JP2006188454A5 - - Google Patents
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（式中、Ｒｆはパーフルオロアルキル基、ポリフルオロアルキル基、又はフルオロアルキル基を表し、
Ｒ１１は水素又は１価の有機基を表し、
Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、独立して、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロシクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルケニルアルキル基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基、アリールアルケニル基、及びヘテロアリールアルケニル基からなる群より選択され、同一であっても異なってもよい。）
で表される化合物、又はそれらの組み合わせを
式（２）：
Ｒ21ＣＯＸ （２）
（式中、Ｒ21はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択され、
Ｘは塩素、臭素、又はヨウ素を表す）
で表される化合物とフッ化物イオンの存在下で反応させる工程を含む、
式（３）：
Ｒ１１は水素又は１価の有機基を表し、
Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、独立して、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロシクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルケニルアルキル基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基、アリールアルケニル基、及びヘテロアリールアルケニル基からなる群より選択され、同一であっても異なってもよい。）
で表される化合物、又はそれらの組み合わせを
式（２）：
Ｒ21ＣＯＸ （２）
（式中、Ｒ21はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択され、
Ｘは塩素、臭素、又はヨウ素を表す）
で表される化合物とフッ化物イオンの存在下で反応させる工程を含む、
式（３）：
（式中、Ｒf、Ｒ 11 及びＲ21は前記の通りである）
で表されるβ−ケトエステルの製造方法。
［２］ Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、独立して、アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択される、［１］に記載の製造方法。
［３］ Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７が、独立して、置換又は未置換のメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、及びフェニル基からなる群より選択される、［１］に記載の製造方法。
［４］ Ｒ１１が、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基、及び有機シリル基からなる群より選択される、［１］−［３］の何れかに記載の製造方法。
［５］ Ｒ21が、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択される、［１］−［４］の何れかに記載の製造方法。
［６］ フッ化物イオンが、テトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化セシウム、及びフッ化カリウム−ヨウ化銅からなる群より選択される１種以上から供給される、［１］−［５］の何れかに記載の製造方法。
［７］ 式（１）若しくは式（１’）の化合物、又はそれらの混合物と式（２）の化合物との反応が溶媒中で行われ、該溶媒が置換若しくは未置換の脂肪族炭化水素、置換若しくは未置換の芳香族炭化水素、エーテル、非プロトン性極性溶媒、又はそれらの混合物である、［１］−［６］の何れかに記載の製造方法。
［８］ 式（１）若しくは式（１’）の化合物、又はそれらの混合物と式（２）の化合物との反応が、−９０℃から１００℃の範囲で行われる、［１］−［７］の何れかに記載の方法。
［９］ 式（１）若しくは式（１’）の化合物、又はそれらの混合物と式（２）の化合物との反応が、常圧から200kPaまでの範囲で行われる、［１］−［８］の何れかに記載の方法。
で表されるβ−ケトエステルの製造方法。
［２］ Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、独立して、アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択される、［１］に記載の製造方法。
［３］ Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７が、独立して、置換又は未置換のメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、及びフェニル基からなる群より選択される、［１］に記載の製造方法。
［４］ Ｒ１１が、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基、及び有機シリル基からなる群より選択される、［１］−［３］の何れかに記載の製造方法。
［５］ Ｒ21が、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択される、［１］−［４］の何れかに記載の製造方法。
［６］ フッ化物イオンが、テトラブチルアンモニウムフルオライド、フッ化セシウム、及びフッ化カリウム−ヨウ化銅からなる群より選択される１種以上から供給される、［１］−［５］の何れかに記載の製造方法。
［７］ 式（１）若しくは式（１’）の化合物、又はそれらの混合物と式（２）の化合物との反応が溶媒中で行われ、該溶媒が置換若しくは未置換の脂肪族炭化水素、置換若しくは未置換の芳香族炭化水素、エーテル、非プロトン性極性溶媒、又はそれらの混合物である、［１］−［６］の何れかに記載の製造方法。
［８］ 式（１）若しくは式（１’）の化合物、又はそれらの混合物と式（２）の化合物との反応が、−９０℃から１００℃の範囲で行われる、［１］−［７］の何れかに記載の方法。
［９］ 式（１）若しくは式（１’）の化合物、又はそれらの混合物と式（２）の化合物との反応が、常圧から200kPaまでの範囲で行われる、［１］−［８］の何れかに記載の方法。
Claims (2)
- 式（１）：
Ｒ１１は水素又は１価の有機基を表し、
Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、独立して、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロシクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルケニルアルキル基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基、アリールアルケニル基、及びヘテロアリールアルケニル基からなる群より選択され、同一であっても異なってもよい。）
で表される化合物、又はそれらの混合物を
式（２）：
Ｒ21ＣＯＸ （２）
（式中、Ｒ21はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択され、
Ｘは塩素、臭素、又はヨウ素を表す）
で表される化合物とフッ化物イオンの存在下で反応させる工程を含む、
式（３）：
で表されるβ−ケトエステルの製造方法。 - Ｒ21が、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、及びヘテロアリールアルキル基からなる群より選択される、請求項１−４のいずれかに記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005001378A JP4781678B2 (ja) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | 含フッ素ケテンシリルアセタールを用いたβ−ケトエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005001378A JP4781678B2 (ja) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | 含フッ素ケテンシリルアセタールを用いたβ−ケトエステルの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006188454A JP2006188454A (ja) | 2006-07-20 |
| JP2006188454A5 true JP2006188454A5 (ja) | 2008-04-10 |
| JP4781678B2 JP4781678B2 (ja) | 2011-09-28 |
Family
ID=36795993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005001378A Active JP4781678B2 (ja) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | 含フッ素ケテンシリルアセタールを用いたβ−ケトエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4781678B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7299564B2 (ja) * | 2019-11-20 | 2023-06-28 | 日産化学株式会社 | 洗浄剤組成物の洗浄能の向上方法、洗浄剤組成物の製造方法及び洗浄剤組成物 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001151727A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-06-05 | Daikin Ind Ltd | 光学活性なα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシエステル及びα，α−ジフルオロ−β−ケトエステルの製造方法 |
| JP2001247514A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-09-11 | Daikin Ind Ltd | α，α−ジフルオロ−β−ケトエステルの製造方法、及びジフルオロケテンシリルアセタールの製造方法、並びに光学活性なα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシエステルの製造方法 |
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2005
- 2005-01-06 JP JP2005001378A patent/JP4781678B2/ja active Active
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