JP2006165489A - 真空圧発生装置及びこれを有する薄膜加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 真空圧発生装置及びこれを有する薄膜加工装置を提供する。
【解決手段】 真空圧発生装置は、真空圧発生ユニット及び安定化モジュールを含む。真空圧発生ユニットは、工程領域の流体を排気して、工程領域に真空を形成する。安定化モジュールは、工程領域及び真空圧発生ユニットの間に配置され、工程領域の真空均一性を向上させるために、流体の通過経路が屈曲するように構成される少なくとも2つの流体通路を有する。工程領域内の流体を屈曲した流体通路を通じて排気することで、工程領域内の真空圧の均一性を向上することができる。
【選択図】 図1
【解決手段】 真空圧発生装置は、真空圧発生ユニット及び安定化モジュールを含む。真空圧発生ユニットは、工程領域の流体を排気して、工程領域に真空を形成する。安定化モジュールは、工程領域及び真空圧発生ユニットの間に配置され、工程領域の真空均一性を向上させるために、流体の通過経路が屈曲するように構成される少なくとも2つの流体通路を有する。工程領域内の流体を屈曲した流体通路を通じて排気することで、工程領域内の真空圧の均一性を向上することができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、真空圧発生装置及びこれを有する薄膜加工装置に関し、より詳細には、工程領域内に形成された真空圧の均一性を向上させることができる真空圧発生装置及びこれを有する薄膜加工装置に関する。
一般に、情報を処理する情報処理装置は、デスクトップコンピュータ、ノートパソコン、携帯電話、及びPDA等が代表的である。
大部分の情報処理装置は、情報を処理するための半導体チップ及び処理された情報を画像に変更する表示装置を含む。最近では、厚さが薄くて、重量が軽い液晶表示パネルを有する液晶表示装置が広く用いられている。
大部分の情報処理装置は、情報を処理するための半導体チップ及び処理された情報を画像に変更する表示装置を含む。最近では、厚さが薄くて、重量が軽い液晶表示パネルを有する液晶表示装置が広く用いられている。
液晶表示パネルは、例えば、ゲートライン、データライン、半導体層、画素電極、カラーフィルター、共通電極、絶縁膜、保護膜等のように薄い厚さを有する薄膜を含む。液晶表示パネルに形成された薄膜パターンは、真空状態のチャンバー内で形成され、真空状態のチャンバーでパターニングされる。
従って、液晶表示パネル内の薄膜又は薄膜パターンを形成するためには、真空圧を発生するチャンバー及びチャンバー内の空気を排気して真空圧を発生させる真空圧発生装置を必要とする。
従来の真空圧発生装置は、チャンバーに形成された空気排出口と直接連結され、チャンバー内部の空気を排気させてチャンバー内に真空圧を形成する。
しかし、真空圧発生装置をチャンバーに直接連結する場合、空気排出口周囲の圧力がチャンバー内の他の位置の圧力より低くなり、その結果、チャンバー内の真空圧の均一性が顕著に減少するという問題点を有する。
しかし、真空圧発生装置をチャンバーに直接連結する場合、空気排出口周囲の圧力がチャンバー内の他の位置の圧力より低くなり、その結果、チャンバー内の真空圧の均一性が顕著に減少するという問題点を有する。
チャンバー内の真空圧が不均一な場合、液晶表示パネルに形成される薄膜の品質が大きく低下する。
従って、本発明は、従来技術による1つ又はそれ以上の問題点及び制限を実質的に除去することを目的とする。
又、本発明は、チャンバー内部の真空圧の均一性をより向上させる真空圧発生装置を提供することを目的とする。
又、本発明は、チャンバー内部の真空圧の均一性をより向上させる真空圧発生装置を提供することを目的とする。
又、本発明は、前記真空圧発生装置を有する薄膜加工装置を提供することを目的とする。
このような本発明による目的を達成するための真空圧発生装置は、真空圧発生ユニット及び安定化モジュールを含む。
真空圧発生ユニットは、工程領域の流体を排気して工程領域に真空を形成する。安定化モジュールは、工程領域及び真空圧発生ユニットの間に配置され、工程領域の真空均一性を向上させるために、流体が通過する少なくとも2つの屈曲した流体通路を有する。選択的に、安定化モジュールは、少なくとも2枚の排気プレートを含み、各排気プレートには平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポートが形成される。好ましくは、各排気プレートに形成された排気ポートは、互いに直列配置又は円形に配置することができる。
真空圧発生ユニットは、工程領域の流体を排気して工程領域に真空を形成する。安定化モジュールは、工程領域及び真空圧発生ユニットの間に配置され、工程領域の真空均一性を向上させるために、流体が通過する少なくとも2つの屈曲した流体通路を有する。選択的に、安定化モジュールは、少なくとも2枚の排気プレートを含み、各排気プレートには平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポートが形成される。好ましくは、各排気プレートに形成された排気ポートは、互いに直列配置又は円形に配置することができる。
又、このような本発明の他の目的を達成するための薄膜加工装置は、チャンバー、真空圧発生ユニット、及び安定化モジュールを含む。
