JP2006178465A - リソグラフィ装置用投影装置 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の画像形成ミラー系を有するリソグラフィ装置用投影装置の提供。
【解決手段】一例では、画像形成ミラー系が二列に配設され、各列は投影装置の走査方向２２に対して直角である。各画像形成ミラー系２、４、６、８は関連する画像形成領域１４、１６、１８、２０を有する。画像形成ミラー系は走査方向２２で隣接する画像形成領域間のギャップを排除する態様で配設される。各画像形成ミラー系２、４、６、８は、凹面鏡１０、および凹面鏡と同心に配設された凸面鏡１２を含む。凹面鏡１０は、独立して動くことのできる第１ミラー部分と第２ミラー部分を有する。一例では、各画像形成ミラー系が関連する位相を有し、一方の列の画像形成ミラー系が他方の列の画像形成ミラー系と位相が１８０度ずれるように配設される。
【選択図】図２

Description

本発明は、リソグラフィ装置での使用に特に適する投影装置と、その利用に関するものである。

リソグラフィ装置は、基板上に（通常は、基板の目標部分上）に所望パターンを付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンを作るために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターン形成手段を用いることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコン・ウェハ）の目標部分（例えば、１つまたは複数のダイの一部を含む）に転写可能である。パターンの転写は、通常、基板に塗布された放射線感光材料（レジスト）の層上に画像を形成することによって行われる。一般に、単一基板は、順次パターン付与される、ネットワーク状の互いに隣接する複数の目標部分を含むだろう。

周知のリソグラフィ装置は、各目標部分が、一度に目標部分上に全パターンを露光することにより照射されるいわゆるステッパと、所与の方向（走査方向）と平行または反平行に同期状態で基板を走査しながら、前記走査方向に放射線ビームを通してパターンを走査することにより、各目標部分が照射されるいわゆるスキャナとを含む。また、基板上にパターンを印刷することにより、パターンをパターン形成手段から基板に転写することもできる。

米国特許第４０１１０１１号は、Ｍｉｃｒａｌｉｇｎシステムと呼ばれる、リソグラフィ装置用の例示としての光学装置を開示している。例えば、米国特許第４０１１０１１号の図３を見れば分かるように、この装置は、マスクからウェハ上に光を投影するために、凸面形状の二次ミラーと同心に配置されている凹面形状の一次ミラーを使用する。光は、マスクから、凹面形状の一次ミラーの光軸に４５度の角度で配置されている平面ミラーにより、凹面形状の一次ミラーの方向に向けられ、次に、凹面形状の一次ミラーの光軸に４５度の角度で配置されている第２平面ミラーにより、凹面形状の一次ミラーから遠ざかる方向にウェハに向けられる。

例えば、米国特許第４０１１０１１号に記載されているような光学システムを有するリソグラフィ装置は、その意図する目的に対してはうまく動作するが、特に能動マトリクス薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造のために、もっと大きな露光領域を形成することができるリソグラフィ装置が現在求められている。

本発明は、リソグラフィ装置用およびその利用のための投影装置を提供する。一実施形態によれば、投影装置は、いくつかの画像形成ミラー系を含む。画像形成ミラー系は、二列に配置され、各列が投影装置の走査方向に対して直角である。各画像形成ミラー系は、組合せ関係にある画像形成領域を有する。画像形成ミラー系は、走査方向で隣接する画像形成領域間のギャップを排除する態様で配設され、それによって拡張された露光領域を形成する。

一例では、各画像形成ミラー系が、凹面形ミラー（凹面鏡）および凹面形ミラーと同心に配設された凸面形ミラー（凸面鏡）を含む。凹面形ミラーは、独立して動くことのできる第１ミラー部分および第２ミラー部分を有する。

或る例では、各画像形成ミラー系が関連する位相を有する。第１列の画像形成ミラー系の位相が、第２列の画像形成ミラー系の位相との関係で位相が１８０度ずれるように配設される。

