JP2006186365A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】個々に制御可能な素子は、放射線ビームのテレセントリック性を変えることができる。個々に制御可能な素子上への放射線ビームの投影は、凹状ミラーにより、または個々に制御可能な素子の対象物フィールド内に設置した折り畳みミラーを使用して行うことができる。別の方法としては、個々に制御可能な素子は、放射線ビームの光軸を変えることができる。
【選択図】図2
Description
本明細書の残り全体を通して、「整合マーク」および「複数の整合マーク」という用語は、別段の指示がない限り、それぞれ、1つまたは複数の個々の個別でない整合マークを示すために使用する。「個々の」という用語は、各整合マークが、そのタイプの他のものから(すなわち、他の整合マークから)独立していて別のものであることを意味する。「個別でない」という用語は、いくつかの部分に分割されない(例えば、各整合マークが1つの分割されていないエンティティである)ことを意味する。種々のこのようなマークは、本発明の実施形態で使用することができ、本明細書内のドット、ダッシュおよびラインという用語は、単に特定の例にすぎないことを理解されたい。他の形も使用することができる。
図1は、本発明のある実施形態によるリソグラフィ投影装置100の略図である。装置100は、少なくとも1つの放射システム102、個々に制御可能な素子のアレイ104、対象物テーブル106(例えば、基板テーブル)、および投影システム(「レンズ」)108を含む。
今まで本発明の種々の実施形態について説明してきたが、これらの実施形態は単に例示としてのものであって、本発明を制限するものではないことを理解されたい。当業者であれば、本発明の精神および範囲から逸脱することなしに、形状および詳細な点を種々に変更することができることを容易に理解することができるだろう。それ故、本発明の領域および範囲は、上記例示としての実施形態のどれかに限定すべきではなく、添付の特許請求の範囲およびその等価物によってだけ定義すべきである。
102 放射システム
104 個々に制御可能な素子のアレイ
106 対象物テーブル
108 投影システム
110 放射線ビーム
112 ソース
114 基板
116 位置決めデバイス
118 ビーム・スプリッタ
120 目標部分
122 ビーム
124 照明装置
126 調整デバイス
130 インテグレータ
132 コンデンサ
134 干渉計測定デバイス
136 ベース・プレート
140 ビーム・スプリッタ
21,23 凹状ミラー
24 折り返しミラー
30 対象物フィールド
41 プリズム
42,42’ 素子
44 開口絞り
45 素子
46,50,64,81,82,83 ミラー
63 レンズ
71 凸状非球形反射光学素子
72 環状非球形反射光学素子
PB 放射線ビーム
PPM パターニング・アレイ
IL 照明装置
PL 投影システム
Claims (35)
- リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整する照明システムと、
パターンを与えるための個々に制御可能な素子を備えるパターニング・アレイと、
基板の目標部分上に前記パターンを与えられた放射線ビームを投影する投影システムとを備え、前記放射線ビームが前記パターニング・アレイを垂直でない方向に照明するように配置されるリソグラフィ装置。 - 前記パターニング・アレイが、前記放射線ビームのテレセントリック性を変える、請求項1に記載の装置。
- 前記放射線ビームを、前記パターニング・アレイ上に投影する凹状光学素子をさらに備える、請求項2に記載の装置。
- 前記凹状光学素子が、それぞれが共通の光軸を有する複数の光学素子により形成される、請求項3に記載の装置。
- 前記凹状光学素子がミラーである、請求項3に記載の装置。
- 前記凹状光学素子が、環状をしていて、前記放射線ビームの光軸に沿って配置されている中央開口部を有し、前記パターンを与えられた放射線ビームが、干渉を起こさないで前記凹状光学素子を通過することができる、請求項3に記載の装置。
- 前記照明システムが、前記凹状光学素子上に、面平行ビームとして前記放射線ビームを投影する、請求項6に記載の装置。
- 前記照明システムが、前記凹状光学素子上に、前記放射線ビームを発散放射線ビームとして投影する、請求項6に記載の装置。
- 前記凹状光学素子上に前記放射線ビームを投影するための折り返しミラーをさらに備える、請求項6に記載の装置。
- 前記放射線ビームが、前記パターニング・アレイのための対象物フィールドが、前記パターニング・アレイの画像フィールドよりも前記光軸からもっと遠いところに位置するように配置される、請求項6に記載の装置。
- 前記放射線ビームを前記パターニング・アレイの方向に向ける折り返しミラーまたはプリズムをさらに備える、請求項1に記載の装置。
- 前記パターニング・アレイが、前記パターニング・アレイの前記画像の瞳が、前記折り畳みミラーまたはプリズムよりも、前記個々に制御可能な素子からもっと遠いところに位置するように配置される、請求項11に記載の装置。
- 前記対象物フィールドおよび前記画像フィールドの両方を屈折させるために、前記パターニング・アレイの近くに配置されている正の光学倍率を有する光学素子をさらに備える、請求項11に記載の装置。
- 前記折り返しミラーまたはプリズムが、前記放射線ビームの光軸を変えるように配置される、請求項11に記載の装置。
- 前記パターニング・アレイの対象物フィールド内に配置されているが、その画像フィールド内には配置されていない負の光学倍率を有する光学素子をさらに備える、請求項11に記載の装置。
- 前記パターニング・アレイが、前記放射線ビームの光軸を変えるように配置される、請求項1に記載の装置。
- 前記パターニング・アレイ上に前記放射線ビームを投影するように構成されている反射デバイスをさらに備える、請求項16に記載の装置。
- 複数の反射素子が前記反射デバイスを形成する、請求項17に記載の装置。
- 個々に制御可能な各素子またはそのグループに対応する反射素子を備える、請求項18に記載の装置。
- 前記個々に制御可能な素子の光軸が、前記入射放射線ビームの光軸に対して約0.05〜約0.2ラジアンの角度で配置される、請求項16に記載の装置。
- 前記個々に制御可能な素子が、前記個々に制御可能な素子による反射の後の放射線ビームの光軸が、前記個々に制御可能な素子による反射の前の放射線ビームの光軸から異なるように変えるように配置される、請求項16に記載の装置。
- 前記放射線ビームを投影するための非球形光学素子をさらに備える、請求項16に記載の装置。
- 前記非球形光学素子が、シュバルツシルト2ミラー設計を形成する、請求項22に記載の装置。
- 前記非球形光学素子が、リッチー・クレチアン設計を形成する、請求項22に記載の装置。
- 前記照明システムが、
平面を均一に照明するためのテレセントリック光学系と、
前記パターニング・アレイ上に前記平面の画像を投影するための非テレセントリック・リレー・システムとを備える、請求項1に記載の装置。 - 前記リレー・システムが、開口部付き折り返しミラーを備える、請求項25に記載の装置。
- 複数のパターニング・アレイおよび対応する複数の結合ミラーを備え、各結合ミラーが、前記パターニング・アレイのそれぞれが選択的に反射した放射線を前記投影システム内に向けるように配置される、請求項1に記載の装置。
- 前記投影システムから見た場合、前記パターニング・アレイが前記パターニング・アレイの実際の配置より密な仮想アレイとして配置されるように、前記結合ミラーが配置される、請求項27に記載の装置。
- 前記結合ミラーが、前記結合ミラーから前記投影システムへのすべてのビーム経路が、前記パターニング・アレイのための支持構造内の1つの開口部を通るように配置される、請求項27に記載の装置。
- 前記結合ミラーが、前記結合ミラーから前記投影システムへのビーム経路が、前記パターニング・アレイのための支持構造内の複数の開口部を通るように配置される、請求項27に記載の装置。
