JP2011110648A - Processing method and device of glass substrate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve production efficiency of a glass substrate, by performing chamfering process without positioning the glass substrate. <P>SOLUTION: When the glass substrate G is placed on a table 12, the glass substrate G is sucked and fixed to the table 12 by suction operation of the table 12 without positioning the glass substrate. Next, position information on end surfaces G1, G2 and G3 of the glass substrate G in such a state is acquired by laser displacement gauges 14-22, and a processing start position and a processing finish position of taking into consideration this position information and a desired grinding margin, are calculated by a CPU 28. Next, a motion controller 32 controls moving mechanisms 34 and 40 so that chamfering grinding wheels 24 and 26 linearly move toward the processing finish position from the processing start position based on the position information on the calculated processing start position and processing finish position. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明はガラス基板の加工方法及びその装置に関する。   The present invention relates to a glass substrate processing method and apparatus.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のFPD(Flat Panel Display)用ガラス基板は、以下に示す方法で製造される。例えばフロート窯等のガラスリボン成形装置によって帯状に成形されたガラスリボンを、切折工程で所定の矩形状サイズのガラス基板に切折加工し、これを面取工程で端面を面取加工することにより、製品としての外形寸法を持つガラス基板に製造される。そして、このガラス基板は、面取工程の後段に配された洗浄工程、及び検査工程を経て表面研磨工程に移送され、ここで製品厚さのガラス基板に製造される。なお、これらの工程は生産効率の観点より1ラインで行われることが多いが、一品生産の場合は、各装置にガラス基板を持ち込んで加工することもある。   A glass substrate for an FPD (Flat Panel Display) such as a liquid crystal display or a plasma display is manufactured by the following method. For example, a glass ribbon formed in a strip shape by a glass ribbon forming apparatus such as a float kiln is cut into a glass substrate having a predetermined rectangular size in a cutting process, and the end face is chamfered in a chamfering process. Thus, a glass substrate having an external dimension as a product is manufactured. Then, the glass substrate is transferred to the surface polishing step through a cleaning step and an inspection step arranged after the chamfering step, and is manufactured into a glass substrate having a product thickness here. These processes are often performed in one line from the viewpoint of production efficiency, but in the case of one-piece production, a glass substrate may be brought into each apparatus for processing.

図9は、従来のガラス基板の切折工程及び面取工程の工程説明図である。また、図10は、その切折工程及び面取工程におけるガラス基板の流れを示すフローチャートである。   FIG. 9 is a process explanatory diagram of a conventional glass substrate cutting and chamfering process. Moreover, FIG. 10 is a flowchart which shows the flow of the glass substrate in the cutting process and the chamfering process.

これらの図に示すように、ガラスリボン成形装置によって帯状に成形されたガラスリボン100は、切機のカッター102によって長手方向と直交する方向に切線104が加工される(ステップS100)。この後、このガラスリボン100は、吸着パッドを備えた移載機106によって折機に搬送され、折機の押上げ部材108で切線104の箇所を押し上げることにより、切線104に沿って折られる(ステップS101)。これにより、ガラスリボン100から矩形状サイズのガラス基板Gが作り出される。   As shown in these drawings, the glass ribbon 100 formed into a strip shape by the glass ribbon forming apparatus is processed with a cutting line 104 in a direction perpendicular to the longitudinal direction by a cutter 102 of a cutting machine (step S100). Thereafter, the glass ribbon 100 is conveyed to a folding machine by a transfer machine 106 having a suction pad, and is folded along the cutting line 104 by pushing up a portion of the cutting line 104 by a push-up member 108 of the folding machine ( Step S101). Thereby, a glass substrate G having a rectangular size is created from the glass ribbon 100.

次にガラス基板Gは、移載機110に吸着されてコンベア112に移送される(ステップS102)。ここでガラス基板Gは、固定の位置決めピン114、114と可動の追い込みピン116、116とが、ガラス基板Gの四辺に沿って対向配置された位置決め装置118によってコンベア112上で位置決めされる(ステップS103)。ガラス基板Gの位置決め動作については、まず、位置決めピン114、114と追い込みピン116、116との間のコンベア112上にガラス基板Gを置く。次に、追い込みピン116、116を位置決めピン114、114に向けて移動させる。これにより、追い込みピン116、116がガラス基板Gに接触し、継続する追い込みピン116、116の移動によりガラス基板Gが位置決めピン114、114に向けて押されていく。そして、押されたガラス基板Gが位置決めピン114、114に接触した時点で追い込みピン116、116の移動を停止する。以上の動作によって、ガラス基板Gがコンベア112上で位置決めされる。位置決めされたガラス基板Gは、コンベア112によって搬送され、第1の面取装置120のテーブル122上に移載される(ステップS104)。ここでガラス基板Gは、テーブル122のエアーブロー動作によりフローティングされるとともに、位置決めピン124、124と追い込みピン126、126とからなる位置決め装置128によってテーブル122上で位置決めされる(ステップS105)。ガラス基板Gの位置決め動作は、前記と同様である。この位置決め動作に約1〜2秒費やされる。位置決めされたガラス基板Gは、エアーブロー動作から吸引動作に切り替えられたテーブル122によって、位置決めされた姿勢でテーブル122に吸着される(ステップS106)。この後、ガラス基板Gは、第1の面取装置120の一対の砥石130、132によって、その端面の両長辺部(両短辺部でもよい)が面取りされる(ステップS107)。   Next, the glass substrate G is attracted to the transfer machine 110 and transferred to the conveyor 112 (step S102). Here, the glass substrate G is positioned on the conveyor 112 by a positioning device 118 in which fixed positioning pins 114 and 114 and movable driving pins 116 and 116 are arranged to face each other along the four sides of the glass substrate G (step). S103). Regarding the positioning operation of the glass substrate G, first, the glass substrate G is placed on the conveyor 112 between the positioning pins 114 and 114 and the driving pins 116 and 116. Next, the driving pins 116 and 116 are moved toward the positioning pins 114 and 114. Accordingly, the driving pins 116 and 116 come into contact with the glass substrate G, and the glass substrate G is pushed toward the positioning pins 114 and 114 by the continuous movement of the driving pins 116 and 116. Then, when the pushed glass substrate G comes into contact with the positioning pins 114 and 114, the movement of the driving pins 116 and 116 is stopped. The glass substrate G is positioned on the conveyor 112 by the above operation. The positioned glass substrate G is conveyed by the conveyor 112 and transferred onto the table 122 of the first chamfering device 120 (step S104). Here, the glass substrate G is floated by the air blowing operation of the table 122 and is positioned on the table 122 by the positioning device 128 including the positioning pins 124 and 124 and the driving pins 126 and 126 (step S105). The positioning operation of the glass substrate G is the same as described above. This positioning operation takes about 1 to 2 seconds. The positioned glass substrate G is adsorbed to the table 122 in the positioned posture by the table 122 switched from the air blowing operation to the suction operation (step S106). Thereafter, the glass substrate G is chamfered by the pair of grindstones 130 and 132 of the first chamfering device 120 at both long sides (or both short sides) of the end surface (step S107).

長辺部が面取りされたガラス基板Gは、移載機134によってテーブル122から第2の面取装置136のテーブル138に対して、ガラス基板Gの面内方向において90度回動させた姿勢で載置される。ここでガラス基板Gは、テーブル138のエアーブロー動作によりフローティングされるとともに、位置決めピン140、140と追い込みピン142、142とからなる位置決め装置144によってテーブル138上で位置決めされる(ステップS108)。ガラス基板Gの位置決め動作は、前記と同様である。この位置決め動作に約1〜2秒費やされる。位置決めされたガラス基板Gは、テーブル138の吸引動作により位置決めされた姿勢でテーブル138に吸着される(ステップS109)。この後、ガラス基板Gは、第2の面取装置136の一対の砥石146、148によって、その端面の両短辺部(両長辺部でもよい)が面取りされる(ステップS110)。以上のフローによってガラスリボン100から矩形状サイズのガラス基板Gが作り出されて、ガラス基板Gの端面が面取りされる。   The glass substrate G whose long side portion is chamfered is rotated 90 degrees in the in-plane direction of the glass substrate G from the table 122 to the table 138 of the second chamfering device 136 by the transfer machine 134. Placed. Here, the glass substrate G is floated by the air blowing operation of the table 138 and is positioned on the table 138 by the positioning device 144 including the positioning pins 140 and 140 and the driving pins 142 and 142 (step S108). The positioning operation of the glass substrate G is the same as described above. This positioning operation takes about 1 to 2 seconds. The positioned glass substrate G is attracted to the table 138 in a position positioned by the suction operation of the table 138 (step S109). Thereafter, the glass substrate G is chamfered by the pair of grindstones 146 and 148 of the second chamfering device 136 at both short sides (or both long sides) of the end surface (step S110). The glass substrate G having a rectangular size is created from the glass ribbon 100 by the above flow, and the end surface of the glass substrate G is chamfered.

一方、特許文献1に開示された面取装置は、ガラス基板の両主面を挟持する上下一対の無端状ベルトとガラス基板を吸着保持する吸着パッドとを備えている。上下一対の無端状ベルトによってガラス基板の両主面を挟持するとともに吸着パッドによってガラス基板を吸着保持し、上下一対の無端状ベルト及び吸着パッドによってガラス基板を所定の方向に搬送する。この搬送中に、ガラス基板の端面方向の両側に配置された面取用砥石によってガラス基板の端面を面取りする。   On the other hand, the chamfering device disclosed in Patent Document 1 includes a pair of upper and lower endless belts that sandwich both main surfaces of a glass substrate and a suction pad that sucks and holds the glass substrate. Both main surfaces of the glass substrate are sandwiched between a pair of upper and lower endless belts, the glass substrate is sucked and held by a suction pad, and the glass substrate is conveyed in a predetermined direction by a pair of upper and lower endless belts and a suction pad. During this conveyance, the end surface of the glass substrate is chamfered by a chamfering grindstone disposed on both sides in the end surface direction of the glass substrate.

