JP2006210393A - Substrate processing apparatus, substrate transfer apparatus and substrate control method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラス基板等の基板を搬送して加工処理を行う基板加工装置、基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate transport apparatus that perform processing by transporting a substrate such as a glass substrate.
従来、基板加工装置は、ガラス基板等の薄板状の基板(ワーク)をステージ上に載置し、当該ステージを介して位置決めを行い、基板上に精密パターニング加工を行う。基板上にパターン形成を行う場合、相当の精度が要求され、加工対象の基板を定盤上の所定の位置に精度よく載置することが要求される。
近年、液晶カラーフィルター等のディスプレイの分野では、G6世代(1500mm×1800mm)、G7世代(1870mm×2200mm)等、ガラス基板のサイズが大型化すると共に、装置重量、装置コスト等が増大する傾向にある。
また、装置重量の軽量化、低コスト化を図るべく、エアスライダ方式の薄板搬送装置が提案されている(例えば、[特許文献1]参照。)。
Conventionally, a substrate processing apparatus places a thin plate-like substrate (work) such as a glass substrate on a stage, performs positioning through the stage, and performs precision patterning on the substrate. When pattern formation is performed on a substrate, considerable accuracy is required, and it is required to accurately place the substrate to be processed at a predetermined position on the surface plate.
In recent years, in the field of displays such as liquid crystal color filters, the G6 generation (1500 mm × 1800 mm), the G7 generation (1870 mm × 2200 mm), etc., tend to increase the size of the glass substrate and increase the device weight, device cost, etc. is there.
In order to reduce the weight of the apparatus and reduce the cost, an air slider type thin plate conveying apparatus has been proposed (see, for example, [Patent Document 1]).
しかしながら、従来の基板加工装置では、装置の大型化に起因する設備費用が増大するという問題点がある。
基板の搬送及び加工にステージが必要であり、石製ステージの移動定盤は、基板のサイズよりも大きい。また、移動定盤、移動定盤を走行させるスライダ及びスライドレール、これらを支持するベースは、相応の剛性を維持すべく設計される。
従って、装置の大型化、装置重量、設置場所の耐荷重、装置搬送コスト等が増大し、また、大型移動定盤の平面研削やハンドラップによる精度出し加工等に要する費用的負担が増大するという問題点がある。
また、[特許文献1]に示される薄板搬送装置は、アライメント装置を備えておらず、カラーフィルター等の精密パターニングに用いることが困難であるという問題点がある。
However, the conventional substrate processing apparatus has a problem that the equipment cost due to the increase in the size of the apparatus increases.
A stage is required for transporting and processing the substrate, and the moving surface plate of the stone stage is larger than the size of the substrate. In addition, the moving surface plate, the slider and slide rail for running the moving surface plate, and the base that supports these are designed to maintain appropriate rigidity.
Therefore, the size of the device, the weight of the device, the load capacity of the installation location, the device transport cost, etc. increase, and the cost burden required for surface grinding of the large moving surface plate and the accuracy increasing processing by hand lap increases. There is a problem.
In addition, the thin plate conveying device disclosed in [Patent Document 1] does not include an alignment device, and there is a problem that it is difficult to use for precise patterning of a color filter or the like.
また、以下の(1)〜(3)に示す理由等により、加工ユニット(加工部)と基板との間のZ方向の相対位置精度を維持することが必要である。
尚、θ軸は鉛直方向回転軸を示し、θ方向はその回転方向を示す。Y軸は加工幅方向を示し、X軸は加工方向を示し、θ軸、Y軸、X軸は、互いに直角をなす。
(1)加工ユニットがインクジェットヘッドユニットの場合、基板がインクジェットヘッドに対して、X方向またはY方向に相対的に移動する場合、基板がZ方向にばたつくと、インクジェットヘッドと基板との間のギャップが変動し、X方向またはY方向の着弾位置がずれてしまう。
(2)加工ユニットがダイヘッドユニットの場合、基板がダイヘッドに対して、X方向またはY方向に相対的に移動する場合、基板がZ方向にばたつくと、ダイヘッドと基板との間のギャップが変動することにより、塗布膜厚も変動してしまう。
(3)加工ユニットがレーザー照射ヘッドユニットの場合、基板がレーザー照射ヘッドに対して、X方向またはY方向に相対的に移動する場合、基板がZ方向にばたつくと、レーザー照射ヘッドと基板との間のギャップが変動することにより、焦点距離も変動してしまう。
Further, for the reasons shown in the following (1) to (3), it is necessary to maintain the relative positional accuracy in the Z direction between the processing unit (processing unit) and the substrate.
