JP2006171365A - バンクの生成方法並びにカラーフィルタ、液晶パネル、有機ｅｌ装置及び表示パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 バンクを形成するための工数を低減する。
【解決手段】 インクジェットヘッド１０によりポリシラザン１２の液滴を基板１１の上に吐出して描画し、画素となる空間を形成するためのバンクパターンを生成し、更に、熱処理して酸化シリコン１３からなるバンクのパターンを生成する。そして、インクジェットヘッド１０により酸化シリコンの上に撥液性のシランカップリング剤１４を吐出し、撥液性のバンク１５を得る。
【選択図】 図１
【解決手段】 インクジェットヘッド１０によりポリシラザン１２の液滴を基板１１の上に吐出して描画し、画素となる空間を形成するためのバンクパターンを生成し、更に、熱処理して酸化シリコン１３からなるバンクのパターンを生成する。そして、インクジェットヘッド１０により酸化シリコンの上に撥液性のシランカップリング剤１４を吐出し、撥液性のバンク１５を得る。
【選択図】 図１
Description
本発明は、バンク（隔壁）の生成方法並びにカラーフィルタ、液晶パネル、有機ＥＬ装置及び表示パネルの製造方法に関し、特に、液滴吐出ヘッドを用いた製造方法に関する。
従来、例えば液晶パネルのカラーフィルタは、バンク（隔壁）を形成し、そのバンクに囲まれた箇所に液状材料を充填配置することにより製造されているが、そのバンクの形成に際しては、バンク材料の塗布、露光、エッチング等の工程を行っていた（例えば特許文献１参照）。
特開平８−１６６５０７号公報（請求項１等）
上述のようにバンクの形成にはバンク材料の塗布、露光、エッチング等の工程を必要とすることから工程数が多くなり、生成性が低い、コスト増になる等の問題点があった。
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、少なくともバンクを形成する工数の低減を可能にしたバンクの製造方法、カラーフィルタの製造方法、液晶パネルの製造方法、有機ＥＬ装置及び表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係るバンクの生成方法は、液滴吐出ヘッドにより基板上に液滴を吐出して描画し、画素となる空間を形成するためのバンクパターンを生成する。本発明においては、液滴吐出ヘッドによりバンクパターンを直接的に生成するようにしており、従来のように、バンク材料の塗布、露光、エッチング等の工程を必要としないので、製造工数及び製造コストが低減する。なお、本発明において、基板上に液滴を吐出するということは、基板上に直接吐出する場合だけでなく、基板上に形成された各種の薄膜の上に吐出する場合も含まれるものとする。
また、本発明に係るバンクの生成方法は、液滴吐出ヘッドによりポリシラザンの液滴を吐出して描画し、更に、熱処理して酸化シリコンからなるバンクパターンを生成する。本発明においては、ポリシラザンの液滴を吐出し描画し、更に、熱処理して酸化シリコンからなるバンクパターンを生成するようにしているので、微細なバンクパターンを生成することができる。また、ポリシラザンを用いているので、バンクを形成する基板はガラス、酸化シリコン（ＳｉＯ2）だけでなく、金属材料（例えばＩＴＯ等）にも適用できる。
本発明に係るバンクの生成方法は、少なくとも表面が金属部材から形成された基板の上、又は基板上に形成された金属膜若しくは該金属膜を少なくとも含んだ薄膜の上に、液滴吐出ヘッドによりポリシラザンの液滴を吐出する。本発明においては、ポリシラザンを用いるので、金属材料の上にもバンクを容易に生成することができる。
本発明に係るバンクの生成方法において、液滴吐出ヘッドにより撥液性のシランカップリング剤の液滴を前記酸化シリコンからなるバンクパターン上に吐出して撥液性のバンクパターンを生成する。本発明によれば、液滴吐出ヘッドによりポリシラザンの液滴を吐出して描画し、熱処理して酸化シリコンからなるバンクパターンを生成した後に、撥液性のシランカップリング剤の液滴を塗布するようにしたので、シランカップリング剤が結合しにくい金属材料等にも撥液性のバンクパターンを形成することができる。また、液滴吐出ヘッドにより撥液性のバンクパターンを生成することができるので、製造工数及び製造コストが低減される。また、バンクパターンの頂部側が撥液性になり、その下部周辺を酸化シリコンを露出させた状態で親水性が得られるので、バンクにより形成される画素空間に充填される液に対して濡れ性が得られてなじみやすいものとなっており、また、充填される液のパターン形状がその撥液性により確定され、所望の画素形状が得られる。