- 前記結合ミラーが、前記パターニング・アレイおよび前記結合ミラー上の放射線の入射角がほぼ垂直になるように配置される、請求項27に記載の装置。
- 前記照明システムからの放射線を前記各パターニング・アレイに向けるための第2の複数の結合ミラーをさらに備える、請求項27に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
パターニング・アレイを放射線ビームで垂直でない方向に照明するステップと、
前記パターニング・アレイにより前記ビームにパターンを与えるステップと、
基板上に前記パターンを与えられた放射線ビームを投影するステップとを含む方法。 - 前記パターニング・アレイにより前記放射線ビームの光軸を変えるステップをさらに含む、請求項33に記載の方法。
- 前記パターニング・アレイにより前記放射線ビームのテレセントリック性を変えるステップをさらに含む、請求項33に記載の方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008211210A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-11 | Asml Holding Nv | マスクレスリソグラフィの反射型空間光変調器を照明するための光学系および方法 |
JP2009541977A (ja) * | 2006-06-21 | 2009-11-26 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 光学装置 |
JP4820377B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-11-24 | コヒーレント・インク | シュワルツシルト対物鏡を使用してフォトマスクの縮写像を投影する装置 |
KR101164140B1 (ko) | 2009-04-16 | 2012-07-11 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 디바이스 제조 방법 및 리소그래피 장치 |
JP2012215907A (ja) * | 2009-02-10 | 2012-11-08 | Sharp Corp | 接続端子及び該接続端子を備えた表示装置 |
JP2013540350A (ja) * | 2010-09-29 | 2013-10-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euv投影露光系のためのミラー、光学系、及び構成要素を生成する方法 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8994920B1 (en) | 2010-05-07 | 2015-03-31 | Kenneth C. Johnson | Optical systems and methods for absorbance modulation |
US9097983B2 (en) * | 2011-05-09 | 2015-08-04 | Kenneth C. Johnson | Scanned-spot-array EUV lithography system |
US9188874B1 (en) | 2011-05-09 | 2015-11-17 | Kenneth C. Johnson | Spot-array imaging system for maskless lithography and parallel confocal microscopy |
KR20150036786A (ko) | 2003-04-09 | 2015-04-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
TWI569308B (zh) | 2003-10-28 | 2017-02-01 | 尼康股份有限公司 | 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造 方法 |
TWI519819B (zh) | 2003-11-20 | 2016-02-01 | 尼康股份有限公司 | 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法 |
TWI412067B (zh) | 2004-02-06 | 2013-10-11 | 尼康股份有限公司 | 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法 |
US20060138349A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101524964B1 (ko) | 2005-05-12 | 2015-06-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법 |
US7948606B2 (en) * | 2006-04-13 | 2011-05-24 | Asml Netherlands B.V. | Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns |
US8451427B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-05-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method |
US20090091730A1 (en) * | 2007-10-03 | 2009-04-09 | Nikon Corporation | Spatial light modulation unit, illumination apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5267029B2 (ja) * | 2007-10-12 | 2013-08-21 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
KR101546987B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2015-08-24 | 가부시키가이샤 니콘 | 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
EP2179330A1 (en) | 2007-10-16 | 2010-04-28 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US8379187B2 (en) | 2007-10-24 | 2013-02-19 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2010004008A (ja) * | 2007-10-31 | 2010-01-07 | Nikon Corp | 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
KR101708943B1 (ko) | 2007-11-06 | 2017-02-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 제어 장치, 노광 방법 및 노광 장치 |
EP2209135A4 (en) * | 2007-11-06 | 2011-06-08 | Nikon Corp | OPTICAL LIGHTING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE |
