーク10をはんだ接合装置11に投入している。ワーク10上には、はんだ接合の対象となる例えば後の説明で明らかにするスライダを搭載したサスペンションが、例えば5個ずつ搭載されている。
アルコール塗布ユニット16は、ローディングユニット14により投入されたワーク10上のサスペンションにおけるAuパッドを配置した接合部に対し、ディスペンス17によりアルコールを微量塗布する。この場合の塗布位置はカメラ認識により位置決め補正されている。
一方、はんだボール供給ユニット18は例えば0.1〜0.2ミリメートル程度の直径をもつはんだボールを1つずつ取り出し、はんだボール変形ユニット20に搬送する。
はんだボール変形ユニット20は、金型を使用した2段階の機械的な変形により、はんだボールを変形加工する。変形加工されたはんだボールは、はんだボール搭載ユニット22により吸着ノズルを利用してハンドリングされ、アルコール塗布ユニット16で微量のアルコールが塗布された接合部のパッドの部分に搭載され、塗布したアルコールのタッキング力により仮固定される。この変形はんだボールの搭載についても、カメラ認識により、はんだ接合部に位置決めして正確に搭載する。
はんだボール溶融ユニット24は、半導体レーザを用いたレーザユニット28からレーザ光を、変形はんだボールが仮固定された接合部に照射して加熱溶融させ、はんだ付けを完了する。はんだの加熱溶融の直前には、レーザユニット28からのレーザ光をワークの裏面側に照射して予熱する。
はんだボール溶融ユニット24におけるワークはケース25内に配置されており、ケース25内に窒素ガスNを充填して酸素濃度を低下させた状態で、はんだを溶融させている。はんだボール溶融ユニット24ではんだの溶着固定が済んだワークは、アンローディングユニット26により外部に取り出され、一連のはんだ接合処理を終了する。
図3は図2のはんだ接合装置11による処理工程を平面的に示している。図3において、ローディングユニット14によりワーク10が装置に投入され、アルコール吹付ユニット32でアルコールを微量、接合部に塗布した後、はんだ搭載ユニット22に送られ、はんだボール供給ユニット18から1つずつ取り出されたはんだボール34を、はんだボール変形ユニット20による2段階の変形加工により変形はんだボール36を作成し、これを吸着ノズル38によりワーク上の接合部に位置決め搭載し、塗布されたアルコールのタッキング力で仮固定する。
続いて、はんだボール溶融ユニット24に送られ、まずワークを余熱した後にレーザユニット28からのレーザ光の照射ではんだを溶融させて、はんだ付けを完了し、最後にアンローディングユニット26で外部に取り出す。
図4は本発明のはんだボール変形工程における第1変形工程の説明図である。図4(A)は平面図、図4(B)はその横方向から見た断面図である。図4の第1変形加工にあっては、固定金型40に矩形に刳り抜いたボール収納部44を形成し、ここにはんだボール34を配置し、側方から押圧金型42を矢印47で示すように駆動し、図5のように、はんだボール34を両側から押さえて機械的にタイヤ状に変形させる。ここで、ボール収納部44は幅Wであり、はんだボール34の直径Dに対し幅Wを小さくしており、(D−W)分だけ横方向に、はんだボール34を潰す変形加工を行う。
図5は図4に続く第2変形工程の説明図である。図5にあっては、第1変形工程によりはんだボール34を固定金型40に対する押圧金型42の押付けで両側に変形面54−1,54−2を形成した状態で、ボール収納部44の右側の開口側より先端にテーパ押圧面50を形成した別の押圧金型48を矢印52の横方向から押し込んで、変形面54−1,54−2の加工方向に直交する方向から機械的な変形を加える。
図6は第2変形工程によるはんだボールの変形加工が完了した加工状態の説明図であり、押圧金型48の押込みにより、変形はんだボール36は、はんだ収納部44のコーナー部に押し付けられ、下側と側方に直交する接触面56−1,56−2を形成し、同時にテーパ押圧面50により斜め上方の球状部分を押し潰して、テーパ変形面56−3を形成している。
図7は図4乃至図6の変形工程により加工された本発明で使用する変形はんだボール36の説明図である。このような2段の変形加工により得られた変形はんだボール36にあっては、2段階の変形加工によりはんだボール表面の酸化膜が破れ、酸化膜が破れない部分については変形による表面の伸びで酸化膜が薄くなっており、特に金型の押圧で球面状態から平面状態に変形された接触面56−1,56−2については、十分に表面の酸化膜が破れて露出し、またそうでない部分については酸化膜が十分に薄くなっている。
この点はテーパ変形面56−3や1回目の変形加工で形成された変形面54−1,54−2についても同様であり、この結果、フラックスを使用することなく、レーザ光の照射で変形はんだボール36が溶融すると、はんだ接合の対象となるAuパッドとの接触面における異物としての酸化膜が最小限に抑えられ、はんだ濡れ性を確保して確実にはんだ接合できる。