The θ axis indicates the vertical rotation axis, and the θ direction indicates the rotation direction. The Y axis indicates the machining width direction, the X axis indicates the machining direction, and the θ axis, the Y axis, and the X axis are perpendicular to each other.
(1) When the processing unit is an inkjet head unit, when the substrate moves relative to the inkjet head in the X direction or the Y direction, if the substrate flutters in the Z direction, the gap between the inkjet head and the substrate Fluctuates and the landing position in the X direction or Y direction shifts.
(2) When the processing unit is a die head unit, when the substrate moves relative to the die head in the X direction or the Y direction, the gap between the die head and the substrate varies when the substrate flutters in the Z direction. As a result, the coating film thickness also varies.
(3) When the processing unit is a laser irradiation head unit, when the substrate moves relative to the laser irradiation head in the X direction or the Y direction, if the substrate flutters in the Z direction, the laser irradiation head and the substrate The focal length also fluctuates due to the gap between them.
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、加工精度を維持しつつ、装置重量及び費用的負担等を軽減することを可能とする基板加工装置等を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and the like that can reduce the weight and cost of the apparatus while maintaining the processing accuracy. To do.
前述した目的を達成するために第1の発明は、基板に対して加工処理を行う加工部と、前記基板を前記加工部に搬送する搬送部と、を備える基板加工装置であって、前記搬送部は、少なくとも1軸であり、搬送方向に設けられるレール部と前記基板が載置され前記レール部上を移動する移動部とを有し、前記移動部及び前記レール部の幅は、前記基板の幅より小さいことを特徴とする基板加工装置である。 In order to achieve the above-mentioned object, a first invention is a substrate processing apparatus comprising: a processing unit that performs processing on a substrate; and a transport unit that transports the substrate to the processing unit. The part has at least one axis, and has a rail part provided in the transport direction and a moving part on which the board is placed and moves on the rail part, and the width of the moving part and the rail part is the board The substrate processing apparatus is characterized by being smaller than the width.
第1の発明の基板加工装置は、基板に対して加工処理を行う加工部(加工ユニット)、加工部に搬送する搬送部(X方向移動ステージ)等を備え、搬送部は、少なくとも1軸であり、搬送方向に設けられるレール部(X方向レール)と基板が載置されレール部上を移動する移動部(X方向スライダ)を有し、移動部及びレール部の幅は、基板の幅より小さい。 A substrate processing apparatus according to a first aspect of the present invention includes a processing unit (processing unit) that performs processing on a substrate, a transport unit (X-direction moving stage) that transports the processing unit, and the transport unit includes at least one axis. Yes, it has a rail part (X direction rail) provided in the transport direction and a moving part (X direction slider) on which the board is placed and moves on the rail part. The width of the moving part and the rail part is larger than the width of the board. small.