別例では、各画像形成ミラー系が、入力放射線ビームを凹面形ミラーに対して指向させるように配された第１平面ミラーおよび第２平面ミラーをも含む。平面ミラーは、レチクルから画像を受けとり、基板位置での画像の方向が、画像を作るレチクルの対応部分の方向と同じになるように、前記画像を凹面形ミラーに向けて反射するように配設される。全ての画像形成ミラー系によって形成される、基板位置での最終画像は、全体としてレチクルと一致する。第３平面ミラーを含むこともでき、これは、凹面形ミラーから基板に対して光を反射するために配設される。

本発明の特徴は、画像形成ミラー系と関連する複数の画像形成領域が、例えば、能動マトリクス薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造に適する拡張された露光領域になることである。

以下、本発明のその他の実施形態、特徴、利点、および本発明の各種実例の構造および動作について、添付図面を見ながら詳細を説明する。

添付された模式図を見ながら本発明例について説明するが、これは単なる例示である。図中、同一符号は同一部材を示す。

本発明は、リソグラフィ・ツール用の投影装置およびその利用を提供するものである。或る例では、投影装置がいくつかの画像形成ミラー系を含む。画像形成ミラー系は二列配置であり、各列が投影装置の走査方向に対して直角である。各画像形成ミラー系は、関連する画像形成領域を有する。画像形成ミラー系は、走査方向で隣接する画像形成領域間のギャップを排除する態様で配設される。各画像形成ミラー系は、凹面形ミラー、および、凹面形ミラーと同心に配設された凸面形ミラーを含む。凹面形ミラーは、独立して動くことのできる第１ミラー部分と第２ミラー部分を有する。一例では、各画像形成ミラー系が関連する位相を有し、一方の列の画像形成ミラー系は、他方の列の画像形成ミラー系に対して位相が１８０度ずれるように配設される。

画像形成ミラー系の複数の画像形成領域が、例えば、能動マトリクス薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造に適する拡張された露光領域になる。

図１は、本発明の一例によるリソグラフィ装置である。この装置は、放射線ビームＢ（例えば、紫外線）を調整するように構成された照明系または照明装置ＩＬを含む。支持構造（例えば、マスク・テーブル）ＭＴが、パターン形成手段（例えば、マスク）ＭＡを支持する。支持構造ＭＴは、パターン形成手段ＭＴを位置決めする第１位置決め装置ＰＭに結合されている。図１では、パターン形成手段ＭＴが、例えば、反射性マスクとして示されているが、代わりに透過性マスクを使用してもよい。基板テーブル（例えば、ウェハ・テーブル）ＷＴは、基板（例えば、レジストで被覆されたウェハ）Ｗを保持する。基板テーブルＷＴは、基板を位置決めする第２位置決め装置ＰＷに結合されている。投影装置（例えば、反射性投影レンズ・システム）ＰＳは、パターン形成手段ＭＡが放射線ビームＢに与えたパターンを、基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つまたは複数のダイを備える）に投影する。

照明系ＩＬは、放射線を方向づけし、整形し、または制御するための各種光学構成要素（屈折性、反射性、磁気性、電磁性、静電性またはその他の種類の光学構成要素）、を含むことができる。

支持構造ＭＴは、パターン形成手段ＭＡを支持する（その重量を支持する）。支持構造は、パターン形成手段の向き、リソグラフィ装置の設計、および例えばパターン形成手段が真空環境内で保持されているかどうかのようなその他の条件に従ってパターン形成手段ＭＡを保持する。支持構造ＭＴは、パターン形成手段ＭＡを保持するために、機械的技術、真空技術、静電技術またはその他の固定技術を使用できる。支持構造ＭＴは、例えば、必要に応じて固定したり移動したりすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。支持構造ＭＴは、パターン形成手段が、例えば投影装置に対して所望位置にあるように保証できる。