図11は、特許文献1の面取装置による面取工程とその前段の切折工程とを含む工程説明図である。   FIG. 11 is a process explanatory diagram including a chamfering process by the chamfering apparatus of Patent Document 1 and a cutting process in the preceding stage.

同図に示すように、ガラスリボン成形装置によって帯状に成形されたガラスリボン150は、切機のカッター152によって長手方向と直交する方向に切線154が加工される。この後、このガラスリボン150は、移載機156によって折機に搬送され、折機の押上げ部材158で切線154の箇所を押し上げることにより切線154に沿って折られる。これにより、ガラスリボン150から矩形状サイズのガラス基板Gが作り出される。   As shown in the drawing, a glass ribbon 150 formed into a strip shape by a glass ribbon forming apparatus is processed with a cutting line 154 in a direction perpendicular to the longitudinal direction by a cutter 152 of a cutting machine. Thereafter, the glass ribbon 150 is conveyed to the folding machine by the transfer machine 156, and is folded along the cutting line 154 by pushing up the portion of the cutting line 154 with the push-up member 158 of the folding machine. As a result, a glass substrate G having a rectangular size is created from the glass ribbon 150.

次にガラス基板Gは、移載機160によって吸着されて第1の面取装置162のテーブル164上に移送される。ここでガラス基板Gは、位置決めピン166、166と追い込みピン168、168とを備えた位置決め装置170によってテーブル164上で位置決めされる。位置決めされたガラス基板Gは、両主面側に配置された上下一対の無端状ベルト172、172(同図では下側の無端状ベルト172のみ図示)と不図示の吸着パッドによって矢印方向に搬送される。そして、搬送中のガラス基板Gの端面の両短辺部の位置がセンサ174、176によって非接触で検出される。センサ174、176によって検出された端面の両短辺部の位置情報は不図示の位置制御部に出力される。   Next, the glass substrate G is adsorbed by the transfer device 160 and transferred onto the table 164 of the first chamfering device 162. Here, the glass substrate G is positioned on the table 164 by a positioning device 170 including positioning pins 166 and 166 and driving pins 168 and 168. The positioned glass substrate G is transported in the direction of the arrow by a pair of upper and lower endless belts 172 and 172 (only the lower endless belt 172 is shown in the figure) and suction pads not shown. Is done. The positions of both short sides of the end surface of the glass substrate G being conveyed are detected by the sensors 174 and 176 in a non-contact manner. Position information of both short sides of the end face detected by the sensors 174 and 176 is output to a position control unit (not shown).

この位置制御部は、センサ174によって検出された位置情報に基づき面取用砥石178の駆動部を制御し、面取用砥石178を一方の短辺部の形状に追従するようにガラス基板Gの搬送方向に直交する方向に移動制御する。これと同様に、位置制御部は、センサ176によって検出された位置情報に基づき面取用砥石180の駆動部を制御し、面取用砥石180を他方の短辺部の形状に追従するようにガラス基板Gの搬送方向に直交する方向に移動制御する。よって、ガラス基板Gが面取用砥石178、180を通過した時点でガラス基板Gの両短辺部が面取りされる。   The position control unit controls the driving unit of the chamfering grindstone 178 based on the position information detected by the sensor 174, and the chamfering grindstone 178 follows the shape of one short side portion of the glass substrate G. Movement control is performed in a direction orthogonal to the transport direction. Similarly, the position control unit controls the driving unit of the chamfering grindstone 180 based on the position information detected by the sensor 176 so that the chamfering grindstone 180 follows the shape of the other short side. Movement control is performed in a direction orthogonal to the conveyance direction of the glass substrate G. Therefore, both short sides of the glass substrate G are chamfered when the glass substrate G passes the chamfering grindstones 178 and 180.

両短辺部が面取りされたガラス基板Gは、移載機182によって第2の面取装置184のテーブル186に対して、ガラス基板Gの面内方向において90度回動させた姿勢で載置される。ここでガラス基板Gは、位置決めピン188、188と追い込みピン190、190とを有する位置決め装置192によって位置決めされる。位置決めされたガラス基板Gは、両主面側に配置された上下一対の無端状ベルト194、194と不図示の吸着パッドによって矢印方向に搬送される。そして、搬送中のガラス基板Gの端面の両長辺部の位置がセンサ196、198によって非接触で検出される。センサ196、198によって検出された端面の両長辺部の位置情報は不図示の位置制御部に出力される。この位置制御部は、センサ196によって検出された位置情報に基づき面取用砥石200の駆動部を制御し、面取用砥石200を一方の長辺部の形状に追従するようにガラス基板Gの搬送方向に直交する方向に移動制御する。これと同様に、位置制御部は、センサ198によって検出された位置情報に基づき面取用砥石202の駆動部を制御し、面取用砥石202を他方の長辺部の形状に追従するようにガラス基板Gの搬送方向に直交する方向に移動制御する。よって、ガラス基板Gが面取用砥石200、202を通過した時点でガラス基板Gの両長辺部が面取りされる。以上のフローによってガラスリボン150から矩形状サイズのガラス基板Gが作り出されて、ガラス基板Gの端面が面取りされる。   The glass substrate G whose both short sides are chamfered is placed in a posture rotated 90 degrees in the in-plane direction of the glass substrate G with respect to the table 186 of the second chamfering device 184 by the transfer machine 182. Is done. Here, the glass substrate G is positioned by a positioning device 192 having positioning pins 188 and 188 and driving pins 190 and 190. The positioned glass substrate G is conveyed in the direction of the arrow by a pair of upper and lower endless belts 194 and 194 disposed on both main surfaces and a suction pad (not shown). The positions of both long sides of the end surface of the glass substrate G being conveyed are detected by the sensors 196 and 198 in a non-contact manner. Position information of both long sides of the end face detected by the sensors 196 and 198 is output to a position control unit (not shown). The position control unit controls the driving unit of the chamfering grindstone 200 based on the position information detected by the sensor 196, and the chamfering grindstone 200 follows the shape of one long side portion of the glass substrate G. Movement control is performed in a direction orthogonal to the transport direction. Similarly, the position control unit controls the driving unit of the chamfering grindstone 202 based on the position information detected by the sensor 198 so that the chamfering grindstone 202 follows the shape of the other long side portion. Movement control is performed in a direction orthogonal to the conveyance direction of the glass substrate G. Therefore, when the glass substrate G passes the chamfering grindstones 200 and 202, both long side portions of the glass substrate G are chamfered. The glass substrate G having a rectangular size is created from the glass ribbon 150 by the above flow, and the end surface of the glass substrate G is chamfered.

特開2008−213090号公報JP 2008-213090 A

図9の従来装置の砥石130、132、146、148は、ガラス基板Gの端面の位置を検出し、検出した端面に沿って移動するように制御されたものではない。すなわち、位置決め装置128、144によって規定された経路に沿って移動して、ガラス基板Gの端面を面取加工する砥石である。したがって、この従来装置は、位置決め装置128、144が必要不可欠であり、それに伴いガラス基板Gの位置決めに時間を要する。ガラス基板Gの位置決め時間は、ガラス基板一枚につき約2〜4秒と短時間ではあるが、面取工程全体の1割程度の時間が位置決めに割かれる。また、ガラス基板Gを月産数万枚以上生産する設備では、位置決め時間が長時間となるため、ガラス基板Gの生産効率を低下させる大きな原因となっていた。FPDは、薄型化、軽量化が課題であり、ガラス基板Gも板厚をさらに薄くすることが望まれている。ただし、ガラス基板Gの板厚をさらに薄くした場合、位置決め時のガラス基板Gの破損を防止するため、ガラス基板Gの移動を遅くする必要がある。したがって、ガラス基板Gの位置決め時間はさらに長くなり、ガラス基板Gの生産効率がさらに低下する恐れがある。   The grindstones 130, 132, 146, and 148 of the conventional apparatus in FIG. 9 are not controlled to detect the position of the end face of the glass substrate G and move along the detected end face. That is, the grindstone moves along the path defined by the positioning devices 128 and 144 and chamfers the end surface of the glass substrate G. Therefore, in this conventional apparatus, the positioning devices 128 and 144 are indispensable, and accordingly, it takes time to position the glass substrate G. The positioning time of the glass substrate G is as short as about 2 to 4 seconds per glass substrate, but about 10% of the entire chamfering process is devoted to positioning. In addition, in equipment that produces tens of thousands or more of glass substrates G per month, the positioning time is long, which is a major cause of reducing the production efficiency of the glass substrates G. The FPD has a problem of thinning and lightening, and the glass substrate G is desired to be further thinned. However, when the thickness of the glass substrate G is further reduced, it is necessary to slow the movement of the glass substrate G in order to prevent damage to the glass substrate G during positioning. Therefore, the positioning time of the glass substrate G is further increased, and the production efficiency of the glass substrate G may be further reduced.