また、加工部下方近傍に、鉛直方向における加工部と基板との相対位置を空気圧により制御するエアフロートを設けることが望ましい。
また、基板の位置決めを行うアライメント部(アライメントステージ(Y方向、θ方向))を設け、搬送部は、基板をアライメント部から加工部に搬送するようにしてもよい。
また、アライメント部と加工部との間の領域であって搬送部以外の領域に、搬送される基板を支持する搬送基板支持部を設けることが望ましい。この場合、搬送基板支持部に関しては、基板を支持するものであれば特に限定されず、例えば、ローラ、エアフロート等を用いることができる。
また、アライメント部に搬送部を埋設するための凹溝を搬送方向に設けるようにしてもよい。この場合、位置決めの範囲内でアライメント部と搬送部とが独立して移動可能となるように、凹溝の大きさを定めることが望ましい。
In addition, it is desirable to provide an air float that controls the relative position between the processed portion and the substrate in the vertical direction by air pressure in the vicinity of the lower portion of the processed portion.
Further, an alignment unit (alignment stage (Y direction, θ direction)) for positioning the substrate may be provided, and the transport unit may transport the substrate from the alignment unit to the processing unit.
In addition, it is desirable to provide a transport substrate support unit that supports the substrate to be transported in a region between the alignment unit and the processing unit and other than the transport unit. In this case, the transport substrate support portion is not particularly limited as long as it supports the substrate, and for example, a roller, an air float, or the like can be used.
Moreover, you may make it provide the ditch | groove for embedding a conveyance part in an alignment part in a conveyance direction. In this case, it is desirable to determine the size of the groove so that the alignment unit and the conveyance unit can move independently within the positioning range.
本発明は、精度を維持したまま、薄板等の基板に精密パターニング加工を可能とするエアフロートを搭載し、加工ユニットと基板との間のZ方向(鉛直方向)の相対距離を一定に保つことを可能とした精密ステージに関するものである。特徴は、基板搬送方向をX方向、薄板搬送方向と垂直方向をY方向とすると、Y方向の移動定盤の幅が基板よりも狭く、かつ、パターニング加工前にアライメント可能な機能を設けたことにある。 The present invention mounts an air float that enables precision patterning on a substrate such as a thin plate while maintaining accuracy, and keeps the relative distance in the Z direction (vertical direction) between the processing unit and the substrate constant. This is related to a precision stage. The feature is that if the substrate transport direction is the X direction and the direction perpendicular to the thin plate transport direction is the Y direction, the width of the moving surface plate in the Y direction is narrower than the substrate, and a function that allows alignment before patterning is provided It is in.
従って、X方向移動ステージには、これまでと同様の駆動機構を備え、移動定盤のサイズを従来よりY方向に小さくすることにより、X方向とY方向の精度を維持すると共に、軽量化を図ることができる。また、加工領域において、エアフロートユニットを設けることにより、加工ユニットと基板との間のZ方向の相対位置精度を維持することができる。従って、簡易な構造により、軽量化及び低コスト化を図ることができる。 Therefore, the X-direction moving stage is equipped with the same drive mechanism as before, and the size of the moving surface plate is made smaller in the Y direction than before, thereby maintaining the accuracy in the X direction and the Y direction and reducing the weight. Can be planned. Further, by providing the air float unit in the processing region, it is possible to maintain the relative positional accuracy in the Z direction between the processing unit and the substrate. Therefore, weight reduction and cost reduction can be achieved with a simple structure.
第2の発明は、基板が載置され前記基板の位置決めを行うアライメント部と前記アライメント部を搬送する搬送部とを具備し、前記搬送部は、少なくとも1軸であり、搬送方向に設けられるレール部と前記アライメント部を支持し前記レール部上を移動する移動部とを有し、前記移動部及び前記レール部の幅は、前記基板の幅より小さいことを特徴とする基板搬送装置である。 A second invention includes an alignment unit on which a substrate is placed and positions the substrate, and a transport unit that transports the alignment unit, and the transport unit is at least one axis and is provided in a transport direction. And a moving unit that supports the alignment unit and moves on the rail unit, wherein the width of the moving unit and the rail unit is smaller than the width of the substrate.
第2の発明の基板搬送装置は、アライメント部、搬送部等を備え、搬送部を移動する移動部及びレール部の幅は、基板の幅より小さく、アライメント部(アライメントステージ)は、搬送部(X方向移動ステージ)の上に搭載される。 The substrate transport apparatus of the second invention includes an alignment unit, a transport unit, and the like. The width of the moving unit and the rail unit that move the transport unit is smaller than the width of the substrate, and the alignment unit (alignment stage) includes the transport unit ( Mounted on the X-direction moving stage).
