JP2006173018A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】 PDPの放電特性を改善する。
【解決手段】 放電空間Sを介して対向する前面ガラス基板1および背面ガラス基板6と、前面ガラス基板1の放電空間Sに面する位置に形成された保護層とを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、保護層が、化学蒸着によって形成されるCVD酸化マグネシウム層4と、結晶酸化マグネシウム層5を含んでいる。
【選択図】 図2
Description
A:形状計数(A=6)
ρ:マグネシウムの真密度
また、気相酸化マグネシウム単結晶体の合成については、『材料』昭和62年11月号,第36巻第410号の第1157〜1161頁の『気相法によるマグネシウム粉末の合成とその性質』等に記載されている。
この図13において、PDPの製造装置10は、昇温用加熱炉10AとCVDゾーン10B,降温用加熱炉10C,スプレ・ゾーン10Dが、図面の左側から順に配置されている。
この図14において、PDPの製造装置20は、昇温用加熱炉20AとCVDゾーン20B,スプレ・ゾーン20C,降温用加熱炉20Dが、図面の左側から順に配置されている。
3 …誘電体層
4,14 …CVD酸化マグネシウム層(酸化マグネシウム膜)
5 …結晶酸化マグネシウム層
6 …背面ガラス基板(基板)
7 …列電極保護層(誘電体層)
10,20,30,40 …製造装置
10B,20B …CVDゾーン
10D,20C …スプレ・ゾーン
30A,40A …材料タンク
30C,40D …噴射口
40F …気化器
So1,So2 …溶媒
m …気相酸化マグネシウム結晶体の粉末
S …放電空間
X,Y …行電極
D …列電極
Claims (18)
- 放電空間を介して対向する一対の基板と、この一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の放電空間に面する位置に形成された保護層とを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記保護層が、化学蒸着によって形成される酸化マグネシウム膜と、酸化マグネシウム結晶体の粉末を含んでいることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 前記酸化マグネシウム結晶体が、気相酸化法により生成され電子線によって励起されて200〜300nmの波長域内にピークを有するカソード・ルミネセンス発光を行う単結晶体を含んでいる請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記酸化マグネシウム単結晶体が、立方体の単結晶構造を有する酸化マグネシウム単結晶体である請求項2に記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記酸化マグネシウム単結晶体が、立方体の多重結晶構造を有する酸化マグネシウム単結晶体である請求項2に記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記酸化マグネシウム結晶体の粉末が、粒径が0.5μm以上の単結晶体の粉末を含んでいる請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記保護層が、化学蒸着によって形成される酸化マグネシウム膜によって構成される酸化マグネシウム層と、酸化マグネシウム結晶体の粉末を含む結晶酸化マグネシウム層の二層構造になっている請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記酸化マグネシウム結晶体の粉末が、化学蒸着によって形成される酸化マグネシウム膜上に付着している請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記酸化マグネシウム結晶体の粉末が、化学蒸着によって形成される酸化マグネシウム膜内に捕捉されている請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
- 放電空間を介して対向する一対の基板と、この一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の放電空間に面する位置に形成された保護層とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記保護膜の形成工程が、マグネシウム化合物の吹き付けによって化学蒸着による酸化マグネシウム膜を基板上に形成する工程と、酸化マグネシウム結晶体の粉末を付着させる工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記酸化マグネシウム結晶体が、気相酸化法により生成され電子線によって励起されて200〜300nmの波長域内にピークを有するカソード・ルミネセンス発光を行う単結晶体を含んでいる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記酸化マグネシウム結晶体の粉末が、粒径が0.5μm以上の単結晶体の粉末を含んでいる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記化学蒸着による酸化マグネシウム膜の形成工程の終了後に、この酸化マグネシウム膜上に酸化マグネシウム結晶体を付着させる工程が行われる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記化学蒸着による酸化マグネシウム膜の形成工程と酸化マグネシウム結晶体の粉末を付着させる工程とが、同時に行われる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記化学蒸着による酸化マグネシウム膜の形成工程が、気化された化学蒸着材料のマグネシウム化合物の蒸気が加熱された基板上に吹き付けられることによって行われる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記化学蒸着による酸化マグネシウム膜の形成工程が、化学蒸着材料のマグネシウム化合物が溶かされた溶媒が加熱された基板上に吹き付けられることによって行われる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記酸化マグネシウム結晶体の粉末を付着させる工程が、酸化マグネシウム結晶体の粉末が溶媒とともに基板上に吹き付けられることによって行われる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記化学蒸着による酸化マグネシウム膜の形成工程と酸化マグネシウム結晶体の粉末を付着させる工程とが、化学蒸着材料のマグネシウム化合物と酸化マグネシウム結晶体の粉末が溶かされた溶媒が加熱された基板上に吹き付けられることによって、同時に行われる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記化学蒸着による酸化マグネシウム膜の形成工程と酸化マグネシウム結晶体の粉末を付着させる工程とが、化学蒸着材料のマグネシウム化合物が溶かされた溶媒と酸化マグネシウム結晶体の粉末が溶かされた溶媒がほぼ同じ位置から加熱された基板上に吹き付けられることによって、同時に行われる請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8072143B2 (en) | 2007-03-19 | 2011-12-06 | Panasonic Corporation | Plasma display panel and its manufacturing method |
US20200411450A1 (en) * | 2015-01-14 | 2020-12-31 | Corning Incorporated | Glass substrate and display device comprising the same |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0737510A (ja) * | 1993-07-26 | 1995-02-07 | Fujitsu Ltd | プラズマディスプレイパネル |
JPH07192630A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電表示パネル及びその保護膜形成方法 |
JPH07230766A (ja) * | 1994-02-18 | 1995-08-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電表示パネル及びその保護膜形成方法 |
JPH07296718A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Nec Corp | ガス放電表示パネルの製造方法 |
JPH0877933A (ja) * | 1994-09-02 | 1996-03-22 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの保護膜形成方法 |
JPH0877931A (ja) * | 1994-09-02 | 1996-03-22 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの保護膜及びその形成方法 |
JPH08153470A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-06-11 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの保護膜およびその形成方法 |
JPH09167566A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Fujitsu Ltd | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
JPH09245654A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-19 | Hiraki Uchiike | ac形プラズマディスプレイ |
JPH11185646A (ja) * | 1997-08-14 | 1999-07-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネル及びガス発光デバイス |
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0737510A (ja) * | 1993-07-26 | 1995-02-07 | Fujitsu Ltd | プラズマディスプレイパネル |
JPH07192630A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電表示パネル及びその保護膜形成方法 |
JPH07230766A (ja) * | 1994-02-18 | 1995-08-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電表示パネル及びその保護膜形成方法 |
JPH07296718A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Nec Corp | ガス放電表示パネルの製造方法 |
JPH0877933A (ja) * | 1994-09-02 | 1996-03-22 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの保護膜形成方法 |
JPH0877931A (ja) * | 1994-09-02 | 1996-03-22 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの保護膜及びその形成方法 |
JPH08153470A (ja) * | 1994-11-29 | 1996-06-11 | Oki Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの保護膜およびその形成方法 |
JPH09167566A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-06-24 | Fujitsu Ltd | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
JPH09245654A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-19 | Hiraki Uchiike | ac形プラズマディスプレイ |
JPH11185646A (ja) * | 1997-08-14 | 1999-07-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネル及びガス発光デバイス |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8072143B2 (en) | 2007-03-19 | 2011-12-06 | Panasonic Corporation | Plasma display panel and its manufacturing method |
US20200411450A1 (en) * | 2015-01-14 | 2020-12-31 | Corning Incorporated | Glass substrate and display device comprising the same |
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