一方、図11で示した特許文献1の面取装置は、センサ174、176、196、198によってガラス基板Gの端面の位置を非接触で検出し、検出した端面に沿って砥石178、180、200、202を移動するように制御する装置である。しかしながら、特許文献1の面取装置は、上下一対の無端状ベルト172、194及び吸着パッドによってガラス基板Gを搬送するために、上下一対の無端状ベルト172、194及び吸着パッドに対する位置決めが位置決め装置170、192によって行われている。よって、特許文献1の面取装置においても、位置決め装置170、192によるガラス基板Gの位置決めを必要とするので、上記従来装置と同様にガラス基板Gの生産効率を低下させる大きな原因となっていた。   On the other hand, the chamfering device of Patent Document 1 shown in FIG. 11 detects the position of the end face of the glass substrate G by the sensors 174, 176, 196, 198 in a non-contact manner, and grindstones 178, 180, 200 and 202 are devices that control to move. However, the chamfering device disclosed in Patent Document 1 is a positioning device in which positioning with respect to the pair of upper and lower endless belts 172 and 194 and the suction pad is carried by the pair of upper and lower endless belts 172 and 194 and the suction pad. 170, 192. Therefore, since the chamfering apparatus of Patent Document 1 also requires positioning of the glass substrate G by the positioning devices 170 and 192, it has been a major cause of reducing the production efficiency of the glass substrate G as in the conventional apparatus. .

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ガラス基板を位置決めすることなく面取加工を行うことにより、ガラス基板の生産効率を向上させることができるガラス基板の加工方法及びその装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a glass substrate processing method and apparatus capable of improving the production efficiency of a glass substrate by performing chamfering without positioning the glass substrate. The purpose is to provide.

本発明のガラス基板の加工方法は、前記目的を達成するために、面取装置のテーブルに載置されたガラス基板を前記テーブルに固定する工程と、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する工程と、前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する工程と、前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石を移動させることにより、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面を前記面取用砥石によって面取加工する工程と、を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, the glass substrate processing method of the present invention includes a step of fixing a glass substrate placed on a table of a chamfering device to the table, and an end surface of the glass substrate fixed to the table. Obtaining the position information, calculating the processing start position and the processing end position of the chamfering grindstone for chamfering the end face of the glass substrate based on the position information, and from the processing start position to the processing end position. And chamfering the end surface of the glass substrate fixed to the table with the chamfering grindstone by moving the chamfering grindstone toward the chamfering wheel.

本発明のガラス基板の加工装置は、前記目的を達成するために、面取装置に設けられたテーブルと、前記テーブルに載置されたガラス基板を該テーブルに固定する固定手段と、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する非接触センサと、前記面取装置に設けられるとともに前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石と、前記面取用砥石を移動させる移動手段と、前記面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する算出手段と、前記加工開始位置及び前記加工終了位置の位置情報に基づき、前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石が移動するように前記移動手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。   In order to achieve the above object, the glass substrate processing apparatus of the present invention comprises a table provided in a chamfering device, a fixing means for fixing the glass substrate placed on the table to the table, and the table. A non-contact sensor that acquires positional information of the end face of the fixed glass substrate, a chamfering grindstone that is provided in the chamfering device and chamfers the end face of the glass substrate, and a movement that moves the chamfering grindstone Means for calculating the processing start position and the processing end position of the chamfering grindstone based on the position information, and based on the position information of the processing start position and the processing end position, from the processing start position to the processing And a control means for controlling the moving means so that the chamfering grindstone moves toward the end position.

本発明によれば、まず、テーブルにガラス基板が載置されると、このガラス基板を位置決めすることなく固定手段によってテーブルに固定する。次に、この状態のガラス基板の端面の位置情報を非接触センサによって取得し、この位置情報と所望の研削代とを考慮した加工開始位置及び加工終了位置を算出手段によって算出する。次いで、算出した加工開始位置及び加工終了位置の位置情報に基づき、加工開始位置から加工終了位置に向けて面取用砥石が直線移動するように制御手段が移動手段を制御する。これにより、ガラス基板を位置決めすることなくガラス基板の端面を面取加工することができるので、ガラス基板の生産効率を向上させることができる。   According to the present invention, first, when a glass substrate is placed on the table, the glass substrate is fixed to the table by the fixing means without positioning. Next, the position information of the end face of the glass substrate in this state is acquired by a non-contact sensor, and the processing start position and the processing end position in consideration of this position information and a desired grinding allowance are calculated by the calculation means. Next, based on the position information of the calculated machining start position and machining end position, the control means controls the moving means so that the chamfering grindstone moves linearly from the machining start position to the machining end position. Thereby, since the end surface of a glass substrate can be chamfered without positioning a glass substrate, the production efficiency of a glass substrate can be improved.

前述した面取用砥石の加工開始位置、加工終了位置を設定するアルゴリズムについて説明する。   An algorithm for setting the machining start position and the machining end position of the chamfering grindstone will be described.

まず、テーブル上で事前に位置決めをして固定した状態でのガラス基板の端面の位置情報を非接触センサによって取得し、この位置をマスタ位置として登録する。そして、加工対象のガラス基板が面取装置に搬送されてくると、このガラス基板をテーブル上で位置決めすることなく固定する。次に、位置決めしない状態でのガラス基板の端面の位置情報を、非接触センサによって加工辺部2点、及び加工辺部に直交する辺部1点の計3点について取得する。次いで、この取得した位置と、前記マスタ位置との差分を算出手段によって算出する。非接触センサによる検出位置は、ガラス基板の端面に存在するので、算出手段が外挿補間を行って、加工開始位置のX、Y座標値、及び加工終了位置のX、Y座標値のマスタ位置からのずれ量を算出する。そして、算出したずれ量と所望の研削代とに基づいて、加工開始位置と加工終了位置とを補正して算出し、補正して算出した加工開始位置と加工終了位置とに基づいて直線補間を行い、この直線に沿って面取用砥石が移動するように制御手段から移動手段に直線加工指示を出力する。   First, the position information of the end surface of the glass substrate in a state where the positioning and fixing are performed in advance on the table is acquired by a non-contact sensor, and this position is registered as a master position. When the glass substrate to be processed is conveyed to the chamfering device, the glass substrate is fixed without being positioned on the table. Next, the positional information of the end surface of the glass substrate in a non-positioned state is acquired by a non-contact sensor for a total of three points including two processing side portions and one side portion orthogonal to the processing side portion. Next, the difference between the acquired position and the master position is calculated by the calculating means. Since the detection position by the non-contact sensor exists on the end surface of the glass substrate, the calculation means performs extrapolation interpolation, and the master position of the X and Y coordinate values of the processing start position and the X and Y coordinate values of the processing end position. The amount of deviation from is calculated. Based on the calculated deviation amount and the desired grinding allowance, the machining start position and the machining end position are corrected and calculated, and linear interpolation is performed based on the corrected machining start position and machining end position. Then, a linear machining instruction is output from the control means to the moving means so that the chamfering grindstone moves along this straight line.

非接触センサによるセンシング時間は0.1〜0.5秒である。また、加工辺部2点の測定点は、ガラス基板のエッジ近傍の点をとることが、精度の高い直線補間を行う観点から好ましい。非接触センサによるセンシング位置は前記3点に限定されるものではない。非接触センサとしては、レーザー変位計、CCDカメラを例示することができる。CCDカメラの場合には、CCDカメラでガラス基板の端面を撮像し、この画像信号を二値化処理して端面のエッジ情報を抽出し、このエッジ情報の所定の一点を位置情報として取得する。   The sensing time by the non-contact sensor is 0.1 to 0.5 seconds. Moreover, it is preferable from the viewpoint of performing linear interpolation with high accuracy that the measurement points of the two processing side portions are points in the vicinity of the edge of the glass substrate. The sensing position by the non-contact sensor is not limited to the three points. As the non-contact sensor, a laser displacement meter and a CCD camera can be exemplified. In the case of a CCD camera, the end face of the glass substrate is imaged by the CCD camera, the image signal is binarized to extract edge information of the end face, and a predetermined point of the edge information is acquired as position information.

次に、面取用砥石をガラス基板の端面に対して進退移動させる移動手段の制御アルゴリズムについて説明する。   Next, a control algorithm for moving means for moving the chamfering grindstone back and forth with respect to the end face of the glass substrate will be described.

算出手段は、加工開始位置から加工終了位置までの直線補間値を算出する。制御手段は、前記直線補間値に基づき、面取用砥石のX方向(面取用砥石の走行方向)の移動に同期して直線補間値に合うように、面取用砥石をY方向(X方向に直交する方向)に進退移動させる進退移動指令を移動手段に出力する。面取用砥石の移動軌跡をミクロ的に見ると階段状になっている。つまり、面取用砥石がX方向に所定の距離を移動した後に、Y方向に所定の距離を移動し、これらX方向の移動及びY方向の移動を繰り返し行いながら、加工開始位置から加工終了位置を結ぶ直線上を走行する。移動手段としてはサーボモータ、及びこのサーボモータによって駆動されて面取用砥石を移動させる送りねじを例示できる。算出手段としては、マスタ位置を登録可能なRAMを有するCPUを例示できる。制御手段としては、算出手段によって算出された位置情報に基づいて移動手段を制御するモーションコントローラを例示できる。   The calculation means calculates a linear interpolation value from the machining start position to the machining end position. Based on the linear interpolation value, the control means moves the chamfering grindstone in the Y direction (X) so as to match the linear interpolation value in synchronization with the movement of the chamfering grindstone in the X direction (traveling direction of the chamfering grindstone). A forward / backward movement command for moving forward / backward in a direction orthogonal to the direction is output to the moving means. When the movement trajectory of the chamfering grindstone is viewed microscopically, it is stepped. That is, after the chamfering grindstone moves a predetermined distance in the X direction, the chamfering grindstone moves a predetermined distance in the Y direction, and repeats the movement in the X direction and the movement in the Y direction, while moving from the machining start position to the machining end position. Drive on a straight line connecting Examples of the moving means include a servo motor and a feed screw that is driven by the servo motor to move the chamfering grindstone. An example of the calculating means is a CPU having a RAM capable of registering a master position. An example of the control means is a motion controller that controls the moving means based on the position information calculated by the calculating means.