図8は本発明におけるアルコール塗布工程、はんだボール搭載工程、はんだボール溶融工程を、ハードディスクドライブに使用するヘッド・ジンバル・アッセンブリィのサスペンションに搭載したスライダのはんだ接合を例にとって説明している。
図8(A)はアルコール塗布工程であり、ヘッド・ジンバル・アッセンブリィにおけるサスペンション58は表面に絶縁層を介してはんだリード60を形成しており、このはんだリード60の先端にAuを用いたパッド62を形成している。
サスペンション58の先端側にはライトヘッドとリードヘッドの複合ヘッド素子を搭載したスライダ64が固定層65により固着されており、スライダ64の導体リード60側の端面には複合ヘッドと電気的に接続するためのAuを使用したパッド66が形成されている。
このようなサスペンション58に搭載したスライダ64に対し、アルコール塗布工程にあっては、ディスペンス17によりアルコール68をパッド62,66に微量塗布して付着させている。
図8(B)は、はんだボール搭載工程であり、はんだボール変形工程で得られた図7に示した変形はんだボール36を、サスペンション58のパッド62とスライダ64のパッド66の部分に位置決め搭載し、このときパッド62,66にはアルコール塗布が行われていることから、アルコールのタッキング力により変形はんだボール36は仮固定される。
また変形はんだボール36は、直交する接触面56−1,56−2が、同じく直交配置されているサスペンション58のパッド62とスライダ64のパッド66に面接触するように配置される。
図8(C)ははんだボール溶融工程であり、パッド62,66に対し仮固定された変形はんだボール36に対し、レーザユニット28からレーザ光70を照射して加熱することで、変形はんだボール36を溶融させる。
レーザ光70の照射による加熱温度は、変形はんだボール36のはんだとして低融点はんだを使用していることから、その融点より若干高い温度に加熱することで、はんだを溶融して融着することができる。
例えば低融点はんだとしてSn−52Inを使用した場合、その融点は117℃であることから、この融点を超える温度となるようにレーザ光70のパワーを設定して照射すればよい。レーザ光70の照射による加熱温度はレーザ光のパワーと照射時間で決まる。
またパッド62,66に対し変形はんだボール36が直交する接触面56−1,56−2の形成により十分な接触面積で接触しており、変形はんだボール36の加熱と同時にパッド62,66側も熱伝導により効率よく加熱することができ、はんだ融着を確実に行う。
更に、変形はんだボール36のパッド62,66と接触している直交配置された接触面56−1,56−2は、はんだ直前の変形加工により表面の酸化膜が破れるかあるいは薄くなっており、更に不活性ガスなどの雰囲気中で加熱されていることで、フラックスを使用することなく、パッド62,66との間に異物としての酸化膜の存在を最小限に抑え、十分な濡れ性を確保して融着することができる。
ここで図8(C)のはんだボール融着工程にあっては、半導体レーザを用いたレーザユニット28からのレーザ光70の照射により変形はんだボール36を加熱溶融してはんだ接合しているが、はんだ濡れ性を更に向上するためには、ワークそのものの予熱を行うことが望ましい。
このワークの予熱は、はんだが溶融時に熱の高い方に移動し易い性質があることを利用して、はんだ濡れ性を向上する。ワークの予熱としては、はんだ付けの直前にワークの上部または下部よりレーザ光、キセノン光、ハロゲン光などの光エネルギーを照射するか、あるいは赤外線ヒータなどにより熱線を加えてワーク自体を加熱させればよい。
本発明にあっては、レーザユニット28に低パワーの半導体レーザを使用して予熱とはんだ溶融を行っている。本発明の半導体レーザを使用したはんだ接合条件は、
(A)下面照射による余熱を0.5W、6.0秒
(B)上面照射による溶融を1.4W、0.5秒、
となる。
これに対し従来のYAGレーザで予熱なしで同じワークにつきYAGレーザを使用してはんだ溶融を行った場合の条件は
(C)6.75W、0.02秒
となる。
ここで、YAGレーザの場合は、短時間高出力ではんだ付けするため、はんだに歪みが残留していまい、はんだ表面にシワも残る。本来はんだ付けは、はんだが溶けて流動し電極へ濡れ広がるため、ある程度の時間が必要となる。このため、YAGレーザでは照射時間が短時間過ぎ、十分な時間溶融していないため、内部応力の残留とはんだ濡れ性の確保が困難といえる。
これに対し本発明は半導体レーザを使用したことで、はんだが溶けて流動し電極へ濡れ広がるために必要な時間に亘りはんだを溶融させ、残留内部応力の低減とはんだ濡れ性の確保ができる。
なお、レーザ光の下面照射による予熱とレーザ光の上面照射によるはんだ溶融のタイミングは、予熱直後にはんだん溶融をおこなってもよいし、予熱の終了タイミングに重複してはんだ溶融を行っても良い。
図8(C)の溶融工程では、不活性ガスとして窒素ガスNを充填した雰囲気内ではんだを溶融しているが、この場合には、はんだや電極等の金属表面を酸化させる原因となる酸素濃度を管理する。一般的なSMTリフローはんだ付けにおいては、酸素濃度1000ppm程度以下で特性が変化し、はんだ濡れ性が向上することが判明している。また、窒素コストとの兼ね合いから、1000〜3000ppmまたは100ppm前後となるように酸素濃度を管理している。