本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、上記のバンクの生成方法によりガラス基板上にバンクを生成する工程と、前記バンクによって形成される画素空間に画素材料を充填する工程とを有する。本発明においては、上記のバンクの生成方法によりバンクを生成しているので、カラーフィルタの製造工数及び製造コストが低減される。また、バンクパターンの頂部側が撥液性になっている場合には、画素材料のパターン形状がバンクの撥液性によって確定し、所望の画素形状が得られる。
本発明に係る液晶パネルの製造方法は、上記のカラーフィルタの製造方法をその製造過程に含むものである。
本発明に係る有機ＥＬ装置の製造方法は、上記のバンクの生成方法によりバンクを生成する工程と、前記バンクによって形成される画素空間に少なくとも正孔注入層及び発光層をそれぞれ形成する工程とを有する。本発明においては、上記のバンクの生成方法によりバンクを生成しているので、有機ＥＬ装置の製造工数及び製造コストが低減される。また、バンクパターンの頂部側が撥液性になっている場合には、正孔注入層及び発光層のパターン形状がバンクの撥液性によって確定し、所望の画素形状が得られる。
本発明に係る有機ＥＬ装置の製造方法は陽極電極の上に上記のバンクを生成する。本発明においては、ポリシラザンの液滴を吐出し描画し、更に、熱処理して酸化シリコンからなるバンクパターンを生成しているので、金属材料からなる陽極電極の上にも容易にバンクを生成することができる。
本発明に係る表示パネルの製造方法は、上記の記のバンクの生成方法によりバンクを生成する工程を有する。
実施形態１．
図１は本発明の実施形態１に係るバンクの生成方法を示した説明図である。同図を参照しながらバンクの製造方法を説明する。
（１．１）インクジェットヘッド１０により基板１１にポリシラザン１２を吐出してバンクを生成する領域に描画し、基板１１にバンクとなる格子状の突起形状を生成する（図１（ａ）（ｂ））。
（１．２）描画されたポリシラザン１２にアニール処理を施して酸化シリコン（ＳｉＯ2）１３を生成する（（図１（ｂ））。
（１．３）インクジェットヘッド１０により酸化シリコン（ＳｉＯ2）１３の上に撥液性のシランカップリング剤（例えばフッ素が含まれる）１４を吐出し、撥液性のバンク１５を得る（図１（ｂ）（ｃ））。このとき、シランカップリング剤１４はバンク１５の頂部付近を覆って、その領域に撥液性を確保し、バンク１５の下部は酸化シリコン（ＳｉＯ2）１３が露出するようにして親水性を確保する。
図１は本発明の実施形態１に係るバンクの生成方法を示した説明図である。同図を参照しながらバンクの製造方法を説明する。
（１．１）インクジェットヘッド１０により基板１１にポリシラザン１２を吐出してバンクを生成する領域に描画し、基板１１にバンクとなる格子状の突起形状を生成する（図１（ａ）（ｂ））。
（１．２）描画されたポリシラザン１２にアニール処理を施して酸化シリコン（ＳｉＯ2）１３を生成する（（図１（ｂ））。
（１．３）インクジェットヘッド１０により酸化シリコン（ＳｉＯ2）１３の上に撥液性のシランカップリング剤（例えばフッ素が含まれる）１４を吐出し、撥液性のバンク１５を得る（図１（ｂ）（ｃ））。このとき、シランカップリング剤１４はバンク１５の頂部付近を覆って、その領域に撥液性を確保し、バンク１５の下部は酸化シリコン（ＳｉＯ2）１３が露出するようにして親水性を確保する。
なお、ポリシラザン１２は、−（ＳｉＨ2ＮＨ）−を基本ユニットとする有機溶剤に可溶な無機ポリマーであり、大気中で焼成することで、水分や酸素と反応し、例えば１５０℃程度、１時間程度（種類にもよるが）で、緻密で高純度な酸化シリコン（ＳｉＯ2）膜が得られる。また、撥液性のシランカップリング剤１４は、通常、希薄水溶液にして使用される。また、インクジェットヘッド１０としては静電方式、ピエゾ方式又はサーマルインクジェット方式の何れであってもよい。このことは後述の実施形態２〜４においても同様である。