本明細書で使用する「パターン形成手段」という用語は、基板の目標部分にパターンを形成するために、放射線ビームの横断面にパターンを付与するために使用することができる任意のデバイスを指すというように広義に解釈すべきである。本明細書で使用する場合、「レチクル」または「マスク」という用語は、さらに一般的な用語である「パターン形成手段」と同義であると見なすことができる。また、放射線ビームに与えられたパターンは、例えば、パターンが位相シフト・フィーチャまたはいわゆる補助フィーチャを含んでいる場合には、基板の目標部分の所望のパターンに正確に対応しない場合があることにも留意されたい。一般的に、放射線ビームに与えられたパターンは、集積回路のような目標部分で生成されるデバイスの特定の機能層に対応する。

パターン形成手段ＭＡは、透過性のものであっても、反射性のものであってもよい。パターン形成手段の例としては、マスク、プログラム可能なミラー・アレイおよびプルグラム可能なＬＣＤパネル等がある。プログラム可能なミラー・アレイ、プルグラム可能なＬＣＤパネルまたはその他の制御可能な光変調素子を使用するシステムは、「マスクレス」システムと呼ぶこともある。本発明は、マスク付きシステムおよびマスクレス・システム両方と一緒に使用することができる。マスクは、リソグラフィにおいては周知のものであり、２進、交互位相シフトおよび減衰位相シフト、および種々のハイブリッド・マスク・タイプのようなマスク・タイプを含む。プログラム可能なミラー・アレイの一例は、外部からの放射線ビームを異なる方向に反射するように、それぞれを個々に傾斜させることができる小型ミラーのマトリクス配置を使用する。傾斜したミラーは、ミラー・マトリクスが反射する放射線ビームにパターンを付与する。

投影装置ＰＳについては、図２〜図６を参照しながら以下にさらに詳細に説明する。

リソグラフィ装置は、２つ（二重ステージ）またはもっと多くの基板テーブル（および／または２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプであってもよい。このような「多重ステージ」機械の場合には、追加のテーブルを並列に使用することができ、または準備ステップを、１つまたは複数のテーブルを露光に使用しながら、１つまたは複数のその他のテーブル上で実行することができる。

図１を参照すると、動作中、照明装置ＩＬは、放射線源ＳＯから放射線ビームを受光する。放射線源ＳＯおよびリソグラフィ装置は、例えば、放射線源がエキシマ・レーザである場合には、別々のエンティティであってもよい。そのような場合、放射線源ＳＯは、リソグラフィ装置の一部を形成するものとは見なされず、例えば、適当な方向づけミラーおよび／またはビーム・エキスパンダを備えるビーム供給システム（図示せず）により、放射線ビームは放射線源ＳＯから照明装置ＩＬに通過する。他の場合には、例えば、放射線源が水銀ランプである場合には、放射線源ＳＯは、リソグラフィ装置と一体に形成されている部分であってもよい。放射線源ＳＯおよび照明装置ＩＬは、ビーム供給システムと一緒に、そうしたい場合には、放射線システムと呼ぶことができる。

照明装置ＩＬは、放射線ビームの角度輝度分布を調整するための調整手段（図示せず）を備えることができる。一般的に、照明装置ＩＬの瞳面内の輝度分布の少なくとも外部および／または内部半径範囲（通常、それぞれ外側σおよび内側σと呼ばれる）を調整することができる。さらに、照明装置ＩＬは、インテグレータおよびコンデンサのような種々のタイプのその他の構成要素を備えることができる。照明装置ＩＬは、その断面で所望の均一性および輝度分布を達成する目的で、放射線ビームＢを調整するために使用することができる。