本発明のガラス基板の加工方法は、前記目的を達成するために、成形装置によって帯状に成形されたガラスリボンを切折加工して所定の矩形状のガラス基板に製造する工程と、前記切折加工された前記ガラス基板を面取装置のテーブルに移載する工程と、前記面取装置のテーブルに載置されたガラス基板を前記テーブルに固定する工程と、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する工程と、前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する工程と、前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石を移動させることにより、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面を前記面取用砥石によって面取加工する工程と、を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, the glass substrate processing method of the present invention includes a step of cutting a glass ribbon formed into a strip shape by a forming device into a predetermined rectangular glass substrate, and the cutting A step of transferring the processed glass substrate to a table of a chamfering device; a step of fixing the glass substrate placed on the table of the chamfering device to the table; and the glass substrate fixed to the table. Acquiring the position information of the end surface of the glass substrate, calculating the processing start position and processing end position of the chamfering grindstone for chamfering the end surface of the glass substrate based on the position information, and the processing end from the processing start position Chamfering the end surface of the glass substrate fixed to the table with the chamfering grindstone by moving the chamfering grindstone toward the position. The features.

本発明のガラス基板の加工装置は、前記目的を達成するために、成形装置によって帯状に成形されたガラスリボンを切折加工して所定の矩形状のガラス基板に製造する切折手段と、前記切折加工された前記ガラス基板を面取装置のテーブルに移載する移載手段と、前記面取装置のテーブルに載置されたガラス基板を前記テーブルに固定する固定手段と、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する非接触センサと、前記面取装置に設けられるとともに前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石と、前記面取用砥石を移動させる移動手段と、前記面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する算出手段と、前記加工開始位置及び前記加工終了位置の位置情報に基づき、前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石が移動するように前記移動手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。   In order to achieve the above object, the glass substrate processing apparatus of the present invention includes a folding means for cutting a glass ribbon formed into a strip shape by a molding apparatus into a predetermined rectangular glass substrate, Transfer means for transferring the cut glass substrate to the table of the chamfering device, fixing means for fixing the glass substrate placed on the table of the chamfering device to the table, and fixing to the table A non-contact sensor that acquires position information of the end face of the glass substrate, a chamfering grindstone that is provided in the chamfering device and chamfers the end face of the glass substrate, and a moving means that moves the chamfering grindstone And a calculation means for calculating a processing start position and a processing end position of the chamfering grindstone based on the position information, and the processing start based on the position information of the processing start position and the processing end position. The chamfering grindstone toward et the machining end position located is characterized by comprising a control means for controlling said moving means to move.

本発明は、切折工程を含むガラス基板の面取方法の発明、及び切折手段を含むガラス基板の面取装置の発明である。   This invention is invention of the chamfering method of the glass substrate containing a cutting process, and invention of the chamfering apparatus of the glass substrate containing a cutting means.

本発明によれば、まず、成形装置によって帯状に成形されたガラスリボンを切折手段によって、所定の矩形状のガラス基板に製造する。次に、切折加工されたガラス基板を移載手段によって面取装置のテーブルに移載する。次いで、このガラス基板を固定手段によってテーブルに固定する。このように、切折手段によって製造されたガラス基板は、面取装置の前段においても位置決めされることなく、面取装置のテーブルに固定されるので、ガラス基板の生産効率が更に向上する。   According to the present invention, first, a glass ribbon formed into a strip shape by a forming apparatus is manufactured on a predetermined rectangular glass substrate by a cutting means. Next, the cut glass substrate is transferred to the table of the chamfering device by the transfer means. Next, the glass substrate is fixed to the table by fixing means. Thus, since the glass substrate manufactured by the cutting means is fixed to the table of the chamfering device without being positioned even in the previous stage of the chamfering device, the production efficiency of the glass substrate is further improved.

本発明のガラス基板の加工方法によれば、面取加工後の前記ガラス基板の端面の位置情報を取得し、該面取加工後の位置情報と面取加工前の前記位置情報とに基づいて、前記面取用砥石による研削代を算出することが好ましい。   According to the processing method of the glass substrate of the present invention, the position information of the end face of the glass substrate after the chamfering process is acquired, and the position information after the chamfering process and the position information before the chamfering process are obtained. The grinding allowance with the chamfering grindstone is preferably calculated.

本発明のガラス基板の面取装置によれば、前記非接触センサは、面取加工後の前記ガラス基板の端面の位置情報を取得し、前記算出手段は、前記面取加工後の位置情報と面取加工前の前記位置情報とに基づいて、前記面取用砥石による研削代を算出することが好ましい。   According to the glass substrate chamfering apparatus of the present invention, the non-contact sensor acquires position information of the end surface of the glass substrate after the chamfering process, and the calculation means includes the position information after the chamfering process and It is preferable to calculate a grinding allowance by the chamfering grindstone based on the position information before chamfering.

本発明によれば、面取用砥石による実際の研削代を確認できることから、面取用砥石の現在の磨耗量を間接的に確認できる。面取用砥石のY方向移動を制御するためのパラメータに面取用砥石の磨耗量を加えることにより、研削代を一定にすることができ、安定した面取加工を実施できる。   According to the present invention, since the actual grinding allowance with the chamfering grindstone can be confirmed, the current wear amount of the chamfering grindstone can be indirectly confirmed. By adding the amount of wear of the chamfering grindstone to the parameter for controlling the Y-direction movement of the chamfering grindstone, the grinding allowance can be made constant and stable chamfering can be performed.

また、本発明の加工方法及び装置は、前記面取加工する工程において、前記ガラス基板は、所定の基準位置に対して斜めの状態で前記面取加工用砥石により面取加工されることが好ましい。   In the processing method and apparatus of the present invention, in the chamfering step, the glass substrate is preferably chamfered by the chamfering grindstone in an oblique state with respect to a predetermined reference position. .

所定の基準位置とは、従来の位置決め装置によって位置決めされるガラス基板の仮想の位置である。本発明では、このような位置ではなく、ガラス基板がテーブルに搬送されてきたそのままの姿勢、つまり、前記基準位置に対して斜めの状態であってもガラス基板の面取加工を実施できる。よって、テーブルにおけるガラス基板の位置決め時間が省かれることにより、ガラス基板の生産効率が向上する。   The predetermined reference position is a virtual position of the glass substrate that is positioned by a conventional positioning device. In the present invention, the chamfering process of the glass substrate can be carried out even if the glass substrate is not in such a position but is in the posture in which the glass substrate is transported to the table, that is, in an oblique state with respect to the reference position. Therefore, the glass substrate production efficiency is improved by omitting the time for positioning the glass substrate on the table.

また、本発明の加工方法及び装置は、前記ガラス基板の板厚が0.3mm〜2.4mm、好ましくは0.5mm〜0.7mmであることが好ましい。   In the processing method and apparatus of the present invention, the glass substrate preferably has a thickness of 0.3 mm to 2.4 mm, preferably 0.5 mm to 0.7 mm.

本発明では、このような薄板のガラス基板であっても、テーブルに対する位置決めが不要なので、位置決めに要する時間を省くことができ、また、位置決め時に生じるガラス基板の破損を防止できる。よって、ガラス基板が薄板であっても、そのガラス基板の生産効率を向上させることができる。   In the present invention, even such a thin glass substrate does not require positioning with respect to the table, so that the time required for positioning can be saved, and breakage of the glass substrate that occurs during positioning can be prevented. Therefore, even if the glass substrate is a thin plate, the production efficiency of the glass substrate can be improved.

また、本発明の加工方法及び装置は、前記ガラス基板がFPD用のガラス基板であることが好ましい。   In the processing method and apparatus of the present invention, the glass substrate is preferably a glass substrate for FPD.

本発明は、テーブルに対するガラス基板の位置決めが不要なので、極薄のFPD用のガラス基板の加工に好適である。   Since the positioning of the glass substrate with respect to the table is unnecessary, the present invention is suitable for processing an extremely thin FPD glass substrate.

本発明に係るガラス基板の加工方法及びその装置によれば、ガラス基板を位置決めすることなくガラス基板を面取加工するので、ガラス基板の生産効率を向上させることができる。   According to the method and apparatus for processing a glass substrate according to the present invention, since the glass substrate is chamfered without positioning the glass substrate, the production efficiency of the glass substrate can be improved.