以上のように、本実施形態１においてはポリシラザン１２によりバンク１５に相当する形状を描画し、それを酸化して酸化シリコン（ＳｉＯ2）１３を生成し、その上に撥液性のシランカップリング剤１４を吐出するようにしており、このため、ガラスやＳｉＯ2表面以外のシランカップリング剤１４が結合しにくい基板（例えばＩＴＯ等の金属）に対しても、簡単に撥液性を備えたバンクを生成することができる。このため、従来のように多数の工程を不要にしており生成性が向上している。このように、本実施形態１のバンクの生成方法は基板の材質を問わないので、液晶パネルのカラーフィルタ、有機ＥＬ等の表示パネルのバンク等の生成に適用することができる。また、バンクは撥液性を備えており、バンクによって形成される画素空間に充填される画素材料のパターン形状がバンクの撥液性によって確定し、所望の画素形状が得られる。以下、液晶パネルのカラーフィルタの製造方法を実施形態２とし、有機ＥＬ装置の製造方法を実施形態３としてそれぞれ説明する。
実施形態２．
図２は液晶パネルのカラーフィルタ等を製造するためのパターン製造装置１００の機械的構造を示す構成図である。このパターン製造装置１００は、画素等のパターン成膜溶液を吐出するためのインクジェットヘッド１３１と、加工しようとする基板２０１（３０１）を載置するテーブル１３２と、インクジェットヘッド１３１と基板２０１とを相対的に三次元のＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動させるＸＹＺステージ１３５を備える。ここでは、ＸＹＺステージ１３５は、インクジェットヘッド１３１がＸＺ方向に移動でき、テーブル１３２がＹ方向に移動可能に構成されている。これにより、インクジェットヘッド１３１が加工しようとする基板の全面をスキャンしながら、カラーフィルタや有機ＥＬ等の画素パターン成膜溶液をその基板に塗布できる。
図２は液晶パネルのカラーフィルタ等を製造するためのパターン製造装置１００の機械的構造を示す構成図である。このパターン製造装置１００は、画素等のパターン成膜溶液を吐出するためのインクジェットヘッド１３１と、加工しようとする基板２０１（３０１）を載置するテーブル１３２と、インクジェットヘッド１３１と基板２０１とを相対的に三次元のＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動させるＸＹＺステージ１３５を備える。ここでは、ＸＹＺステージ１３５は、インクジェットヘッド１３１がＸＺ方向に移動でき、テーブル１３２がＹ方向に移動可能に構成されている。これにより、インクジェットヘッド１３１が加工しようとする基板の全面をスキャンしながら、カラーフィルタや有機ＥＬ等の画素パターン成膜溶液をその基板に塗布できる。
また、インクジェットヘッド１３１へパターン成膜溶液を供給するインクタンク１３６と、インクジェットヘッド１３１の吐出面を押しつけてインクタンク１３６からパターン成膜溶液をインクジェットヘッド１３１に充填するための真空ポンプに接続された吸引キャップ１３７と、溶液充填後、インクジェットヘッド１３１の吐出面がこすり付けられてそこに付着した余剰の溶液を取り除くためのワイピングクロスユニット１３８とを備える。ワイピングクロスユニット１３８は、ローラにワイピングクロスが巻き付けられたもので、このクロスを適宜引き出すことで、毎回清浄なクロスで吐出面をワイピングすることが可能となっている。
また、パターン製造装置１００は、吐出アラインメントシステム（図示せず）を備える。このシステムは、パターン形成のための溶液吐出の前に、基板２０１の端部に設けられたアラインメント用区画を利用して溶液の試し打ちを行い、正当な吐出位置からのずれ量をＣＣＤカメラ１４０により検出した後、その検出データを基にデータ処理／記憶部１５５（これについては図３参照）でデータ処理を行い、その処理結果を基にＸＹＺステージ１３５を用して、インクジェットヘッド１３１と基板２０１との適切な相対位置調整を行うためのものである。これにより、インクジェットヘッド１３１と基板２０１との正確な位置決めが可能になっている。
図３は上記のパターン製造装置の制御系のブロック構成図である。パターン製造装置１００は、加工しようとする基板や形成しようとするパターン等の各種情報が入力されるとともに設定情報や加工情報等が表示されるデータ入出力部１５１と、インクジェットヘッド１３１の吐出動作を制御するインクジェットヘッド制御回路１５２と、ＸＹＺステージ１３５の移動動作を制御するＸＹＺステージ駆動回路１５３と、ＣＣＤカメラ１４０の動作を制御するＣＣＤカメラ制御回路１５４と、これらの各部と相互に通信してデータの送受を行い、それらのデータを基にデータの処理／記憶を行って、各部に必要なデータを提供するデータ処理／記憶部１５５とを備える。