放射線ビームＢは、支持構造ＭＴ上に保持されているパターン形成手段ＭＡ上に入射し、パターン形成手段によりパターン化される。パターン形成手段ＭＡを横切った後で、放射線ビームＢは投影装置ＰＳを通過し、投影装置ＰＳはビームの焦点を基板Ｗの目標部分Ｃ上に結ぶ。第２位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ２（例えば、干渉計デバイス、リニア・エンコーダまたは容量性センサ）により、例えば、放射線ビームＢの通路内の異なる目標部分Ｃを位置決めするために、基板テーブルＷＴを移動することができる。同様に、第１位置決め装置ＰＭおよびもう１つの位置センサＩＦ１を、例えば、マスク・ライブラリからの機械的検索の後、または走査中に、放射線ビームＢの通路に対してパターン形成手段ＭＡを位置決めするために使用することができる。一般的に、支持構造ＭＴは、第１位置決め装置ＰＭの一部を形成している長行程モジュール（粗動位置決め）および短行程モジュール（微動位置決め）により移動させることができる。同様に、基板テーブルＷＴは、第２位置決め装置ＰＷの一部を形成している長行程モジュールおよび短行程モジュールにより移動させることができる。ステッパの場合には（スキャナとは反対に）、支持構造ＭＴを短行程アクチュエータだけに接続することもできるし、または固定することもできる。

パターン形成手段ＭＡおよび基板Ｗは、例えば、マスク・アラインメント・マークＭ１、Ｍ２および基板アラインメント・マークＰ１、Ｐ２により整合することができる。図に示すように、基板アラインメント・マークは、専用の目標部分を占めているが、これらのマークは目標部分（スクライブ・レーン・アラインメント・マークと呼ばれる）間の空間内に位置させることもできる。同様に、パターン形成手段ＭＡ上に２つ以上のダイが位置している場合には、マスク・アラインメント・マークをダイの間に位置させることができる。

一実施形態の場合には、図１のリソグラフィ装置は、走査モードで使用される。走査モードの場合、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは同期状態で走査され、一方、放射線ビームに与えられたパターンが目標部分Ｃ上に投影される（例えば、１回の動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、拡大（縮小）および投影装置ＰＳの画像の逆特性により決定することができる。走査モードの場合には、露光領域の最大サイズにより１回の動的露光の際の目標部分の（走査方向でない方向の）幅が制限され、一方、走査運動の長さにより目標部分の（走査方向の）高さが決まる。

図１のリソグラフィ装置のその他の実施形態の場合、マスク・テーブルＭＴは、プログラム可能なパターン形成手段を保持する本質的に固定状態に維持され、基板テーブルＷＴは、放射線ビームに与えられたパターンが目標部分Ｃ上に投影されている間に移動または走査される。このモードの場合、一般的に、パルス放射線源が使用され、プログラム可能なパターン形成手段が、基板テーブルＷＴの各運動の後で、または走査中の連続放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、例えば、上記タイプのプログラム可能なミラー・アレイのようなプログラム可能なパターン形成手段を使用し、マスクを使用しないリソグラフィに容易に適用することができる。

上記使用モードの組合わせおよび／または変更、または全く異なる使用モードも、リソグラフィ装置で使用することができる。

図２は、本発明の一例による投影装置１を示す略図である。図２に示すように、投影装置１は、４つの画像形成ミラー系２、４、６、８を含む。これらの各画像形成ミラー系は、凹面形ミラー１０、および凹面形ミラー１０と同心に配置されている小型の凸面形ミラー１２を備える。本発明によるその他の投影装置は、もっと多くのまたはもっと少ない画像形成ミラー系を有する。

各画像形成ミラー系２、４、６、８は、別々の「カラム」（列）と見なすことができ、それ故、投影装置を多層カラム・システムと見なすことができる。

画像形成ミラー系２、４、６、８は、それぞれ画像形成領域１４、１６、１８、２０上に光を投影し、焦点を結ぶ。図２の例では、画像形成ミラー系２、４、６、び８は、画像形成領域１４、１６、１８、２０が、その隅部分で互いに接して重なるように配置されている。これにより、基板Ｗを、図２の矢印２２で示す走査方向に走査することができる。当業者であれば理解できると思うが、本明細書に記載するように、このような装置は、フラット・パネル・ディスプレイの製造の際に特に有利である。比較的大型のフラット・パネルを１つの画像形成ミラー系で走査するには、必要な精度に製造するのに高いコストがかかる約１メートルまたはそれより大きな直径を有する凸レンズが必要である。図２の例では、多数の遥かに小さい画像形成ミラー系を使用することができるようにすることによりこの問題を解決する。