これらの要件から経験的に本発明にあっては、酸素濃度5000ppm以下となるように不活性ガスを充填することが好適である。また酸素濃度の下限としては10ppmとする。本発明の実施形態のようにワークを出し入れする装置の場合、これ以下の酸素濃度での装置の運用は特殊な密閉構造をとらない限り実質困難といえる。
更に、不活性ガスである窒素Nの充填と同時に水素や塩素を含むハロゲンガスなどの還元ガスを混入することで、フラックスを使用したと同様に、加熱時における酸化膜を化学的に還元し、はんだ濡れ性を更に向上させる。この場合の.不活性ガスに混入する水素や塩素の還元ガスの濃度としては、危険性と毒性を考慮し活性力を確保するために、10〜1000ppm程度とする。
図8(D)ははんだ接合が完了したサスペンション58の説明図であり、サスペンション58のパッド62とスライダ64のパッド66がはんだ72により融着接合されている。
なお上記の実施形態は、ハードディスクドライブにおけるヘッド・ジンバル・アッセンブリィのサスペンションに搭載するスライダのはんだ接合を例にとるものであったが、本発明はこれに限定されず、微細なはんだボールを使用してAuメッキなどを施したパッド間をはんだ接合する適宜のワークにつき、そのまま適用することができる。
また上記の実施形態にあっては、はんだボールの変形加工として金型を使用した2段階の変形加工を例にとっているが、はんだボール表面の酸化膜を破る機械的な変形であれば変形形状はどのようなものであってもよく、またはんだボールの変形による接触面については、はんだ接合を行う接合部を構成するパッド側の配置や形状に依存した適宜の形状をとるように変形加工することになる。
また本発明は、その目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含み、更に上記の実施形態に示した数値による限定は受けない。
ここで本発明の特徴をまとめて列挙すると次の付記のようになる。
(付記)

(付記1)
ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形工程と、
変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態で光エネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融工程と、
を備えたことを特徴とするはんだ接合方法。(1)
(付記2)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程は、前記接合部の接合面に面着するする接触面を形成するように前記はんだボールを機械的に変形させることを特徴とするはんだ接合方法。(2)
(付記3)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程は、前記接合部の接合面と面着する直交した少なくとも2つの接触面を形成するように前記はんだボールを機械的に変形させることを特徴とするはんだ接合方法。(3)
(付記4)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程は、
はんだボールを両側から挟み込み変形させてタイヤ状に加工する第1変形工程と、
前記第1変形工程の加工方向に直交する方向に変形して前記接合部の接合面の面着する直交した2つの接触面を形成する第2変形工程と、
を備えたことを特徴とするはんだ接合方法。(4)
(付記5)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程の前工程として、搬入されたワークの接合部にタッキング剤を塗布する塗布工程を設けたことを特徴とするはんだ接合方法。(5)
(付記6)
付記5記載のはんだ接合方法に於いて、前記タッキング剤は、前記はんだボールを仮固定すると共に前記はんだボールの融点付近に沸点をもつ液剤であることを特徴とするはんだ接合方法。
(付記7)
付記5記載のはんだ接合方法に於いて、前記タッキング剤は、アルコール又は水を含むことを特徴とするはんだ接合方法。
(付記8)
付記7記載のはんだ接合方法に於いて、前記アルコールは、グリセリン又は1-ブタノールを含む多価アルコールであることを特徴とするはんだ接合方法。
(付記9)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだ溶融工程は、前記接合部の雰囲気に窒素等の不活性ガスを充填することを特徴とするはんだ接合方法。(6)
(付記10)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだ溶融工程は、前記接合部の雰囲気に充填する不活性ガスに水素ガス又は塩素ガス等を含む還元ガスを混入することを特徴とするはんだ接合方法。