US9116346B2 (en) | 2007-11-06 | 2015-08-25 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5326259B2 (ja) * | 2007-11-08 | 2013-10-30 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP5360057B2 (ja) | 2008-05-28 | 2013-12-04 | 株式会社ニコン | 空間光変調器の検査装置および検査方法、照明光学系、照明光学系の調整方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
KR101356679B1 (ko) * | 2008-09-22 | 2014-01-28 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 프로그램가능한 패터닝 디바이스 및 리소그래피 방법 |
US9411246B2 (en) * | 2011-06-30 | 2016-08-09 | Nikon Corporation | Full-field maskless lithography projection optics |
DE102012203950A1 (de) * | 2012-03-14 | 2013-09-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage |
DE102013219057A1 (de) * | 2013-09-23 | 2015-03-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facettenspiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage |
Family Cites Families (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3923382A (en) * | 1973-12-19 | 1975-12-02 | Leco Corp | Multifaceted mirror structure for infrared radiation detector |
US5523193A (en) | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
EP0527166B1 (de) | 1990-05-02 | 1995-06-14 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Belichtungsvorrichtung |
US6710855B2 (en) * | 1990-11-15 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
US5229872A (en) | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
US6219015B1 (en) | 1992-04-28 | 2001-04-17 | The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images |
JP3224041B2 (ja) | 1992-07-29 | 2001-10-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置 |
US5729331A (en) | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
JP3339149B2 (ja) | 1993-12-08 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置ならびに露光方法 |
US5677703A (en) | 1995-01-06 | 1997-10-14 | Texas Instruments Incorporated | Data loading circuit for digital micro-mirror device |
US5530482A (en) | 1995-03-21 | 1996-06-25 | Texas Instruments Incorporated | Pixel data processing for spatial light modulator having staggered pixels |
US5512759A (en) * | 1995-06-06 | 1996-04-30 | Sweatt; William C. | Condenser for illuminating a ringfield camera with synchrotron emission light |
EP0991959B1 (en) | 1996-02-28 | 2004-06-23 | Kenneth C. Johnson | Microlens scanner for microlithography and wide-field confocal microscopy |
US5691541A (en) * | 1996-05-14 | 1997-11-25 | The Regents Of The University Of California | Maskless, reticle-free, lithography |
ATE216091T1 (de) | 1997-01-29 | 2002-04-15 | Micronic Laser Systems Ab | Verfahren und gerät zur erzeugung eines musters auf einem mit fotoresist beschichteten substrat mittels fokusiertem laserstrahl |
US6177980B1 (en) | 1997-02-20 | 2001-01-23 | Kenneth C. Johnson | High-throughput, maskless lithography system |
SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
JP3045483B2 (ja) | 1997-03-31 | 2000-05-29 | 防衛庁技術研究本部長 | 反射光学系 |
DE19733370C2 (de) * | 1997-08-01 | 2000-07-06 | Agfa Gevaert Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Kopieren von Bilder auf lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
SE9800665D0 (sv) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
WO1999045580A1 (fr) * | 1998-03-06 | 1999-09-10 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition et procede de fabrication de dispositif a semi-conducteurs |
US6438199B1 (en) * | 1998-05-05 | 2002-08-20 | Carl-Zeiss-Stiftung | Illumination system particularly for microlithography |
US5943171A (en) * | 1998-06-03 | 1999-08-24 | International Business Machines Corporation | Head mounted displays utilizing reflection light valves |