チャンバーは、薄膜工程を進行する空間を提供して開口が形成される。真空圧発生ユニットは開口に配置され、チャンバー内部の流体を排気して、チャンバーの内部に真空を形成する。安定化モジュールは、真空圧発生ユニット及びチャンバーの間に配置され、チャンバー内部の真空均一性を向上させるために、チャンバーの内部の流体が通過する経路を屈曲させるような少なくとも2つの流体通路を有する。選択的に、安定化モジュールは、少なくとも2枚の排気プレートを含み、各排気プレートには平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポートが形成される。好ましく、各排気プレートに形成された排気ポートは、互いに直列配置又は円形に配置することができる。
チャンバーは、薄膜工程を進行する空間を提供して開口が形成される。真空圧発生ユニットは開口に配置され、チャンバー内部の流体を排気して、チャンバーの内部に真空を形成する。安定化モジュールは、真空圧発生ユニット及びチャンバーの間に配置され、チャンバー内部の真空均一性を向上させるために、チャンバーの内部の流体が通過する経路を屈曲させるような少なくとも2つの流体通路を有する。選択的に、安定化モジュールは、少なくとも2枚の排気プレートを含み、各排気プレートには平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポートが形成される。好ましく、各排気プレートに形成された排気ポートは、互いに直列配置又は円形に配置することができる。
本発明によると、チャンバー及び真空発生ユニットの間に流体の流れを屈曲させる安定化モジュールを配置することにより、工程領域内で発生される真空の不均一性をより減少させる点に本発明の特徴がある。
本発明の真空圧発生装置は、真空圧を発生させる真空圧発生ユニット及び真空の均一性を向上させる安定化モジュールを含む。
真空圧発生ユニットは、工程領域の流体を排気して工程領域に真空を形成する。例えば、本発明の真空圧発生ユニットは、基板上に薄膜を形成するために、工程領域内に空気を排気して真空を形成することができる。
真空圧発生ユニットは、工程領域の流体を排気して工程領域に真空を形成する。例えば、本発明の真空圧発生ユニットは、基板上に薄膜を形成するために、工程領域内に空気を排気して真空を形成することができる。
安定化モジュールは、工程領域及び真空圧発生ユニットの間に配置され、工程領域の真空均一性を向上させる。安定化モジュールは、流体、例えば、不活性ガスを含む気体が通過する少なくとも2つの屈曲した流体通路を含む。
このような工程領域内の流体を屈曲した流体通路を通じて分散して外部に排気することにより、工程領域内の真空の均一性を向上することができる。
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
真空圧発生装置
(実施例1)
図1は、本発明の第1実施例による真空圧発生装置を概念的に示す断面図である。図2は、図1の真空圧発生装置の排気プレートを抜粋して示す分解斜視図である。
真空圧発生装置
(実施例1)
図1は、本発明の第1実施例による真空圧発生装置を概念的に示す断面図である。図2は、図1の真空圧発生装置の排気プレートを抜粋して示す分解斜視図である。
図1及び図2を参照すると、本実施例による真空圧発生装置400は、真空圧発生ユニット100及び安定化モジュール200を含む。
真空圧発生ユニット100は、工程領域10の流体20、例えば、気体を排気して工程領域10の内部に真空圧を形成する。
真空圧発生ユニット100は、工程領域10の流体20、例えば、気体を排気して工程領域10の内部に真空圧を形成する。
本実施例による真空圧発生ユニット100の例としては、モーターの回転運動を通じて工程領域10内の気体を排気する真空ポンプが挙げられる。これ以外にも、真空圧発生ユニット100は、工程領域10内部の気体を排気するためのいかなる装置を用いても良い。
安定化モジュール200は、工程領域10及び真空圧発生ユニット100の間に配置され、工程領域10での真空圧の均一性をより向上させる。安定化モジュール200は、流体20、例えば、気体の通過経路が屈曲するような少なくとも2つの流体通路を有する。
本実施例による安定化モジュール200は、少なくとも2枚が積層された排気プレート210を含む構成とすることができる。
本実施例による各排気プレート210は、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212を有する。本実施例において、各排気ポート212は、平面上で見た時、円形又は楕円形状とすることができ、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。
本実施例による各排気プレート210は、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212を有する。本実施例において、各排気ポート212は、平面上で見た時、円形又は楕円形状とすることができ、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。
以下、本実施例による排気プレート210を第n番目排気プレート、第n+1番目排気プレート、第n+2番目排気プレートとして定義する(但し、nは自然数である)。