実施の形態を説明するためのガラス基板の切折工程及び面取工程を示した工程説明図Process explanatory drawing which showed the cutting process and chamfering process of the glass substrate for demonstrating embodiment 図1に示した切折工程及び面取工程におけるガラス基板の流れを示すフローチャートThe flowchart which shows the flow of the glass substrate in the cutting process and chamfering process shown in FIG. 実施の形態のガラス基板の面取装置を拡大して示した平面図The top view which expanded and showed the chamfering device of the glass substrate of an embodiment 実施の形態のガラス基板の面取装置の構成を示したブロック図The block diagram which showed the structure of the chamfering apparatus of the glass substrate of embodiment 面取用砥石の加工開始位置、加工終了位置を検出するアルゴリズムを説明するための模式図Schematic diagram for explaining the algorithm for detecting the processing start position and processing end position of the chamfering grindstone 図5の模式図に対応するフローチャートFlowchart corresponding to the schematic diagram of FIG. 図3に示した面取用砥石の駆動機構を示した構造図Structural diagram showing the drive mechanism of the chamfering grindstone shown in FIG. 図7に示した移動機構の要部構造図FIG. 7 is a structural diagram of the main part of the moving mechanism shown in FIG. 従来のガラス基板の切折工程及び面取工程の工程説明図Process explanatory drawing of the conventional glass substrate cutting process and chamfering process 図9に示した切折工程及び面取工程におけるガラス基板の流れを示すフローチャートThe flowchart which shows the flow of the glass substrate in the cutting process and chamfering process shown in FIG. 特許文献1の面取装置による面取工程と切折工程とを含む工程説明図Process explanatory drawing containing the chamfering process and cutting process by the chamfering apparatus of patent document 1

以下、添付図面に従って本発明の実施の形態に係るガラス基板の加工方法及びその装置の好ましい形態について詳説する。   Hereinafter, preferred embodiments of a glass substrate processing method and apparatus according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、実施の形態を説明するためのガラス基板Gの切折工程及び面取工程を示した工程説明図である。また、図2は、その切折工程及び面取工程におけるガラス基板の流れを示すフローチャートである。   FIG. 1 is a process explanatory view showing a cutting process and a chamfering process of the glass substrate G for explaining the embodiment. Moreover, FIG. 2 is a flowchart which shows the flow of the glass substrate in the cutting process and a chamfering process.

これらの図に示すように、フロート窯等のガラスリボン成形装置によって帯状に成形されたガラスリボン1は、切機のカッター2によって長手方向と直交する方向に切線3が加工される(ステップS1)。この後、このガラスリボン1は、移載機4によって折機に搬送され、折機の押上げ部材5で切線3の箇所を押し上げることにより切線3に沿って折られる(ステップS2)。これにより、ガラスリボン1から矩形状サイズのガラス基板Gが作り出される。   As shown in these drawings, the glass ribbon 1 formed into a strip shape by a glass ribbon forming apparatus such as a float kiln is processed with a cutting line 3 in a direction perpendicular to the longitudinal direction by a cutter 2 of a cutting machine (step S1). . Thereafter, the glass ribbon 1 is conveyed to the folding machine by the transfer machine 4, and is folded along the cutting line 3 by pushing up the position of the cutting line 3 by the lifting member 5 of the folding machine (step S2). As a result, a glass substrate G having a rectangular size is created from the glass ribbon 1.

次にガラス基板Gは、移載機6に吸着されて第1の面取装置10側に搬送され、第1の面取装置10のテーブル12上に移載される(ステップS3)。ここでガラス基板Gは、位置決めされることなくテーブル12の吸引動作(固定手段)によってテーブル12に吸着固定される。この後、このガラス基板Gは、この姿勢で複数台(図1では5台)のレーザー変位計(非接触センサ)14、16、18、20、22によって端面の位置情報が非接触で検出される(ステップS4)。   Next, the glass substrate G is adsorbed by the transfer device 6 and conveyed to the first chamfering device 10 side, and transferred onto the table 12 of the first chamfering device 10 (step S3). Here, the glass substrate G is attracted and fixed to the table 12 by the suction operation (fixing means) of the table 12 without being positioned. Thereafter, the position information of the end face of the glass substrate G is detected in a non-contact manner by a plurality of (five in FIG. 1) laser displacement meters (non-contact sensors) 14, 16, 18, 20, 22 in this posture. (Step S4).

第1の面取装置10は図3に示すように、前述したレーザー変位計14〜22と、ガラス基板Gの対向する端面を面取加工する一対の面取用砥石24、26とを備えている。また、不図示であるが、ガラス基板Gの隅部をカットするコーナーカット砥石も配置されている。   As shown in FIG. 3, the first chamfering device 10 includes the laser displacement meters 14 to 22 described above and a pair of chamfering grindstones 24 and 26 that chamfer the opposing end surfaces of the glass substrate G. Yes. Although not shown, a corner cutting grindstone that cuts corners of the glass substrate G is also arranged.

レーザー変位計14、16は図3における下側の端面G1に、その検出面が対向配置されている。よって、レーザー変位計14、16に対向する端面G1の検出点P1、P2の位置情報(XY座標における座標点)がレーザー変位計14、16によって非接触で検出される。また、レーザー変位計18は、ガラス基板Gの流れ方向前方側の端面G2に、その検出面が対向配置されており、レーザー変位計18に対向する端面G2の検出点P3の位置情報(XY座標における座標点)が非接触で検出される。更に、レーザー変位計20、22は図3における上側の端面G3に、その検出面が対向配置されており、レーザー変位計20、22に対向する端面G3の検出点P4、P5の位置情報(XY座標における座標点)が非接触で検出される。   The laser displacement meters 14 and 16 are arranged so that their detection surfaces face the lower end surface G1 in FIG. Therefore, the position information (coordinate points in the XY coordinates) of the detection points P1 and P2 of the end face G1 facing the laser displacement meters 14 and 16 is detected by the laser displacement meters 14 and 16 in a non-contact manner. The laser displacement meter 18 has a detection surface opposed to an end surface G2 on the front side in the flow direction of the glass substrate G, and position information (XY coordinates) of a detection point P3 on the end surface G2 facing the laser displacement meter 18. Are detected in a non-contact manner. Further, the laser displacement meters 20 and 22 are arranged so that their detection surfaces are opposed to the upper end surface G3 in FIG. 3, and the position information (XY) of the detection points P4 and P5 of the end surface G3 facing the laser displacement meters 20 and 22 is obtained. The coordinate point in the coordinates is detected in a non-contact manner.

これらのレーザー変位計14〜22によって検出されたそれぞれの位置情報は、図4に示すCPU(算出手段)28に出力される。CPU28は、レーザー変位計14、16、18からの位置情報に基づいて、ガラス基板Gの端面G1に対する面取用砥石24の加工開始位置及び加工終了位置を算出するとともに、レーザー変位計18、20、22からの位置情報に基づいて、ガラス基板Gの端面G3に対する面取用砥石26の加工開始位置及び加工終了位置を算出する。   Each position information detected by these laser displacement meters 14 to 22 is output to a CPU (calculation means) 28 shown in FIG. The CPU 28 calculates the processing start position and the processing end position of the chamfering grindstone 24 with respect to the end surface G1 of the glass substrate G based on the position information from the laser displacement meters 14, 16, 18, and the laser displacement meters 18, 20 , 22, the machining start position and the machining end position of the chamfering grindstone 26 with respect to the end face G3 of the glass substrate G are calculated.

なお、レーザー変位計18によって検出される端面G2の位置情報は、後述するマスタ位置に対する横方向のずれ量として使用されるとともに、前述したコーナーカット砥石の位置制御にも使用される。また、後述するようにCPU28は、加工開始位置及び加工終了位置に基づいて面取用砥石24、26の移動軌跡を直線補間する。この場合、ガラス基板Gは、端面G1と端面G3とが略平行に製造されているため、例えば、端面G1のみの位置情報を取得して面取用砥石24の移動軌跡を直線補間し、端面G3に対する面取用砥石26の移動軌跡については、前記直線補間した面取用砥石24の移動軌跡に、ガラス基板Gの幅寸法を加算して得るようにしてもよい。この場合にはレーザー変位計20、22が不要になる。   The position information of the end face G2 detected by the laser displacement meter 18 is used as a lateral shift amount with respect to a master position, which will be described later, and is also used for the position control of the above-described corner cut grindstone. As will be described later, the CPU 28 linearly interpolates the movement trajectories of the chamfering grindstones 24 and 26 based on the machining start position and the machining end position. In this case, since the end surface G1 and the end surface G3 are manufactured substantially in parallel with each other, the glass substrate G acquires, for example, position information of only the end surface G1 and linearly interpolates the movement trajectory of the chamfering grindstone 24 to obtain the end surface. The movement trajectory of the chamfering grindstone 26 relative to G3 may be obtained by adding the width dimension of the glass substrate G to the movement trajectory of the chamfering grindstone 24 subjected to linear interpolation. In this case, the laser displacement meters 20 and 22 are not necessary.

前述した面取用砥石24の加工開始位置及び加工終了位置を設定するアルゴリズムについて、図5の模式図及び図6のフローチャートを用いて説明する。   An algorithm for setting the machining start position and the machining end position of the chamfering grindstone 24 will be described with reference to the schematic diagram of FIG. 5 and the flowchart of FIG.

まず、テーブル12(図1参照)上で事前に位置決めをして吸着した状態でのガラス基板の端面の位置情報をレーザー変位計14、16、18によって取得し、この位置をマスタ位置(値)MとしてCPU28のRAM30(図4参照)に登録する(ステップS10)。そして、加工対象のガラス基板Gが第1の面取装置10に搬送されてくると、このガラス基板Gをテーブル12上で位置決めすることなく吸着固定する。次に、位置決めしない状態でのガラス基板Gの端面G1、G2の位置情報を、レーザー変位計14、16、18によって3点取得する(ステップS11)。次いで、この取得した位置と、前記マスタ位置との差分をCPU28によって算出する。   First, the position information of the end face of the glass substrate in a state of being preliminarily positioned and sucked on the table 12 (see FIG. 1) is acquired by the laser displacement meters 14, 16, and 18, and this position is the master position (value). M is registered in the RAM 30 (see FIG. 4) of the CPU 28 (step S10). Then, when the glass substrate G to be processed is transferred to the first chamfering device 10, the glass substrate G is suction-fixed without being positioned on the table 12. Next, three pieces of position information of the end faces G1 and G2 of the glass substrate G in a non-positioned state are acquired by the laser displacement meters 14, 16, and 18 (step S11). Next, the CPU 28 calculates a difference between the acquired position and the master position.