例として、投影装置１の各画像形成領域１４、１６、１８、２０が、（図２に示すような長方形ではなく）弓状またはバナナ形状である。或る例では、画像形成領域１４、１６、１８、２０は、それぞれ、例えば６０ｍｍの幅を有し、例えば１６０ｍｍの長さを有する。

投影装置１の各凸面形ミラー１０の直径は、画像形成領域１４、１６、１８、２０の長さの約２倍になるように選択される（例えば、約３２０ｍｍまたは若干小さい）。選択した凹面形ミラー１０は、図２に示すように、その各画像形成領域の対向側面上に位置する。これにより、各凹面形ミラー１０をできるだけ大きくすることができる。画像形成ミラー系２、４、６、８は、非走査方向に長方形の画像形成領域１４、１６、１８、２０が若干重なるように配置することができることを理解されたい。このような配置は、画像形成領域間に確実によい継ぎ目ができるようにするのを容易にするために使用することができる。

多層カラム投影装置１の１つの特徴は、各カラムにおいて、焦点、線量、整合および倍率を個々に設定することができることである。これにより、例えば、基板のトポロジーに従って調整を行うことができ、基板に欠陥があっても使用することができる。

図３は、ミラーの配列を示す図２の画像形成ミラー系２、４、６、８のうちの１つを通してのより詳細な断面図である。図３に示すように、凹面形ミラー１０および凸面形ミラー１２は、光軸３０を中心にして同心に配置されている。

図４は、図１のリソグラフィ装置用の投影装置の一部を形成するために使用することができる４つの画像形成ミラー系４０、４２、４４、４６のアレイである。このアレイは、５つ以上の画像形成ミラー系を備えることができる。しかし、図面を見やすくするために、図４には４つの画像形成ミラー系しか示していない。各画像形成ミラー系４０、４２、４４、４６は、第１ミラー部分４８および第２ミラー部分５０に分割されている凹面形状の一次ミラーを含む。小型の凸面形状の二次ミラー５１が、凹面形状の一次ミラーと同心に配置されている。図４の画像形成ミラー系のアレイは、基板の比較的大きなエリアをパターン化するために使用することができ、それにより、その大きなサイズおよび重量のために変形を起こしやすく、その結果誤差を生じる大きな１つの画像形成ミラー系を使用する必要がなくなる。

或る例では、一次ミラーの２つのミラー部分４８、５０は、例えば、１つの凹面形ミラーを２つに切断することにより形成される。２つのミラー部分４８、５０を形成するためのその他の製造方法も使用することができる。図４のアレイの各画像形成ミラー系は、２つのミラー部分４８、５０を有しているので、アレイは、その他の方法と比較した場合、もっと移動することができ、もっと多くの自由度を提供することができる。或る例では、各ミラー部分４８、５０は、３つの自由度で個別に動くことができる。

図４の場合には、４つの画像形成領域５２、５４、５６、５８は、点線の長方形で概略示してある。画像形成領域は長方形で示してあるが、いくつかの例では、これらの画像形成領域はバナナの形をしている。画像形成領域５２、５４、５６、５８は、走査方向６０に基板を走査した場合に、画像形成領域間にギャップができないように配置される。一例では、画像形成領域５２、５４、５６、５８は相互に重なっている。

画像形成領域は、各画像形成ミラー系４０、４２、４４、４６の半分上にしか示していないが、画像形成ミラー系４０、４２、４４、４６の一次ミラーのミラー部分４８、５０の両方が使用される。

図４の場合には、各凹面形ミラーの一般的な形状は、円６２で示してある。各ミラー部分４８、５０の大体の形状は、太い黒い線で円６２上に示してある。これは、その最大の寸法を短くするためにミラー部分４８、５０を切断することにより、円６２が参照番号６４で示す領域内で重なるように、ミラー部分４８、５０を配置することができることを示すためである。これにより、基板を走査方向６０に走査した場合に、画像形成領域５２、５４、５６、５８間に確実にギャップができないようにすることができる。