本実施例において、排気プレート210のうち、第n番目排気プレート210aには、少なくとも2つの排気ポート212aでグループ化された第n排気ポートグループが形成される。本実施例による第n排気ポートグループに属する排気ポート212aは、例えば、複数個が互いに平行に直列配置された構成とすることができる。
本実施例において、排気プレート210のうち、第n番目排気プレート210aには、少なくとも2つの排気ポート212aでグループ化された第n排気ポートグループが形成される。本実施例による第n排気ポートグループに属する排気ポート212aは、例えば、複数個が互いに平行に直列配置された構成とすることができる。
一方、排気プレート210のうち、第n+1番目排気プレート210bには、少なくとも2つの排気ポート212bでグループ化された第n+1排気ポートグループが形成される。本実施例による第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212bは、例えば、複数個が互いに平行に直列配置された構成とすることができる。
本実施例において、第n排気ポートグループに属する排気ポート212a及び第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212bは、互いに向かい合わないように配置することが好ましい。
本実施例において、第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212bは、平面上で見た時、第n排気ポートグループの排気ポート212aの間に配置される。好ましくは、第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212bは、第n排気ポートグループに属する4つの排気ポート212aの間に配置されることが好ましい。
本実施例による真空圧発生装置400は、排気プレート210及び真空圧発生ユニット100を連結する固定部材300を更に含むことができる。
固定部材300は、底面320及び収納空間を形成するために、底面320のエッジから延長された側壁310を含む。
固定部材300は、底面320及び収納空間を形成するために、底面320のエッジから延長された側壁310を含む。
本実施例において、排気プレート210は、固定部材300により固定される。好ましくは、排気プレート210は、固定部材300の側壁310に固定される。固定部材300の底面320には、真空圧発生ユニット100と連結される開口322が形成される。本実施例において、固定部材300の底面320は、例えば、プレート形状を有する。
本実施例によると、工程領域10内の流体20は、互いに向かい合わないように配置された排気ポートによって屈曲された移動経路を通じて外部に分散排出されることで、工程領域10内で発生される真空圧の不均一を大きく減少することができる。
(実施例2)
図3は、本発明の第2実施例による排気プレートを抜粋して示す分解斜視図である。本発明の第2実施例による真空圧発生装置は、安定化モジュールを除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複説明は省略して、同じ構成要素には同じ参照符号及び名称を付与する。
(実施例2)
図3は、本発明の第2実施例による排気プレートを抜粋して示す分解斜視図である。本発明の第2実施例による真空圧発生装置は、安定化モジュールを除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複説明は省略して、同じ構成要素には同じ参照符号及び名称を付与する。
この第2実施例においても、第1実施例と同様に、真空圧発生装置400は、真空圧発生ユニット100及び安定化モジュール200を含む。
本実施例による安定化モジュール200は、工程領域10及び真空圧発生ユニット100の間に配置され、工程領域10での真空圧の均一性をより向上させる。安定化モジュール200は、流体20、例えば、気体が通過する経路を屈曲するような少なくとも2つの流体通路を有する。
本実施例による安定化モジュール200は、工程領域10及び真空圧発生ユニット100の間に配置され、工程領域10での真空圧の均一性をより向上させる。安定化モジュール200は、流体20、例えば、気体が通過する経路を屈曲するような少なくとも2つの流体通路を有する。
本実施例による安定化モジュール200は、少なくとも2枚が積層された排気プレート210を含む構成とすることができる。
本実施例による各排気プレート210は、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212を有する。本実施例において、各排気ポート210は、平面上で見た時、円形又は楕円形状とすることができ、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。
本実施例による各排気プレート210は、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212を有する。本実施例において、各排気ポート210は、平面上で見た時、円形又は楕円形状とすることができ、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。