ここでレーザー変位計14、16、18による測定位置は、ガラス基板Gの端面G1、G2内に存在するので、CPU28が外挿補間を実施し、加工開始位置(点)のXY座標値、及び加工終了位置(点)のXY座標値のマスタ位置からのずれ量を算出する。そして、算出したずれ量と所望の研削代とに基づいて、加工開始位置と加工終了位置とを補正して算出する(ステップS12)。そして、補正して算出した加工開始位置と加工終了位置とに基づいて直線補間を行い、直線加工指示をモーションコントローラ(制御手段)32に出力する(ステップS13)。モーションコントローラ32は、前述した直線加工指示に基づき、面取用砥石24を移動させる移動機構(移動手段)34のサーボモータ36、38を駆動制御する。なお、CPU28による加工開始位置と加工終了位置の算出速度は、0.1〜0.5秒である。また、上記したアルゴリズムは、面取用砥石26についても同様であるので、ここではその説明を省略する。   Here, since the measurement positions by the laser displacement meters 14, 16 and 18 exist in the end faces G1 and G2 of the glass substrate G, the CPU 28 performs extrapolation interpolation, and the XY coordinate values of the processing start positions (points), and The amount of deviation of the machining end position (point) from the master position of the XY coordinate value is calculated. Then, based on the calculated deviation amount and the desired grinding allowance, the machining start position and the machining end position are corrected and calculated (step S12). Then, linear interpolation is performed based on the corrected machining start position and machining end position, and a linear machining instruction is output to the motion controller (control means) 32 (step S13). The motion controller 32 drives and controls servo motors 36 and 38 of a moving mechanism (moving means) 34 that moves the chamfering grindstone 24 based on the above-described linear machining instruction. The calculation speed of the machining start position and the machining end position by the CPU 28 is 0.1 to 0.5 seconds. The algorithm described above is the same for the chamfering grindstone 26, and therefore, the description thereof is omitted here.

面取用砥石26によるガラス基板Gの全ての端面を加工後、ステップS11に戻り、次のガラス基板Gの端面を加工するために、ステップS11〜ステップS13の処理を繰り返す。同じ外形寸法のガラス基板Gを連続加工するときは、ステップS10の処理は1回だけでよい。ガラス基板Gの外形寸法を変更したときは、ステップS10の処理をした後に、ステップS11〜ステップS13の処理を繰り返す。   After all the end surfaces of the glass substrate G are processed by the chamfering grindstone 26, the process returns to step S11, and the processing of steps S11 to S13 is repeated in order to process the end surface of the next glass substrate G. When the glass substrate G having the same external dimensions is continuously processed, the process of step S10 may be performed only once. When the outer dimension of the glass substrate G is changed, the process of step S11 to step S13 is repeated after the process of step S10.

図7は、面取用砥石24、26の移動機構34、40の構造を示す平面図である。   FIG. 7 is a plan view showing the structure of the moving mechanisms 34 and 40 of the chamfering grindstones 24 and 26.

面取用砥石24の移動機構34は、サーボモータ36、38、サーボモータ36によって回転駆動される走行用送りねじ46、及びサーボモータ38によって回転駆動される研削代制御用送りねじ48から構成される。走行用送りねじ46は、面取用砥石24の走行方向であるX方向に沿って配置される。走行用送りねじ46に、面取用砥石24が搭載された走行用ナット部50が螺合されている。走行用ナット部50は、走行用送りねじ46に沿って走行移動されるように不図示の直動ガイド部材に係合されている。   The moving mechanism 34 of the chamfering grindstone 24 includes servomotors 36 and 38, a travel feed screw 46 that is rotationally driven by the servomotor 36, and a grinding allowance control feedscrew 48 that is rotationally driven by the servomotor 38. The The traveling feed screw 46 is disposed along the X direction, which is the traveling direction of the chamfering grindstone 24. A travel nut portion 50 on which the chamfering grindstone 24 is mounted is screwed onto the travel feed screw 46. The traveling nut portion 50 is engaged with a linear guide member (not shown) so as to travel along the traveling feed screw 46.

したがって、サーボモータ36によって走行用送りねじ46が回転されると、面取用砥石24が走行用ナット部50を介してX方向に走行移動される。なお、実線で示す面取用砥石24の位置が加工開始位置である。   Therefore, when the traveling feed screw 46 is rotated by the servo motor 36, the chamfering grindstone 24 travels in the X direction via the traveling nut portion 50. Note that the position of the chamfering grindstone 24 indicated by a solid line is the machining start position.

走行用ナット部50には図8に示すように、研削代制御用ナット部52が直動ガイド部材54を介して設けられている。研削代制御用ナット部52は走行用ナット部50に対し、直動ガイド部材54によって、X方向に直交するY方向に移動自在に支持される。また、研削代制御用ナット部52には研削代制御用送りねじ48が螺合される。更に、研削代制御用ナット部52の上部にはヘッド56が固定され、このヘッド56に、面取用砥石24を回転駆動するスピンドルモータ58が取り付けられている。スピンドルモータ58は、テーブル12に吸着固定されたガラス基板Gの端面G1に面取用砥石24が対向するように、ヘッド56に対して高さ調整されて設けられている。したがって、図7に示したサーボモータ38によって研削代制御用送りねじ48が回転されると、面取用砥石24が研削代制御用ナット部52及びヘッド56を介してY方向に移動される。この面取用砥石24のY方向移動が、面取用砥石24をガラス基板Gの端面G1に対して進退移動させる動作、すなわち研削代を制御する動作となる。この動作については後述する。   As shown in FIG. 8, the travel nut portion 50 is provided with a grinding allowance control nut portion 52 via a linear guide member 54. The grinding allowance control nut portion 52 is supported by the linear motion guide member 54 with respect to the traveling nut portion 50 so as to be movable in the Y direction orthogonal to the X direction. A grinding allowance control feed screw 48 is screwed into the grinding allowance control nut portion 52. Further, a head 56 is fixed to an upper portion of the grinding allowance control nut portion 52, and a spindle motor 58 that rotationally drives the chamfering grindstone 24 is attached to the head 56. The spindle motor 58 is provided with a height adjusted with respect to the head 56 such that the chamfering grindstone 24 faces the end surface G1 of the glass substrate G that is sucked and fixed to the table 12. Accordingly, when the grinding allowance control feed screw 48 is rotated by the servo motor 38 shown in FIG. 7, the chamfering grindstone 24 is moved in the Y direction via the grinding allowance control nut portion 52 and the head 56. The movement of the chamfering grindstone 24 in the Y direction is an operation of moving the chamfering grindstone 24 forward and backward with respect to the end surface G1 of the glass substrate G, that is, an operation of controlling a grinding allowance. This operation will be described later.

一方、面取用砥石26の移動機構40は、サーボモータ42、44、サーボモータ42によって回転駆動される走行用送りねじ60、及びサーボモータ44によって回転駆動される研削代制御用送りねじ62から構成される。走行用送りねじ60は、X方向に沿って配置される。走行用送りねじ60に、面取用砥石26が搭載された走行用ナット部64が螺合されている。走行用ナット部64は、走行用送りねじ60に沿って走行移動されるように不図示の直動ガイド部材に係合されている。したがって、サーボモータ42によって走行用送りねじ60が回転されると、面取用砥石26が走行用ナット部64を介してX方向に走行移動される。なお、実線で示す面取用砥石26の位置が加工開始位置である。   On the other hand, the moving mechanism 40 of the chamfering grindstone 26 includes servomotors 42 and 44, a travel feed screw 60 that is rotationally driven by the servomotor 42, and a grinding allowance control feedscrew 62 that is rotationally driven by the servomotor 44. Composed. The travel feed screw 60 is disposed along the X direction. A traveling nut portion 64 on which the chamfering grindstone 26 is mounted is screwed onto the traveling feed screw 60. The traveling nut portion 64 is engaged with a linear guide member (not shown) so as to travel along the traveling feed screw 60. Therefore, when the travel feed screw 60 is rotated by the servo motor 42, the chamfering grindstone 26 travels in the X direction via the travel nut portion 64. The position of the chamfering grindstone 26 indicated by the solid line is the machining start position.

走行用ナット部64に対する面取用砥石26の取付構造は、図8に示した面取用砥石24の取付構造と同一なので、ここでは説明を省略する。したがって、サーボモータ44による面取用砥石26のY方向移動が、面取用砥石26をガラス基板Gの端面G3に対して進退移動させる動作、すなわち研削代を制御する動作となる。   The mounting structure of the chamfering grindstone 26 to the traveling nut portion 64 is the same as the mounting structure of the chamfering grindstone 24 shown in FIG. Therefore, the movement of the chamfering grindstone 26 in the Y direction by the servo motor 44 is an operation for moving the chamfering grindstone 26 forward and backward with respect to the end surface G3 of the glass substrate G, that is, an operation for controlling a grinding allowance.

次に、面取用砥石24をガラス基板Gの端面G1に対して進退移動させるサーボモータ38の制御アルゴリズムについて説明する。なお、ここでは説明しないが、面取用砥石26をガラス基板Gの端面G3に対して進退移動させるサーボモータ44の制御アルゴリズムも同一である。   Next, a control algorithm of the servo motor 38 for moving the chamfering grindstone 24 forward and backward relative to the end surface G1 of the glass substrate G will be described. Although not described here, the control algorithm of the servo motor 44 that moves the chamfering grindstone 26 forward and backward relative to the end face G3 of the glass substrate G is also the same.