第3の発明は、基板に対して加工処理を行う加工部と、前記基板を前記加工部に搬送する搬送部と、を備える基板加工装置における基板制御方法であって、搬送方向に設けられるレール部の上を移動する移動部により、前記基板の部分領域、または、前記基板の位置決めを行うアライメント部の部分領域を下方から面支持する部分領域面支持ステップと、前記移動部により前記基板または前記アライメント部を前記搬送方向に移動させる移動ステップと、前記加工部の下方近傍において、エアフロートにより、鉛直方向における前記基板の位置を空気圧により制御する鉛直方向位置制御ステップと、を具備することを特徴とする基板制御方法である。 3rd invention is a board | substrate control method in the board | substrate processing apparatus provided with the process part which processes a board | substrate, and the conveyance part which conveys the said board | substrate to the said process part, Comprising: The rail provided in a conveyance direction A partial region surface support step for supporting a partial region of the substrate or a partial region of the alignment unit for positioning the substrate from below by a moving unit that moves on the substrate; and A moving step for moving the alignment unit in the transport direction; and a vertical position control step for controlling the position of the substrate in the vertical direction by air pressure by an air float near the lower part of the processing unit. This is a substrate control method.
第3の発明は、第1の発明の基板加工装置及び第2の発明の基板搬送装置における基板制御方法に関する発明である。 3rd invention is the invention regarding the board | substrate control method in the board | substrate processing apparatus of 1st invention, and the board | substrate conveyance apparatus of 2nd invention.
「部分領域」は、基板あるいはアライメント部の下部の全面ではなく、所定の部分領域を示す。例えば、基板、アライメント部を支持し移動させる移動部の幅が基板の幅より小さく、移動部が1軸のレール上を移動する場合、「部分領域」は、基板あるいはアライメント部の下面の中央部分の領域を示す。
また、部分領域外において、基板、アライメント部を下方から点支持、線支持等により、補助的に支持するようにしてもよい。
The “partial region” indicates a predetermined partial region, not the entire lower surface of the substrate or the alignment unit. For example, when the width of the moving unit that supports and moves the substrate and the alignment unit is smaller than the width of the substrate, and the moving unit moves on a uniaxial rail, the “partial region” is the central portion of the lower surface of the substrate or alignment unit. Indicates the area.
Further, outside the partial region, the substrate and the alignment unit may be supported in an auxiliary manner from below by point support, line support, and the like.
本発明によれば、加工精度を維持しつつ、装置重量及び費用的負担等を軽減することを可能とする基板加工装置等を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the board | substrate processing apparatus etc. which can reduce an apparatus weight, a cost burden, etc. can be provided, maintaining a processing precision.
以下、添付図面を参照しながら、本発明に係る基板加工装置等の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、略同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略することにする。 Hereinafter, preferred embodiments of a substrate processing apparatus and the like according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description and the accompanying drawings, the same reference numerals are given to components having substantially the same functional configuration, and redundant description will be omitted.
最初に、図1を参照しながら、本発明の実施の形態に係る基板加工装置1の構成について説明する。
図1は、基板加工装置1の概略斜視図である。
尚、θ軸は鉛直方向回転軸を示し、θ方向はその回転方向を示す。Y軸は塗布幅方向を示し、X軸は塗布方向を示し、θ軸、Y軸、X軸は、互いに直角をなす。
Initially, the structure of the
FIG. 1 is a schematic perspective view of the
The θ axis indicates the vertical rotation axis, and the θ direction indicates the rotation direction. The Y axis indicates the coating width direction, the X axis indicates the coating direction, and the θ axis, the Y axis, and the X axis are perpendicular to each other.