US6295164B1 (en) * | 1998-09-08 | 2001-09-25 | Nikon Corporation | Multi-layered mirror |
EP1093021A3 (en) * | 1999-10-15 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Projection optical system as well as equipment and methods making use of said system |
KR100827874B1 (ko) | 2000-05-22 | 2008-05-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법, 노광 방법, 마이크로 장치의 제조 방법, 및 디바이스의 제조 방법 |
US6813085B2 (en) * | 2000-06-26 | 2004-11-02 | Angus Duncan Richards | Virtual reality display device |
US6545758B1 (en) * | 2000-08-17 | 2003-04-08 | Perry Sandstrom | Microarray detector and synthesizer |
JP2002214530A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-07-31 | Nikon Corp | 軸外し反射光学系 |
US6737662B2 (en) * | 2001-06-01 | 2004-05-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, control system, computer program, and computer program product |
DE10139177A1 (de) * | 2001-08-16 | 2003-02-27 | Zeiss Carl | Objektiv mit Pupillenobskuration |
JP3728495B2 (ja) * | 2001-10-05 | 2005-12-21 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 多層膜マスク欠陥検査方法及び装置 |
JP3563384B2 (ja) | 2001-11-08 | 2004-09-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
CN1332267C (zh) | 2002-06-12 | 2007-08-15 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件的制造方法 |
US6897940B2 (en) * | 2002-06-21 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography |
JP2004039862A (ja) | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Nikon Corp | 光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
SG111129A1 (en) * | 2002-07-09 | 2005-05-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1947513B1 (en) | 2002-08-24 | 2016-03-16 | Chime Ball Technology Co., Ltd. | Continuous direct-write optical lithography |
US6906781B2 (en) * | 2002-10-02 | 2005-06-14 | Euv Llc. | Reticle stage based linear dosimeter |
US6870554B2 (en) | 2003-01-07 | 2005-03-22 | Anvik Corporation | Maskless lithography with multiplexed spatial light modulators |
EP1447718A3 (en) * | 2003-02-14 | 2008-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and method |
JP2004252363A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Canon Inc | 反射型投影光学系 |
JP4340851B2 (ja) * | 2003-04-09 | 2009-10-07 | 株式会社ニコン | 光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 |
EP1482373A1 (en) | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7714983B2 (en) * | 2003-09-12 | 2010-05-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system for a microlithography projection exposure installation |
US7312021B2 (en) * | 2004-01-07 | 2007-12-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Holographic reticle and patterning method |
US20060138349A1 (en) | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4820377B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-11-24 | コヒーレント・インク | シュワルツシルト対物鏡を使用してフォトマスクの縮写像を投影する装置 |
JP2009541977A (ja) * | 2006-06-21 | 2009-11-26 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 光学装置 |
JP2008211210A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-11 | Asml Holding Nv | マスクレスリソグラフィの反射型空間光変調器を照明するための光学系および方法 |
JP2012215907A (ja) * | 2009-02-10 | 2012-11-08 | Sharp Corp | 接続端子及び該接続端子を備えた表示装置 |
KR101164140B1 (ko) | 2009-04-16 | 2012-07-11 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 디바이스 제조 방법 및 리소그래피 장치 |
JP2013540350A (ja) * | 2010-09-29 | 2013-10-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euv投影露光系のためのミラー、光学系、及び構成要素を生成する方法 |
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