CPU28は、レーザー変位計14、16、18からの位置情報に基づき、加工開始位置から加工終了位置までの直線補間値を算出する。そして、モーションコントローラ32は、前記直線補間値に基づき、サーボモータ36による面取用砥石24のX方向の移動に同期して直線補間値に合うように、面取用砥石24をY方向に移動させる進退移動指令を移動機構34のサーボモータ38に出力する。ミクロ的に見ると階段状に面取用砥石24が前方又は後方に進退移動し、加工開始位置と加工終了位置とを結ぶ直線上を走行する。これにより、ガラス基板Gの端面G1が、ガラス基板Gを位置決めすることなく面取用砥石24によって面取加工される。   The CPU 28 calculates a linear interpolation value from the machining start position to the machining end position based on the position information from the laser displacement meters 14, 16, 18. Then, based on the linear interpolation value, the motion controller 32 moves the chamfering grindstone 24 in the Y direction so as to match the linear interpolation value in synchronization with the movement of the chamfering grindstone 24 in the X direction by the servo motor 36. A forward / backward movement command is output to the servo motor 38 of the moving mechanism 34. When viewed microscopically, the chamfering grindstone 24 moves forward or backward in a stepped manner, and travels on a straight line connecting the machining start position and the machining end position. Thereby, the end face G1 of the glass substrate G is chamfered by the chamfering grindstone 24 without positioning the glass substrate G.

次に、前記の如く構成された第1の面取装置10の動作について説明する。   Next, the operation of the first chamfering apparatus 10 configured as described above will be described.

まず、移載機6によってガラス基板Gがテーブル12に載置されると、このガラス基板Gを位置決めすることなくテーブル12の吸引動作によってテーブル12に吸着固定する。次に、この状態のガラス基板Gの端面G1、G2、G3の位置情報をレーザー変位計14〜22によって取得し、この位置情報と所望の研削代とを考慮した加工開始位置及び加工終了位置をCPU28によって算出する。次いで、算出した加工開始位置及び加工終了位置の位置情報に基づき、加工開始位置から加工終了位置に向けて面取用砥石24、26が直線移動するようにモーションコントローラ32が移動機構34、40を制御する。   First, when the glass substrate G is placed on the table 12 by the transfer device 6, the glass substrate G is sucked and fixed to the table 12 by the suction operation of the table 12 without positioning. Next, position information of the end faces G1, G2, and G3 of the glass substrate G in this state is acquired by the laser displacement meters 14 to 22, and a processing start position and a processing end position in consideration of this position information and a desired grinding allowance are obtained. Calculated by the CPU. Next, based on the position information of the calculated processing start position and processing end position, the motion controller 32 moves the moving mechanisms 34, 40 so that the chamfering grindstones 24, 26 move linearly from the processing start position to the processing end position. Control.

これにより、実施の形態の第1の面取装置10によれば、ガラス基板Gを位置決めすることなくガラス基板Gの端面G1、G3を面取加工することができる。よって、ガラス基板Gの生産効率を向上させることができる。   Thereby, according to the 1st chamfering apparatus 10 of embodiment, the end surfaces G1 and G3 of the glass substrate G can be chamfered without positioning the glass substrate G. Therefore, the production efficiency of the glass substrate G can be improved.

ここで、図10に示した従来装置のフローと比較すると、テーブルのエアーブローを含む位置決め装置による位置決めを実施しない実施の形態では、図10のステップS103、ステップS105、ステップS108の位置決め工程を無くすことができる。よって、実施の形態では、従来装置と比較して、ガラス基板Gの生産効率が格段に向上し、さらにガラス基板Gの生産設備を簡素化できる。   Here, as compared with the flow of the conventional apparatus shown in FIG. 10, in the embodiment in which the positioning by the positioning device including the air blow of the table is not performed, the positioning process of steps S103, S105, and S108 of FIG. 10 is eliminated. be able to. Therefore, in the embodiment, the production efficiency of the glass substrate G is remarkably improved as compared with the conventional apparatus, and the production facility for the glass substrate G can be simplified.

従来の位置決め装置による機械的なガラス基板Gの位置決めは、ガラス基板Gの位置を間接的に規定するものなので、その誤差を考慮して面取用砥石による研削代を多め(約200μm)に設定せざるを得ない。これに対してレーザー変位計14〜22は、ガラス基板Gの位置を直接検出するため、その誤差は、機械的な位置決め装置と比較してはるかに小さい。これにより、研削代を少なめ(約50μm)に設定できるので、面取加工時間を短縮できるとともに、面取用砥石の使用寿命を伸ばすことができる。これらの波及効果によって、ガラス基板の生産効率がより一層向上する。さらに、テーブルブローおよび位置決め装置を省略できるため、ガラス基板の生産設備を簡素化できる。   The mechanical positioning of the glass substrate G by the conventional positioning device indirectly defines the position of the glass substrate G, so that the grinding allowance by the chamfering grindstone is set to be large (about 200 μm) in consideration of the error. I have to. On the other hand, since the laser displacement meters 14 to 22 directly detect the position of the glass substrate G, the error is much smaller than that of a mechanical positioning device. Thereby, since the grinding allowance can be set to be small (about 50 μm), the chamfering time can be shortened and the service life of the chamfering grindstone can be extended. Due to these ripple effects, the production efficiency of the glass substrate is further improved. Furthermore, since the table blower and the positioning device can be omitted, the glass substrate production facility can be simplified.

また、実施の形態の第1の面取装置10では、面取加工後のガラス基板Gの端面G1、G3の位置情報をレーザー変位計14、16、20、22によって取得し、CPU28が、面取加工後の位置情報と面取加工前の位置情報とに基づいて、面取用砥石24、26による研削代を算出している。   Moreover, in the 1st chamfering apparatus 10 of embodiment, the positional information on the end surfaces G1 and G3 of the glass substrate G after chamfering processing is acquired by the laser displacement meters 14, 16, 20, and 22, and the CPU 28 performs chamfering. Based on the position information after chamfering and the position information before chamfering, the grinding allowance by the chamfering grindstones 24 and 26 is calculated.

これにより、実施の形態の第1の面取装置10では、面取用砥石24、26による実際の研削代を確認できるため、面取用砥石24、26の現在の磨耗量を間接的に確認できる。面取用砥石24、26のY方向移動を制御するためのパラメータに面取用砥石24、26の磨耗量を加えることにより、研削代を一定にすることができ、安定した面取加工を実施できる。   Thereby, in the 1st chamfering apparatus 10 of embodiment, since the actual grinding allowance by the grindstones 24 and 26 can be confirmed, the present wear amount of the grindstones 24 and 26 is indirectly confirmed. it can. By adding the wear amount of the chamfering grindstones 24 and 26 to the parameters for controlling the movement of the chamfering grindstones 24 and 26 in the Y direction, the grinding allowance can be made constant and stable chamfering can be performed. it can.

なお、図1の第1の面取装置10で面取加工終了したガラス基板Gは、移載機7によってその姿勢が90度変更された状態で第2の面取装置66に搬送される。第2の面取装置66の構成は第1の面取装置10と略同一なので、第1の面取装置10の部材と同一の部材については同一の符号を付し、その説明は省略する。第2の面取装置66においても、ガラス基板Gは位置決めされることなく、面取用砥石24、26によってその短辺部が面取加工される。   The glass substrate G that has been chamfered by the first chamfering device 10 in FIG. 1 is conveyed to the second chamfering device 66 in a state in which the posture is changed by 90 degrees by the transfer machine 7. Since the configuration of the second chamfering device 66 is substantially the same as that of the first chamfering device 10, the same members as those of the first chamfering device 10 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. Also in the second chamfering device 66, the short side portion is chamfered by the chamfering grindstones 24 and 26 without positioning the glass substrate G.

また、実施の形態では、面取加工時において、ガラス基板Gは、所定の基準位置に対して斜めの状態で面取加工されることが好ましい。所定の基準位置とは、従来の位置決め装置によって位置決めされるガラス基板の仮想の位置である。実施の形態では、このような位置ではなく、ガラス基板Gがテーブル12に搬送されてきたそのままの姿勢、つまり、前記基準位置に対してずれている斜めの姿勢であってもガラス基板Gの面取加工を実施できる。よって、テーブル12におけるガラス基板Gの位置決め時間が省かれることにより、ガラス基板Gの生産効率が向上する。   In the embodiment, it is preferable that the glass substrate G be chamfered in an oblique state with respect to a predetermined reference position during chamfering. The predetermined reference position is a virtual position of the glass substrate that is positioned by a conventional positioning device. In the embodiment, the surface of the glass substrate G is not in such a position but is in the same posture in which the glass substrate G has been transported to the table 12, that is, in an oblique posture shifted from the reference position. Machining can be carried out. Therefore, the time for positioning the glass substrate G on the table 12 is omitted, so that the production efficiency of the glass substrate G is improved.