(付記11)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだ溶融工程は、はんだボールを溶融させるレーザ光照射の直前に、前記ワークの接合部近傍に光エネルギー又は熱エネルギーを照射してワーク自体を予熱することを特徴とするはんだ接合方法。
(付記12)
付記1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだ溶融工程は、半導体レーザからのレーザ光によりはんだボールを溶融させる直前に、前記ワークの裏面側に半導体レーザからのレーザ光を照射してワークを予熱することを特徴とするはんだ接合方法。(7)
(付記13)
付記1乃至12記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボールは、低融点はんだであることを特徴とするはんだ接合方法。(8)
(付記14)
付記13記載のはんだ接合方法に於いて、前記低融点はんだは、Sn-57Bi、Sn-56Bi-1Ag又はSn-52Inを含む低融点鉛フリーはんだであることを特徴とするはんだ接合方法。
(付記15)
付記1乃至14記載のいずれかに記載のはんだ接合方法に於いて、前記ワークは、スライダを搭載したサンペンションであり、前記サスペンションに形成されたパッドと前記スライダに形成されたパッドを電気的に接合することを特徴とするはんだ接合方法。(9)
(付記16)
ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形ユニットと、
変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態で光エネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融ユニットと、
を備えたことを特徴とするはんだ接合装置。(10)
(付記17)
付記16記載のはんだ接合装置に於いて、前記はんだボール変形ユニットは、前記接合部の接合面の面着する接触面を形成するように前記はんだボールを機械的に変形させることを特徴とするはんだ接合装置。
(付記18)
付記16記載のはんだ接合装置に於いて、前記はんだボール変形ユニットは、前記接合部の接合面と面着する直交した少なくとも2つの接触面を形成するように前記はんだボールを機械的に変形させることを特徴とするはんだ接合装置。
(付記19)
付記16記載のはんだ接合装置に於いて、前記はんだボール変形ユニットは、
はんだボールを両側から挟み込み変形させてタイヤ状に加工する第1変形ユニットと、
前記第1変形ユニットの加工方向に直交する方向に変形して前記接合部の接合面の面着する直交した2つの接触面を形成する第2変形ユニットと、
を備えたことを特徴とするはんだ接合装置。
(付記20)
付記16記載のはんだ接合装置に於いて、前記はんだボール変形ユニットの前段に、搬入されたワークの接合部にタッキング剤を塗布する塗布ユニットを設けたことを特徴とするはんだ接合装置。
(付記21)
付記20記載のはんだ接合装置に於いて、前記タッキング剤は、前記はんだボールを仮固定すると共に前記はんだボールの融点付近に沸点をもつ液剤であることを特徴とするはんだ接合装置。
(付記22)
付記20記載のはんだ接合装置に於いて、前記タッキング剤は、アルコール又は水を含むことを特徴とするはんだ接合装置。
(付記23)
付記22記載のはんだ接合装置に於いて、前記アルコールは、グリセリン又は1-ブタノールを含む多価アルコールであることを特徴とするはんだ接合装置。
(付記24)
付記16記載のはんだ接合装置に於いて、前記溶融ユニットは、前記接合部の雰囲気に窒素等の不活性ガスを充填することを特徴とするはんだ接合装置。
(付記25)
付記24記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだ溶融ユニットは、前記接合部の雰囲気に充填する不活性ガスに水素ガス又は塩素ガス等を含む還元ガスを混入することを特徴とするはんだ接合方法。
(付記26)
付記16記載のはんだ接合装置に於いて、前記はんだ溶融ユニットは、はんだボールを溶融させるレーザ光照射の直前に、前記ワークの接合部近傍に光エネルギー又は熱エネルギーを照射してワーク自体を予熱することを特徴とするはんだ接合装置。
(付記27)
付記1記載のはんだ接合装置に於いて、前記はんだ溶融ユニットは、半導体レーザからのレーザ光によりはんだボールを溶融させる直前に、前記ワークの裏面がわに半導体レーザからのレーザ光を照射してワークを予熱することを特徴とするはんだ接合装置。
(付記28)
付記15乃至27記載のはんだ接合装置に於いて、前記はんだボールは、低融点はんだであることを特徴とするはんだ接合装置。
(付記29)
付記28記載のはんだ接合装置に於いて、前記低融点はんだは、Sn-57Bi、Sn-56Bi-1Ag又はSn-52Inを含む低融点鉛フリーはんだであることを特徴とするはんだ接合装置。
(付記30)