図４の略図は、その他のミラー部分と接触しているミラー部分４８、５０を示しているが、ミラー部分は、通常、ミラー部分が任意のその他のミラー部分と接触しないように配置される。このことは、ミラー部分間の任意の機械的干渉を避けるために、また任意の振動が一方のミラー部分から他方のミラー部分に伝わるのを避けるために行われる。

図４に示すように、画像形成ミラー系４０、４２、４４、４６は、二列に配置され、各列は走査方向６０に対して直角である。図４の場合には、各列には２つの画像形成ミラー系しか示していないが、各列はもっと多くのこのような画像形成システムを含むことができる。一列の画像形成ミラー系は、その他の列の画像形成ミラー系間の真ん中に（例えば、１８０度の位相のズレで）位置している。

図５は、図４とは別の例を示す。この場合も、大きなアレイの一部を形成する４つの画像形成ミラー系７０、７２、７４、７６を示す。各画像形成ミラー系は、凹面形状の一次ミラー７８および凸面形状の二次ミラー８０を備える。この例では、一次ミラーは、２つのミラー部分に切断されていないが、代わりに、各一次ミラーの頂部および底部が直線８２に沿って切り取られている。これにより、走査方向６０に直角な方向に画像形成ミラー系７０、７２、７４、７６を移動してもっと接近させることができる。画像形成システムを移動してもっと相互に接近させると、基板を走査方向６０に走査した場合に、画像形成領域８４、８６、８８、９０間のギャップが確実になくなる。例として、画像形成領域８４、８６、８８、９０はバナナ形状である。さらに、図５の一次ミラー７８は、相互に接触しているように図示してあるが、いくつかの例では、図４のアレイのところで説明した理由により、任意の一次ミラーは接触していない。

図６は、図４の画像形成ミラー系の１つのより詳細な図面である。画像形成ミラー系は、２つのミラー部分４８、５０を有する凹面形状の一次ミラー、および凸面形状の二次ミラー５１を備える。画像形成ミラー系は、さらに、それぞれ第１および第２平面円形ミラー９２、９４を備える。これらの円形ミラーは、光をレチクル（図示せず）からミラー部分５０の方向に向けるように位置している。レチクルは紙面上に位置している。それ故、レチクルからの光は、紙面に直角な方向に下に向かって平面ミラー９２上に伝搬する。この光は、平面ミラー９２から平面ミラー９４へ、また平面ミラー９４からミラー部分５０へ反射する。次に、この光は凸面形状の二次ミラー５１へ、ミラー部分４８へ、またここから基板（図示せず）へ反射する。

任意選択であることを示すために点線で示してある任意選択としての第３の円形の平面ミラー９６は、存在しないと見なされ、そのため光は第３ミラー９６の位置を通過して、基板（図示せず）へ連続的に直線で示してある。しかし、上記ミラー９６が存在する場合には、光の方向を変えるために第３平面ミラー９６を使用することができる。その場合、基板を異なる位置に置くことができる。

この例では、図４の各画像形成ミラー系が、図６に示すように、それぞれ第１および第２平面ミラー（および恐らく第３平面ミラー）を具備する。第１および第２平面ミラー９２、９４の役割は、基板に到着した場合に、各画像形成ミラー系が生成したレチクルの画像の向きが、確実に正しい方向を向くようにすることである。それ故、第１および第２平面ミラー９２、９４を使用しているので、各画像形成ミラー系によって作られた倒置画像を許容するように、レチクル上のパターンを変えなくてもよい。

図６の平面ミラー９２、９４、９６は、また、同じ方法で図５に示し他例の各画像形成ミラー系を備えることができる。

図２〜図５は、２つの湾曲したミラーを含む各画像形成システムを示しているが、本発明は、もっと多くの数の光学素子を含む画像形成システムにも同様に適用することができることを理解されたい。