図1に示す基板加工装置1は、加工ユニット5、X方向移動ステージ7、アライメントステージ(Y方向移動ステージ及びθ方向移動ステージ)9、エアフロートユニット11、ローラ13、アライメントカメラ15等により構成される。
A
基板加工装置1は、基板3に対して加工ユニット5により加工処理を施し、カラーフィルタ、電子回路等の微細ピッチのパターン等を形成する装置である。
。
基板3は、加工処理の対象物であり、例えば、ガラス基板、シリコンウェハ、プリント基板等の基板である。
加工ユニット5は、基板3に対して加工処理を施す装置であり、例えば、インクジェットヘッドユニット、ダイコートユニット、レーザ照射ヘッドユニット等である。加工ユニット5は、ガントリ17にY方向に設けられるレール19に沿って移動する。
The
.
The
The
X方向移動ステージ7は、X方向に基板3等を搬送すると共に、X方向の位置決めを行う装置である。X方向移動ステージ7は、X方向スライダ7−1及びX方向レール7−2を有する。X方向スライダ7−1及びX方向レール7−2の幅(Y方向長)は、共に、基板3の幅(Y方向長)より小さい。基板3は、X方向スライダ7−1の上面に載置され、X方向スライダ7−1は、X方向レール7−2に沿ってX方向に移動する。
X方向移動ステージ7は、直線移動ステージであり、例えば、LMガイドやエアスライダ等を用いたガイドとステップモータ、サーボモータやリニアモータ等の制御可能なモータによってX方向に移動可能に支持される。
The
The X
アライメントステージ(Y方向、θ方向)9は、基板3のY方向23及びθ方向25の位置決めを行う装置である。アライメントステージ9は、Y方向移動ステージ(図示しない)及びθ方向移動ステージ(図示しない)を有する。
Y方向移動ステージは、直線移動ステージであり、例えば、ステップモータ、サーボモータやリニアモータ等の制御可能なモータによってY方向に移動可能に支持される。
θ方向移動ステージは、回転ステージであり、例えば、ステップモータ、サーボモータ等の制御可能なモータによってθ方向回転軸に回転自在に支持される。
The alignment stage (Y direction, θ direction) 9 is a device for positioning the
The Y direction moving stage is a linear moving stage and is supported so as to be movable in the Y direction by a controllable motor such as a step motor, a servo motor, or a linear motor.
The θ-direction moving stage is a rotating stage and is rotatably supported on the θ-direction rotating shaft by a controllable motor such as a step motor or a servo motor.
また、アライメントステージ9は、X方向に凹溝21を有する。凹溝21は、X方向移動ステージ7を埋設可能である。尚、X方向移動ステージ7は、凹溝21に固定されない。凹溝21の大きさは、位置決め範囲内において、アライメントステージ9とX方向移動ステージ7とが独立して動作可能となるように定められる。X方向移動ステージ7が凹溝21に埋設される場合であっても、アライメントステージ9は、可動範囲内において、X方向移動ステージ7と独立にY方向及びθ方向に移動することができる。
また、アライメントステージは、少なくとも左右2分割して、それぞれに独立した駆動を設けて、同期制御して動作させてもよい。
Further, the
In addition, the alignment stage may be divided into at least two parts on the left and right sides, and independent driving may be provided for each, and the alignment stage may be operated under synchronous control.