付記15乃至29記載のいずれかに記載のはんだ接合装置に於いて、前記ワークは、スライダを搭載したサンペンションであり、前記サスペンションに形成されたパッドと前記スライダに形成されたパッドを電気的に接合することを特徴とするはんだ接合装置。
本発明によるはんだ接合方法の処理工程の説明図 本発明によるはんだ接合装置の実施形態の説明図 図2のはんだ接合装置による処理工程の説明図 本発明のはんだボール変形工程による第1変形工程の説明図 図4に続く第2変形工程の説明図 はんだボールの変形加工が完了した加工状態の説明図 図4乃至図6の変形工程により加工された変形はんだボールの説明図 本発明におけるアルコール塗布工程、はんだボール搭載工程、はんだボール溶融工程を、ハードディスクドライブに使用するヘッド・ジンバル・アッセンブリィのサスペンションとスライダの接合を例にとった説明図
符号の説明
10:ワーク
11:はんだ接合装置
12,72:はんだ
14:ローディングユニット
16:アルコール塗布ユニット
17:ディスペンス
18:はんだボール供給ユニット
20:はんだボール変形ユニット
22:はんだボール搭載ユニット
24:はんだボール溶融ユニット
25:ケース
26:アンローディングユニット
28:レーザユニット
30:アッセンブリィ
32:アルコール吹付ユニット
34:はんだボール
35,40:吸着ノズル
36:変形はんだボール
40:固定金型
42,48:押圧金型
44:ボール収納部
46:押圧面
50:テーパ押圧面
54−1,54−2:変形面
56−1,56−2:接触面
56−3:テーパ変形面
58:サスペンション
60:導体リード
62,66:パッド
64:スライダ
65:固定層
70:レーザ光

Claims (10)

  1. ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形工程と、
    変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態でレーザ光の照射により加熱して溶融させるはんだ溶融工程と、
    を備えたことを特徴とするはんだ接合方法。
  2. 請求項1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程は、前記接合部の接合面に面着する接触面を形成するように前記はんだボールを機械的に変形させることを特徴とするはんだ接合方法。
  3. 請求項1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程は、前記接合部の接合面と面着する直交した少なくとも2つの接触面を形成するように前記はんだボールを機械的に変形させることを特徴とするはんだ接合方法。
  4. 請求項1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程は、
    はんだボールを両側から挟み込み変形させてタイヤ状に加工する第1変形工程と、
    前記第1変形工程の加工方向に直交する方向に変形して前記接合部の接合面の面着する直交した2つの接触面を形成する第2変形工程と、
    を備えたことを特徴とするはんだ接合方法。
  5. 請求項1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボール変形工程の前工程として、搬入されたワークの接合部にタッキング剤を塗布する塗布工程を設けたことを特徴とするはんだ接合方法。
  6. 請求項1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだ溶融工程は、前記接合部の雰囲気に窒素等の不活性ガスを充填することを特徴とするはんだ接合方法。
  7. 請求項1記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだ溶融工程は、半導体レーザからのレーザ光によりはんだボールを溶融させる直前に、前記ワークの裏面側に半導体レーザからのレーザ光を照射してワークを予熱することを特徴とするはんだ接合方法。
  8. 請求項1乃至7記載のはんだ接合方法に於いて、前記はんだボールは、低融点はんだであることを特徴とするはんだ接合方法。
  9. 請求項1乃至8記載のいずれかに記載のはんだ接合方法に於いて、前記ワークは、スライダを搭載したサンペンションであり、前記サスペンションに形成されたパッドと前記スライダに形成されたパッドを電気的に接合することを特徴とするはんだ接合方法。
  10. ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形ユニットと、
    変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態で光エネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融ユニットと、
    を備えたことを特徴とするはんだ接合装置。
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