上記リソグラフィ装置は、画像形成システムと基板との間に、例えば水のような比較的屈折率が大きい液体を含むことができる。例えば、図２を参照すると、浸漬液を画像形成システム２、４、６、８と画像形成領域１４、１６、１８、２０間に供給することができる。そうした場合、（浸漬液の前の）各画像形成システムの焦点の直前に、適当な屈折光学系（図示せず）を形成することができる。屈折光学系の背面は、収差を修正するために非球形にすることができる。別の方法としては、ミラーおよび／または屈折プレートを非球形にすると同時に、ミラーの曲率半径を変えることができる。浸漬液を使用すると焦点深度が深くなり、それにより画像品質に対する起こりうるＦＰＤ基板の非平面の影響が少なくなる。

浸漬液は、リソグラフィ装置内の例えばマスクと画像形成システムの間のその他の空間に適用することもできる。これらの浸漬技術を使用すると、画像形成システムの開口数を増大することができる。本明細書で使用する場合、「浸漬」という用語は、基板のような構造を液体内に浸漬しなければならないことを意味するものではない。

本明細書においては、ＩＣの製造の際のリソグラフィ装置の使用を特に参照したが、本明細書に記載するリソグラフィ装置は、集積光学システム、光導波路、磁気領域メモリ用の検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造のようなその他の用途にも使用できることを理解されたい。当業者であれば、このようなその他の用途に関して、本明細書内の「ウェハ」または「ダイ」のような用語の任意の使用は、それぞれもっと一般的な用語「基板」または「目標部分」と同義語であることを理解することができるだろう。本明細書でいう基板は、例えば、トラック（通常、基板にレジストの層を塗布し、露光したレジストを現像するツール）、測定ツールおよび／または検査ツールで、露光前または後で処理することができる。応用できる場合、本明細書の開示は、このような基板処理ツール、および、その他の基板処理ツールに適用できる。さらに、基板は、例えば、多層ＩＣを生成するために、２回以上処理することができるので、本明細書で使用する基板という用語は、すでに複数の処理層を含む基板を指す場合もある。

以上、光リソグラフィという文脈で本発明例について特に言及したが、本発明は、例えばインプリント・リソグラフィ等のその他の用途にも使用でき、その場合、前後関係から判断できる場合には、光リソグラフィに限定されないことを理解することができるだろう。インプリント・リソグラフィの場合には、パターン形成手段内の形が基板上に生成されるパターンを決める。パターン形成手段の形は、基板に塗布されたレジストの層内に押しつけることができ、その場合、レジストは電磁放射線、熱、圧力またはこれらの組み合わせを適用することにより硬化される。パターン形成手段をレジストから取り除くと、レジストが硬化した後でその中にパターンが残る。

本明細書で使用する「放射線」および「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射線（例えば、約３６５、３５５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの波長を有する）、極紫外線（ＥＵＶ）放射線（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、およびイオン・ビームまたは電子ビームのような粒子ビームを含むすべてのタイプの電磁放射線を含む。

「レンズ」という用語は、前後関係からそう解釈できる場合には、屈折性、反射性、磁性、電磁性および静電性光学構成要素を含む種々のタイプの光学構成要素のうちの任意のものまたは組み合わせを意味する。

以上では、本発明の特別な例について説明したが、本発明は前記以外の方法でも実施できる。それ故、当業者であれば、特許請求の範囲に記載した範囲から逸脱することなく、前記のように本発明に種々の変形を加え得るものである。

詳細な説明の部分は、特許請求の範囲を解釈するために主として使用されたい。概要の部分および要約の部分は、本発明者が考えた本発明の１つまたは複数を記載することができるが、本発明のすべての例示としての実施形態を記載することはできない。それ故、概要の部分および要約の部分は、本発明を制限するものではない。