なお、カラーフィルタをフルカラー表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の画素を１つのユニットとして１つの画素を形成するが、この画素の配列には、例えば図４（ａ）に示されるストライプ配列、図４（ｂ）に示されるモザイク配列、図４（ｃ）に示されるデルタ配列等が知られている。ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の３つの画素がＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、画素の配置を段違いにし、任意の隣接する３つの画素がＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。
図５はカラーフィルタを製造する過程の一例を示した工程図であり、同図に基づいて上述のパターン製造装置１００を用いてカラーフィルタを製造する過程を説明する。
（２．１）まず、図５（ａ）に示されるように、インクジェットヘッド１３１によりガラス基板２０２上にポリシラザン２０６ａを吐出して格子状パターンを描画し、そして、アニール処理して酸化シリコン（ＳｉＯ2）２０６ｂを生成し、次いで、図５（ｂ）に示されるように、その上に撥液性のシランカップリング剤２０６ｃを吐出するようにして、矢印Ａ方向から見て、格子状パターンのバンク（隔壁）２０６を形成する。バンク２０６の格子状パターンの格子穴の部分は画素が形成される領域、すなわち画素領域２０７である。このバンク２０６によって形成される各画素領域２０７の矢印Ａ方向から見た場合の平面寸法は、例えば３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。バンク２０６は、画素領域２０７に供給される画素材料の他の画素領域への流動を阻止する機能及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。バンク２０６の頂部側の表面は撥液性のシランカップリング剤２０６ｃにより撥液化されており、また、画素領域２０７の表面は親水化されており、インクジェット液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができるとともに、撥液化によりパターン形状が確定し、所望の画素形状が得られる。
（２．２）隔壁２０６の形成後、図５（ｃ）に示されるように、パターン製造装置１００を利用して、ガラス基板２０２にインクジェットヘッド１３１から、画素材料溶液（カラーフィルタ溶液）２０８を各画素領域２０７に供給することにより、各画素領域２０７を画素材料２１３でほぼ均一な厚さに埋める。なお、符号２１３ＲはＲ（赤）の色を有する画素材料を示し、符号２１３ＧはＧ（緑）の色を有する画素材料を示し、そして符号２１３ＢはＢ（青）の色を有する画素材料を示している。
（２．３）各画素領域２０７に所定量の画素材料が充填されると、ヒータによってガラス基板２０２を例えば７０℃程度に加熱して、画素材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発により、図５（ｄ）に示されるように画素材料２１３の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるまで、画素材料の液滴の供給とその液滴の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終的に画素材料の固形分のみが析出して膜化し、これにより希望する各色画素２０３（２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ）が形成される。
（２．４）以上により画素２０３が形成された後、それらの画素２０３を完全に乾燥させるために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。その後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法等といった適宜の手法を用いて、図５（ｅ）に示されるように、保護膜２０４を形成する。なお、この保護膜２０４も、インクジェットヘッド１３１を利用して基板に塗布することもできる。保護膜２０４は、画素２０３等の保護及びカラーフィルタ２００の表面の平坦化のために形成される。