アライメントカメラ15は、基板3のθ方向角度及びXY座標を検出するために、基板3の所定箇所(基板上に形成されるアライメントマーク等)を撮像するカメラである。アライメントカメラ15の撮像画像は、基板加工装置1のアライメント制御部(図示しない)に入力される。
尚、アライメントカメラ15は、基板加工装置1のフレーム(図示しない)に固定支持される。
The
The
アライメント制御部(図示しない)は、アライメントカメラ15の撮像画像に基づいて、基板3が所定のθ方向角度、所定のXY座標となるように制御する。アライメント制御部(図示しない)は、撮像画像に基づいて基板3のθ方向角度及びXY座標を抽出し、抽出したデータを所定のデータと比較してそれらの偏差を算出し、偏差を小さくするように制御量を演算する。アライメント制御部(図示しない)は、X方向移動ステージ7、アライメントステージ9に対してそれぞれの制御量を出力して各ステージの位置制御を行う。
An alignment control unit (not shown) controls the
尚、X方向スライダ7−1、アライメントステージ9の上面に吸着テーブル(図示しない)を設けるようにしてもよい。
吸着テーブルは、基板3を吸着して固定するテーブルである。基板3の吸着は、例えば、空気を減圧、真空にすることにより行われる。この場合、吸着テーブルには、空気を吸引するための小孔(図示しない)が設けられ、吸着の際には当該孔を通じて真空ポンプ(図示しない)等により空気の吸引が行われる。
ここで、アライメントステージ9の上面の吸着を停止し、X方向スライダ7−1の上面のみを吸着して、X方向スライダ7−1を移動する場合には、アライメントステージ9の吸着テーブル上面の高さをX方向スライダ7−1のその高さより低くすることが望ましい。高さの変更方法としては、アライメントステージ9をの高さを低くしても良いし、X方向スライダ7−1の高さを高くしても良い。
A suction table (not shown) may be provided on the upper surface of the X-direction slider 7-1 and the
The suction table is a table that sucks and fixes the
Here, when the suction of the upper surface of the
エアフロートユニット11は、基板3を空気圧により非接触に支持する装置である。エアフロートユニット11は、加工ユニット5の近傍に、X方向移動ステージ7の両側に設けられる。
エアフロートユニット11は、空気圧で押し上げあるいは吸引することにより、基板3を一定の高さ(Z方向位置)に維持する。エアフロートユニット11に関しては、例えば、オルボテック社より市販されているスマートノズル等を用いることができる。
The
The
ローラ13は、X方向に搬送される基板3を支持する装置である。ローラ13は、アライメントステージ9とエアフロートユニット11との間の領域にX方向移動ステージ7の両側に設けられる。また、ローラ13に代えてエアフロートユニットを配してもよい。
The
次に、図2〜図5を参照しながら、本発明の実施の形態に係る基板加工装置1の動作について説明する。
図2〜図4は、基板加工装置1の動作の流れを示す図であり、基板加工装置1からガントリ17の上部を一部切り欠いて上方から見た図を示す。
図2は、基板3がアライメント領域31にある場合、図3は、基板3が移動領域33にある場合、図4は、基板3が加工領域35にある場合を示す。
図5は、基板加工装置1の動作を示すフローチャートである。
Next, the operation of the
2-4 is a figure which shows the flow of operation | movement of the
2 shows a case where the
FIG. 5 is a flowchart showing the operation of the
図2に示すように、基板加工装置1は、アライメント領域31において、基板3に対して、アライメントステージ9によりY方向23及びθ方向25についてアライメントを行い(ステップ101)、基板3をX方向移動ステージ7のX方向スライダ7−1に載置する(ステップ102)。
As shown in FIG. 2, the
図3に示すように、基板加工装置1は、X方向移動ステージ7を駆動し、X方向レール7−2に沿ってX方向スライダ7−1を移動させ、基板3をアライメント領域31から加工領域35へ移動させる(ステップ103)。
尚、移動領域33において、基板3の中央付近は、X方向移動ステージ7に支持され、基板3の両側は、ローラ13に支持される。
As shown in FIG. 3, the
In the moving
図4に示すように、基板加工装置1は、加工領域35において、基板3をエアフロートユニット11により浮上させ、Z方向の相対距離(基板3と加工ユニット5との間のZ方向距離)を一定に保ち(ステップ104)、加工ユニット5により基板3に対して加工処理を施す(ステップ105)。
As shown in FIG. 4, the
以上の過程を経て、基板加工装置1は、アライメント領域31においてY方向及びθ方向についてアライメントを行い、X方向移動ステージ7により基板3をアライメント領域31から加工領域35へ移動させ、加工領域35においてエアフロートユニット11によりZ方向の相対距離を一定に保ち、加工ユニット5により基板3に対して加工処理を施す。
Through the above process, the
このように、基板加工装置は、アライメントステージによりY方向及びθ方向の位置決め行い、X方向移動ステージによりX方向に搬送し、エアフロートユニットによりZ方向の位置決めを行い、基板の加工を行うので、加工精度を維持することができる。 In this way, the substrate processing apparatus performs positioning in the Y direction and θ direction by the alignment stage, transports in the X direction by the X direction moving stage, performs positioning in the Z direction by the air float unit, and processes the substrate. Processing accuracy can be maintained.