本発明を使用することができるリソグラフィ装置である。 本発明の一例による複数の画像形成ミラー系を含む投影装置のレイアウトを示す模式図である。 図２の画像形成ミラー系のうちの１つにおけるミラーの配置を示す横断面図である。 ４つの画像形成ミラー系のアレイを示す模式図である。 画像形成ミラー系の別のアレイの模式図である。 画像が確実に正しい方向を向くようにする多数の平面ミラーを含む画像形成ミラー系の模式図である。

Claims (17)

1. 基板上に放射線を投影するための投影装置において、
   少なくとも２つのミラーをそれぞれが含む複数の画像形成ミラー系を有し、各画像形成ミラー系が、関連する画像形成領域に放射線を指向させるように配設されている投影装置。
2. 前記画像形成ミラー系の各々が、凹面形ミラーと凸面形ミラーを含むる請求項１に記載された投影装置。
3. 前記凸面形ミラーの各々が、その前記凹面形ミラーと同心関係で配設されている請求項２に記載された投影装置。
4. 前記凹面形ミラーの各々が、第１ミラー部分と第２ミラー部分を含む請求項２に記載された投影装置。
5. 前記画像形成ミラー系の前記凹面形ミラーが、走査方向で隣接する画像形成領域間にギャップ排除する態様で、前記画像形成ミラー系を配設できるような形状になされている請求項２に記載された投影装置。
6. 前記画像形成ミラー系が二列で配設され、各列が走査方向に対して直角である請求項１に記載された投影装置。
7. 前記画像形成ミラー系の各々が関連する位相を有し、第１列の前記画像形成ミラー系が、第２列の前記画像形成ミラー系との関係で位相が１８０度ずれて配置されている請求項６に記載された投影装置。
8. 前記画像形成ミラー系が、走査方向で隣接する画像形成領域間のギャップを排除する態様で配設されている請求項６に記載された投影装置。
9. 前記画像形成ミラー系の各々が、前記凹面形ミラーの方向に入射光を指向させるように配設された第１平面ミラーを更に含む請求項１に記載された投影装置。
10. パターン形成手段から前記第１平面ミラーに向けて光を反射するように配設された第２平面ミラーを更に含む請求項９に記載された投影装置。
11. 前記第１平面ミラーと前記第２平面ミラーが、パターン形成手段から画像を受け、基板位置での前記画像の方向が、前記画像を作る前記パターン形成手段の対応する部分の方向と同じになるように、前記凹面形ミラーに向けて前記画像を反射させるように配設され、かつ、前記基板位置で全ての前記画像形成ミラー系によって形成された最終画像が全体として前記パターン形成手段と一致している請求項１０に記載された投影装置。
12. 前記凹面形ミラーから基板に対して光を反射させるように配設された第３平面ミラーを更含む請求項１０に記載された投影装置。
13. リソグラフィ装置において、
    放射線ビームを供給する照明系と、
    前記放射線ビームにパターンを付与するパターン形成手段と、
    基板を支持する基板テーブルと、
    前記基板の目標部分に、前記パターン付与された放射線ビームを投影する投影装置とを含み、該投影装置が複数の画像形成ミラー系を含み、該画像形成ミラー系の各々が、入射する放射線を関連する画像形成領域上に指向させるように配設された少なくとも２つのミラーを含むリソグラフィ装置。
14. 前記パターン形成手段がマスクを含む請求項１３に記載されたリソグラフィ装置。
15. 前記パターン形成手段が、個々に制御可能な光変調素子のアレイを含む請求項１３に記載されたリソグラフィ装置。
16. デバイス製造方法が、
    （１）放射線ビームを放射する段階と、
    （２）前記放射線ビームにパターンを付与する段階と、
    （３）基板上に前記パターン付与された放射線ビームを投影する段階とを含み、
    前記パターン付与された放射線ビームが、複数の画像形成ミラー系を含む投影装置を用いて、前記基板上に投影され、前記画像形成ミラー系の各々が、関連する画像形成領域上に放射線を指向させるように配設された少なくとも２つのミラーを含むデバイス製造方法。
17. 請求項１６に記載された方法によって製造された基板を含むフラット・パネル・ディスプレイ。

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