そして、図示は省略するが、図５のカラーフィルタ２００の下には偏光膜が形成され、カラーフィルタ２００の上には、共通電極、配向膜、液晶化合物、配向膜、画素電極、ガラス基板及び偏光膜が形成されて液晶パネルが製造されることになる。
以上のように本実施形態２によれば、バンク（隔壁）２０６を形成したり、各画素材料２１３を充填するのにインクジェットヘッド１３１を用いており、このため、その製造工数が削減されており、製造コストの軽減化が可能になっている。
実施形態３．
図６は有機ＥＬ装置を製造する過程の一例を示した工程図であり、同図に基づいて上述のパターン製造装置１００を用いて有機ＥＬ装置を製造する過程を説明する。
図６は有機ＥＬ装置を製造する過程の一例を示した工程図であり、同図に基づいて上述のパターン製造装置１００を用いて有機ＥＬ装置を製造する過程を説明する。
（３．１）まず、図６（ａ）に示されるように、ガラス基板等の透明基板３０２の表面にＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子３０３を形成し、さらに、透明基板３０２の上に平坦化を兼ねた絶縁膜として、ＳｉＯ2膜３０４を成膜する。そして、ドライエッチング等により能動素子３０３のパッドを開口した後、画素となる透明電極（画素電極）３０５を形成する。この電極形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパックリング法、パイロゾル法等を用いることができる。この透明電極３０５の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等を用いることができる。
（３．２）次に、図６（ｂ）に示されるように、インクジェットヘッド１３１により透明基板３０２上にポリシラザン３０６ａを吐出して格子状パターンを描画し、そして、アニール処理して酸化シリコン（ＳｉＯ2）３０６ｂを生成し、次いで、図６（ｃ）に示されるように、その上に撥液性のシランカップリング剤３０６ｃを吐出するようにして、格子状パターンのバンク（隔壁）３０６を形成する。このバンク３０６により、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止することができる。なお、このバンク３０６は、ＳｉＯ2膜３０４及び透明電極（画素電極）３０５に跨って形成されることになるが、上記のように、ポリシラザン３０６ａをアニール処理してその上にシランカップリング剤３０６ｃを吐出しているので撥液性を備えたバンク３０６を効果的に生成することが可能になっている。
（３．３）次に、図６（ｄ）に示されるように、パターン製造装置１００を利用して、正孔注入層溶液３０８をインクジェットヘッド１３１から吐出し、各透明電極３０５の上に塗布する。その後、大気中、２０℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、発光層溶液と相溶しない正孔注入層３０９を形成する。正孔注入層３０９の層厚は、例えば４０ｎｍ程度である。なお、正孔注入層溶液は、例えばＰＥＤＴ／ＰＳＳ（Polyethylene Dioxythiophene／Polystyrene Sulphonate）溶液である。
（３．４）続いて、図６（ｅ）に示されるように、各画素領域内の正孔注入層３０９の上に、発光層となる赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の３色の有機発光材料溶液（有機ＥＬ溶液）３１０Ｒ，３１０Ｇ，３１０Ｂを塗布する。そして、塗布された溶液を熱処理により乾燥させ発光層３１１Ｒ，３１１Ｇ，３１１Ｂを形成する。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。なお、発光層溶液としては、例えば、Ｒ色発光層３１１ＲにはローダミンＢをドープしたＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）のキシレン溶液が、また、Ｇ色発光層３１１Ｇには例えばＭＥＨ・ＰＰＶのキシレン溶液が、そして、Ｂ色発光層３１１Ｂには例えばクマリンをドープしたＰＰＶのキシレン溶液を用いることができる。