以上説明したように、本発明の基板加工装置は、X方向移動ステージは、これまでと同様の駆動機構を有し、移動定盤(X方向スライダ等)のサイズを従来よりY方向に小さくすることにより、X方向の精度を維持すると共に、軽量化を図ることができる。また、加工領域において、エアフロートユニットを設けることにより、加工ユニットと基板との間のZ方向の相対位置精度を維持することができる。従って、簡易な構造により、軽量化及び低コスト化を図ることができる。 As described above, in the substrate processing apparatus of the present invention, the X-direction moving stage has the same drive mechanism as before, and the size of the moving surface plate (X-direction slider, etc.) is made smaller in the Y direction than before. Thus, it is possible to maintain the accuracy in the X direction and reduce the weight. Further, by providing the air float unit in the processing region, it is possible to maintain the relative positional accuracy in the Z direction between the processing unit and the substrate. Therefore, weight reduction and cost reduction can be achieved with a simple structure.
尚、X方向移動ステージの幅をどの程度小さくするかに関しては、特に限定されず、基板の重量、形状、大きさ等に基づいて定めることができる。
また、X方向移動ステージの軸数に関しては、上述のように1軸でもよいし、複数軸としてもよい。
また、上述のように、アライメントステージをX方向移動ステージと独立させ、Y方向及びθ方向のアライメントの後、X方向移動ステージに基板を受け渡すようにしてもよいし、アライメントステージをX方向移動ステージ上に搭載するようにしてもよい。
ここで、X方向移動ステージに基板を受け渡す場合には、アライメントステージ9の高さをX方向スライダ7−1の高さより低くすることが望ましい。高さの変更方法としては、アライメントステージ9をの高さを低くしても良いし、X方向スライダ7−1の高さを高くしても良い
Note that how much the width of the X-direction moving stage is reduced is not particularly limited, and can be determined based on the weight, shape, size, and the like of the substrate.
Further, the number of axes of the X-direction moving stage may be one axis as described above or a plurality of axes.
Further, as described above, the alignment stage may be made independent of the X direction moving stage, and after alignment in the Y direction and θ direction, the substrate may be transferred to the X direction moving stage, or the alignment stage may be moved in the X direction. You may make it mount on a stage.
Here, when the substrate is transferred to the X-direction moving stage, it is desirable that the height of the
また、加工領域に関しては、上述のように、加工ユニットをガントリのレールに沿ってY方向に移動可能とするようにしてもよいし、加工ユニットをエアフロートユニット上方に固定し、アライメントステージをY方向に移動させるようにしてもよい。
また、アライメント及び加工に関係のない移動領域に関しては、上述のように、簡易なローラを設けてもよいし、エアーフロートユニットを設けてもよい。
また、加工領域において、基板と加工ユニットとの間の相対距離精度を向上させるべく、加工ユニット側に基板の位置を測定するセンサを設け、リアルタイムにフィードバックして、エアフロートユニットの空気圧を制御するようにしてもよい。
As for the processing area, as described above, the processing unit may be movable in the Y direction along the rail of the gantry, or the processing unit is fixed above the air float unit, and the alignment stage is set to Y. You may make it move to a direction.
As for the moving region not related to alignment and processing, a simple roller or an air float unit may be provided as described above.