また、実施の形態では、ガラス基板Gの板厚が0.3mm〜2.4mm、好ましくは0.5mm〜0.7mmであることが好ましい。このような薄板のガラス基板Gであっても、テーブル12に対する位置決めが不要なので、位置決めに要する時間を省くことができ、また、位置決め時に生じるガラス基板Gの破損を防止できる。よって、ガラス基板Gが薄板であっても、そのガラス基板Gの生産効率を向上させることができる。   Moreover, in embodiment, it is preferable that the plate | board thickness of the glass substrate G is 0.3 mm-2.4 mm, Preferably it is 0.5 mm-0.7 mm. Even with such a thin glass substrate G, since positioning with respect to the table 12 is not required, the time required for positioning can be saved, and breakage of the glass substrate G that occurs during positioning can be prevented. Therefore, even if the glass substrate G is a thin plate, the production efficiency of the glass substrate G can be improved.

また、ガラス基板GがFPD用のガラス基板であることが好ましい。前述の如く、実施の形態では、テーブル12に対するガラス基板Gの位置決めが不要なので、極薄のFPD用のガラス基板の加工に好適である。   Moreover, it is preferable that the glass substrate G is a glass substrate for FPD. As described above, in the embodiment, it is not necessary to position the glass substrate G with respect to the table 12, so that it is suitable for processing an extremely thin FPD glass substrate.

10…第1の面取装置、12…テーブル、14、16、18、20、22…レーザー変位計、24、26…面取用砥石、28…CPU、30…RAM、32…モーションコントローラ、34…移動機構、36、38…サーボモータ、40…移動機構、42、44…サーボモータ、46…走行用送りねじ、48…研削代制御用送りねじ、50…走行用ナット部、52…研削代制御用ナット部、54…直動ガイド部材、56…ヘッド、58…スピンドルモータ、60…走行用送りねじ、62…研削代制御用送りねじ、64…走行用ナット部、66…第2の面取装置   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... 1st chamfering apparatus, 12 ... Table, 14, 16, 18, 20, 22 ... Laser displacement meter, 24, 26 ... Chamfering grindstone, 28 ... CPU, 30 ... RAM, 32 ... Motion controller, 34 ... Moving mechanism, 36, 38 ... Servo motor, 40 ... Moving mechanism, 42, 44 ... Servo motor, 46 ... Travel feed screw, 48 ... Grinding allowance control feed screw, 50 ... Travel nut, 52 ... Grinding allowance Control nut part 54 ... Linear motion guide member 56 ... Head 58 ... Spindle motor 60 ... Travel feed screw 62 ... Grinding allowance control feed screw 64 ... Travel nut part 66 ... Second surface Device

Claims (12)

面取装置のテーブルに載置されたガラス基板を前記テーブルに固定する工程と、
前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する工程と、
前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する工程と、
前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石を移動させることにより、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面を前記面取用砥石によって面取加工する工程と、
を有することを特徴とするガラス基板の加工方法。
Fixing the glass substrate placed on the table of the chamfering device to the table;
Obtaining position information of an end face of the glass substrate fixed to the table;
Calculating a processing start position and a processing end position of a chamfering grindstone for chamfering the end surface of the glass substrate based on the position information;
Chamfering the end surface of the glass substrate fixed to the table by the chamfering grindstone by moving the chamfering grindstone from the processing start position toward the processing end position;
A method for processing a glass substrate, comprising:
成形装置によって帯状に成形されたガラスリボンを切折加工して所定の矩形状のガラス基板に製造する工程と、
前記切折加工された前記ガラス基板を面取装置のテーブルに移載する工程と、
前記面取装置のテーブルに載置されたガラス基板を前記テーブルに固定する工程と、
前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する工程と、
前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する工程と、
前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石を移動させることにより、前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面を前記面取用砥石によって面取加工する工程と、
を有することを特徴とするガラス基板の加工方法。
A step of cutting a glass ribbon formed into a strip shape by a forming device into a predetermined rectangular glass substrate; and
Transferring the cut glass substrate to a table of a chamfering device;
Fixing the glass substrate placed on the table of the chamfering device to the table;
Obtaining position information of an end face of the glass substrate fixed to the table;
Calculating a processing start position and a processing end position of a chamfering grindstone for chamfering the end surface of the glass substrate based on the position information;
Chamfering the end surface of the glass substrate fixed to the table by the chamfering grindstone by moving the chamfering grindstone from the processing start position toward the processing end position;
A method for processing a glass substrate, comprising:
面取加工後の前記ガラス基板の端面の位置情報を取得し、該面取加工後の位置情報と面取加工前の前記位置情報とに基づいて、前記面取用砥石による研削代を算出することを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス基板の加工方法。   The position information of the end face of the glass substrate after the chamfering process is acquired, and the grinding allowance by the chamfering grindstone is calculated based on the position information after the chamfering process and the position information before the chamfering process. The processing method of the glass substrate of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 前記面取加工する工程において、前記ガラス基板は、所定の基準位置に対して斜めの状態で前記面取加工用砥石により面取加工される請求項1〜3のいずれかに記載のガラス基板の加工方法。   The glass substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein, in the step of chamfering, the glass substrate is chamfered by the chamfering grindstone in an oblique state with respect to a predetermined reference position. Processing method. 前記ガラス基板の板厚が0.3mm〜2.4mm、好ましくは0.5mm〜0.7mmである請求項1〜4のいずれかに記載のガラス基板の加工方法。   The plate | board thickness of the said glass substrate is 0.3 mm-2.4 mm, Preferably it is 0.5 mm-0.7 mm, The processing method of the glass substrate in any one of Claims 1-4. 前記ガラス基板がFPD用のガラス基板である請求項1〜5のいずれかに記載のガラス基板の加工方法。   The said glass substrate is a glass substrate for FPD, The processing method of the glass substrate in any one of Claims 1-5. 面取装置に設けられたテーブルと、
前記テーブルに載置されたガラス基板を該テーブルに固定する固定手段と、
前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する非接触センサと、
前記面取装置に設けられるとともに前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石と、
前記面取用砥石を移動させる移動手段と、
前記面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する算出手段と、
前記加工開始位置及び前記加工終了位置の位置情報に基づき、前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石が移動するように前記移動手段を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とするガラス基板の加工装置。
A table provided in the chamfering device;
Fixing means for fixing the glass substrate placed on the table to the table;
A non-contact sensor for acquiring position information of an end face of the glass substrate fixed to the table;
A chamfering grindstone that is provided in the chamfering device and chamfers an end surface of the glass substrate;
Moving means for moving the chamfering grindstone;
A calculating means for calculating a processing start position and a processing end position of the chamfering grindstone based on the position information;
Control means for controlling the moving means so that the chamfering grindstone moves from the machining start position toward the machining end position based on the position information of the machining start position and the machining end position;
An apparatus for processing a glass substrate, comprising:
成形装置によって帯状に成形されたガラスリボンを切折加工して所定の矩形状のガラス基板に製造する切折手段と、
前記切折加工された前記ガラス基板を面取装置のテーブルに移載する移載手段と、
前記面取装置のテーブルに載置されたガラス基板を前記テーブルに固定する固定手段と、
前記テーブルに固定された前記ガラス基板の端面の位置情報を取得する非接触センサと、
前記面取装置に設けられるとともに前記ガラス基板の端面を面取りする面取用砥石と、
前記面取用砥石を移動させる移動手段と、
前記面取用砥石の加工開始位置及び加工終了位置を前記位置情報に基づき算出する算出手段と、
前記加工開始位置及び前記加工終了位置の位置情報に基づき、前記加工開始位置から前記加工終了位置に向けて前記面取用砥石が移動するように前記移動手段を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とするガラス基板の加工装置。
Folding means for cutting a glass ribbon formed into a strip shape by a molding device to produce a predetermined rectangular glass substrate;
Transfer means for transferring the cut glass substrate to a table of a chamfering device;
Fixing means for fixing the glass substrate placed on the table of the chamfering device to the table;
A non-contact sensor for acquiring position information of an end face of the glass substrate fixed to the table;
A chamfering grindstone that is provided in the chamfering device and chamfers an end surface of the glass substrate;
Moving means for moving the chamfering grindstone;
A calculating means for calculating a processing start position and a processing end position of the chamfering grindstone based on the position information;
Control means for controlling the moving means so that the chamfering grindstone moves from the machining start position toward the machining end position based on the position information of the machining start position and the machining end position;
An apparatus for processing a glass substrate, comprising:
前記非接触センサは、面取加工後の前記ガラス基板の端面の位置情報を取得し、
前記算出手段は、前記面取加工後の位置情報と面取加工前の前記位置情報とに基づいて、前記面取用砥石による研削代を算出することを特徴とする請求項7又は8に記載のガラス基板の加工装置。
The non-contact sensor acquires positional information of the end surface of the glass substrate after chamfering,
The said calculation means calculates the grinding allowance by the said chamfering grindstone based on the positional information after the chamfering and the positional information before the chamfering. Glass substrate processing equipment.
前記ガラス基板は、所定の基準位置に対して斜めの状態で前記面取加工用砥石により面取加工される請求項7〜9のいずれかに記載のガラス基板の加工装置。   The glass substrate processing apparatus according to claim 7, wherein the glass substrate is chamfered by the chamfering grindstone in an oblique state with respect to a predetermined reference position. 前記ガラス基板の板厚が0.3mm〜2.4mm、好ましくは0.5mm〜0.7mmである請求項7〜10のいずれかに記載のガラス基板の加工装置。   The plate | board thickness of the said glass substrate is 0.3 mm-2.4 mm, Preferably it is 0.5 mm-0.7 mm, The processing apparatus of the glass substrate in any one of Claims 7-10. 前記ガラス基板がFPD用のガラス基板である請求項7〜11のいずれかに記載のガラス基板の加工装置。   The said glass substrate is a glass substrate for FPD, The processing apparatus of the glass substrate in any one of Claims 7-11.
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