なお、上記の発光層を形成する前に正孔注入層３０９に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層３０９上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機ＥＬ装置を提供できる。
（３．５）その後、図６（ｆ）に示されるように、対向電極３１２を形成する。対向電極３１２はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ，Ａｇ，Ａｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極３１２がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を用いて形成できる。
（３．６）最後に、上記のように形成された基板３０１に他の機器との接続部を設け、また、上記基板を封止して、有機ＥＬ装置を完成させる。
（３．６）最後に、上記のように形成された基板３０１に他の機器との接続部を設け、また、上記基板を封止して、有機ＥＬ装置を完成させる。
以上のような有機ＥＬ装置の製造方法においても、バンクの生成や、正孔注入層溶液や有機ＥＬ溶液の注入に際して、インクジェットを用いており、このため、その製造工数が削減されており、製造コストの軽減化が可能になっている。
なお、赤、緑、青の各色発光層３１１Ｒ，３１１Ｇ，３１１Ｂに用いられる有機化合物及び溶液は、上記に示したものに限定されるものではなく、同様な機能を果たす各種のものを用いることができる。また、中間色を発色するような材料を用いてもよい。
実施形態４．
上述の図６の有機ＥＬ装置は、透明電極（陽極）３０５を画素電極（個別電極）とし、対向電極３１２を共通電極とした例について説明したが、例えば図７に示されるように、陽極電極（透明電極）３０５を共通電極とし、それに対向する電極３１２を画素電極とした形式のものでもよい。その場合にはバンク３０６は陽極電極（透明電極）３０５上に直接形成されることになるが、基板が金属部材からなるものであっても、上述のように、ポリシラザン３０６ａにより描画し、酸化して酸化シリコン（ＳｉＯ2）３０６ｂを生成し、その上に撥液性のシランカップリング剤３０６ｃを吐出して覆うようにしており、このため、ガラスやＳｉＯ2表面以外のシランカップリング剤が結合しにくいＩＴＯ等の金属基板においても簡単に撥液性を備えたバンクを形成することが可能になっている。また、上記の実施形態３では有機ＥＬ装置の例を説明したが、無機ＥＬ装置にも同様に適用される。更に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の隔壁（リブ）の生成にも本発明は同様に適用される。
上述の図６の有機ＥＬ装置は、透明電極（陽極）３０５を画素電極（個別電極）とし、対向電極３１２を共通電極とした例について説明したが、例えば図７に示されるように、陽極電極（透明電極）３０５を共通電極とし、それに対向する電極３１２を画素電極とした形式のものでもよい。その場合にはバンク３０６は陽極電極（透明電極）３０５上に直接形成されることになるが、基板が金属部材からなるものであっても、上述のように、ポリシラザン３０６ａにより描画し、酸化して酸化シリコン（ＳｉＯ2）３０６ｂを生成し、その上に撥液性のシランカップリング剤３０６ｃを吐出して覆うようにしており、このため、ガラスやＳｉＯ2表面以外のシランカップリング剤が結合しにくいＩＴＯ等の金属基板においても簡単に撥液性を備えたバンクを形成することが可能になっている。また、上記の実施形態３では有機ＥＬ装置の例を説明したが、無機ＥＬ装置にも同様に適用される。更に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の隔壁（リブ）の生成にも本発明は同様に適用される。
実施形態５．
図８は本発明の実施形態４に係る電子機器としてＰＤＡ（Personal Digital Assistance）４００を示した図である。同図のＰＤＡ４００の表示パネル４０１には、上記の実施形態２のカラーフイルタを含んだ液晶パネル又は実施形態３及び４の有機ＥＬ装置（又は無機ＥＬ装置）等を用いた表示パネルが用いられる。なお、本発明は上記のＰＤＡの他に、携帯電話、デジタルカメラ、テレビ受信機、プロジェクタ等の各種電子機器にも同様に適用される。