In order to improve the relative distance accuracy between the substrate and the processing unit in the processing area, a sensor for measuring the position of the substrate is provided on the processing unit side, and feedback is performed in real time to control the air pressure of the air float unit. You may do it.
以上、添付図面を参照しながら、本発明にかかる基板加工装置等の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 The preferred embodiments of the substrate processing apparatus and the like according to the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea disclosed in the present application, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.
1………基板加工装置
3………基板
5………加工ユニット
7………X方向移動ステージ
7−1………X方向スライダ
7−2………X方向レール
9………アライメントステージ(Y方向、θ方向)
11………エアフロートユニット
13………ローラ
15………アライメントカメラ
17………ガントリ
19………レール
21………凹溝
31………アライメント領域
33………移動領域
35………加工領域
DESCRIPTION OF
11 .........
Claims (8)
前記搬送部は、少なくとも1軸であり、搬送方向に設けられるレール部と前記基板が載置され前記レール部上を移動する移動部とを有し、前記移動部及び前記レール部の幅は、前記基板の幅より小さいことを特徴とする基板加工装置。 A substrate processing apparatus comprising: a processing unit that performs processing on a substrate; and a transport unit that transports the substrate to the processing unit,
The transport unit has at least one axis, and includes a rail unit provided in the transport direction and a moving unit on which the substrate is placed and moves on the rail unit, and the width of the moving unit and the rail unit is A substrate processing apparatus having a width smaller than that of the substrate.
前記搬送部は、少なくとも1軸であり、搬送方向に設けられるレール部と前記アライメント部を支持し前記レール部上を移動する移動部とを有し、前記移動部及び前記レール部の幅は、前記基板の幅より小さいことを特徴とする基板搬送装置。 An alignment unit on which a substrate is placed and positioning the substrate; and a transport unit that transports the alignment unit,
The transport unit has at least one axis, and includes a rail unit provided in the transport direction and a moving unit that supports the alignment unit and moves on the rail unit, and the width of the moving unit and the rail unit is A substrate transfer device having a width smaller than that of the substrate.
搬送方向に設けられるレール部の上を移動する移動部により、前記基板の部分領域、または、前記基板の位置決めを行うアライメント部の部分領域を下方から面支持する部分領域面支持ステップと、
前記移動部により前記基板または前記アライメント部を前記搬送方向に移動させる移動ステップと、
前記加工部の下方近傍において、エアフロートにより、鉛直方向における前記基板の位置を空気圧により制御する鉛直方向位置制御ステップと、
を具備することを特徴とする基板制御方法。 A substrate control method in a substrate processing apparatus comprising: a processing unit that performs processing on a substrate; and a transport unit that transports the substrate to the processing unit,
A partial region surface support step for supporting the partial region of the substrate or the partial region of the alignment unit for positioning the substrate from below by a moving unit that moves on a rail portion provided in the transport direction;
A moving step of moving the substrate or the alignment unit in the transport direction by the moving unit;
A vertical position control step for controlling the position of the substrate in the vertical direction by air pressure by an air float near the lower part of the processing part;
A substrate control method comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005016586A JP4349528B2 (en) | 2005-01-25 | 2005-01-25 | Substrate transport device, substrate control method, color filter manufacturing method, electronic circuit manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005016586A JP4349528B2 (en) | 2005-01-25 | 2005-01-25 | Substrate transport device, substrate control method, color filter manufacturing method, electronic circuit manufacturing method |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006210393A true JP2006210393A (en) | 2006-08-10 |
JP2006210393A5 JP2006210393A5 (en) | 2006-12-21 |
JP4349528B2 JP4349528B2 (en) | 2009-10-21 |
Family
ID=36966938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005016586A Expired - Fee Related JP4349528B2 (en) | 2005-01-25 | 2005-01-25 | Substrate transport device, substrate control method, color filter manufacturing method, electronic circuit manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4349528B2 (en) |
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JP4349528B2 (en) | 2009-10-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061102 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080421 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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