図８は本発明の実施形態４に係る電子機器としてＰＤＡ（Personal Digital Assistance）４００を示した図である。同図のＰＤＡ４００の表示パネル４０１には、上記の実施形態２のカラーフイルタを含んだ液晶パネル又は実施形態３及び４の有機ＥＬ装置（又は無機ＥＬ装置）等を用いた表示パネルが用いられる。なお、本発明は上記のＰＤＡの他に、携帯電話、デジタルカメラ、テレビ受信機、プロジェクタ等の各種電子機器にも同様に適用される。
１０ インクジェットヘッド、１１ 基板、１２ ポリシラザン、１３ 酸化シリコン、１４ シランカップリング剤、１５ バンク、１００ パターン製造装置、１３１ インクジェットヘッド、１３２ ＸＹテーブル、１３５ ＸＹＺステージ、１３６ インクタンク、１３７ 吸引キャップ、１３８ ワイピングクロスユニット、１４０ ＣＣＤカメラ、１５１ データ入出力部、１５２ インクジェットヘッド制御回路、１５３ ＸＹＺステージ駆動回路、１５４ ＣＣＤカメラ制御回路、１５５ データ処理／記憶部、２０１ カラーフィルタ、２０２ ガラス基板、２０３ 画素、２０４ 保護膜、２０６ 隔壁、２０６ａ ポリシラザン、２０６ｂ 酸化シリコン、２０７ 画素領域、２１３ 画素材料、３０１ 基板、３０２ 透明基板、３０３ 能動素子、３０４ 膜、３０５ 透明電極、３０６ａ ポリシラザン、３０６ｂ 酸化シリコン、３０６ｃ シランカップリング剤、３０８ 正孔注入層溶液、３０９ 正孔注入層、３１１Ｂ 色発光層、３１１Ｇ 緑色発光層、３１１Ｒ 赤色発光層、３１２ 対向電極。
Claims (9)
- 液滴吐出ヘッドにより基板上に液滴を吐出して描画し、画素となる空間を形成するためのバンクパターンを生成することを特徴とするバンクの生成方法。
- 液滴吐出ヘッドによりポリシラザンの液滴を吐出して描画し、更に、熱処理して酸化シリコンからなるバンクパターンを生成することを特徴とする請求項１記載のバンクの生成方法。
- 少なくとも表面が金属部材から形成された基板の上、又は基板上に形成された金属膜若しくは該金属膜を少なくとも含んだ膜の上に、液滴吐出ヘッドによりポリシラザンの液滴を吐出することを特徴とする請求項２記載のバンクの生成方法。
- 液滴吐出ヘッドによりシランカップリング剤の液滴を前記酸化シリコンからなるバンクパターン上に吐出して撥液性のバンクパターンを生成することを特徴する請求項２又は３記載のバンクの生成方法。
- 請求項１〜４の何れかに記載のバンクの生成方法によりガラス基板上にバンクを生成する工程と、前記バンクによって形成される画素空間に画素材料を充填する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
- 請求項５記載のカラーフィルタの製造方法をその製造過程に含むことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
- 請求項１〜４の何れかに記載のバンクの生成方法によりバンクを生成する工程と、前記バンクによって形成される画素空間に少なくとも正孔注入層及び発光層をそれぞれ形成する工程とを有することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
- 陽極電極の上にバンクを生成することを特徴とする請求項７記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
- 請求項１〜４の何れかに記載のバンクの生成方法によりバンクを生成する工程を有することを特徴とする表示パネルの製造方法。
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| JP2004363821A JP2006171365A (ja) | 2004-12-16 | 2004-12-16 | バンクの生成方法並びにカラーフィルタ、液晶パネル、有機ｅｌ装置及び表示パネルの製造方法 |
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| JP7511183B2 (ja) | 2020-09-17 | 2024-07-05 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 機能デバイス、および、機能デバイスの製造方法 |
-
2004
- 2004-12-16 JP JP2004363821A patent/JP2006171365A/ja not_active Withdrawn
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