以下、本実施例による排気プレート210を第n番目排気プレート、第n+1番目排気プレート、第n+2番目排気プレートとして定義する(但し、nは自然数である)。
本実施例において、排気プレート210のうち、第n番目排気プレート210cには、少なくとも2つの排気ポート212cでグループ化された第n排気ポートグループが形成される。本実施例による第n排気ポートグループに属する排気ポート212cは、互いに平行に複数個の同心円を有して円形配置される。
本実施例において、排気プレート210のうち、第n番目排気プレート210cには、少なくとも2つの排気ポート212cでグループ化された第n排気ポートグループが形成される。本実施例による第n排気ポートグループに属する排気ポート212cは、互いに平行に複数個の同心円を有して円形配置される。
一方、排気プレート210のうち、第n+1番目排気プレート210dには、少なくとも2つの排気ポート212dでグループ化された第n+1排気ポートグループが形成される。本実施例による第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212dは、互いに平行に複数個の同心円上に円形状に配置される。
本実施例において、第n排気ポートグループに属する排気ポート212c及び第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212dは、互いに向かい合わないようい配置されることが好ましい。
本実施例において、第n排気ポートグループに属する排気ポート212c及び第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212dは、互いに向かい合わないようい配置されることが好ましい。
本実施例において、第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212dは、平面上で見た時、第n排気ポートグループの排気ポート212cの間に配置される。好ましく、第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212dは、第n排気ポートグループに属する排気ポート212cが配置される円と同じ中心を有し、異なる半径の同心円上に配置されることが好ましい。
本実施例によると、互いに向かい合わないように排気ポートを円形状に配置することにより、工程領域10内の流体20を屈曲された移動経路を通じて外部に分散排出することで、工程領域10内に発生する真空圧の不均一をより減少することができる
(実施例3)
図4は、本発明の第3実施例による真空圧発生装置のうち、排気プレートを示す分解斜視図である。本発明の第3実施例による真空圧発生装置は、安定化モジュールを除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複された説明は省略して、同じ構成要素には同じ参照符号及び名称を付与する。
本実施例による真空圧発生装置400は、第1実施例および第2実施例と同様に、真空圧発生ユニット100及び安定化モジュール200を含む。
本実施例によると、互いに向かい合わないように排気ポートを円形状に配置することにより、工程領域10内の流体20を屈曲された移動経路を通じて外部に分散排出することで、工程領域10内に発生する真空圧の不均一をより減少することができる
(実施例3)
図4は、本発明の第3実施例による真空圧発生装置のうち、排気プレートを示す分解斜視図である。本発明の第3実施例による真空圧発生装置は、安定化モジュールを除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複された説明は省略して、同じ構成要素には同じ参照符号及び名称を付与する。
本実施例による真空圧発生装置400は、第1実施例および第2実施例と同様に、真空圧発生ユニット100及び安定化モジュール200を含む。
本実施例による安定化モジュール200は、工程領域10及び真空圧発生ユニット100の間に配置され、工程領域10での真空圧の均一性をより向上させる。安定化モジュール200は、流体20、例えば、気体の通過経路が屈曲するような少なくとも2つの流体通路を有する。
本実施例による安定化モジュール200は、少なくとも2枚が積層された排気プレート210を含む構成とすることができる。
本実施例による各排気プレート210は、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212を有する。本実施例において、各排気ポート210は、平面上で見た時、円形又は楕円形状とすることができ、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。
本実施例による各排気プレート210は、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212を有する。本実施例において、各排気ポート210は、平面上で見た時、円形又は楕円形状とすることができ、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。
以下、本実施例による排気プレート210を第n番目排気プレート、第n+1番目排気プレート、第n+2番目排気プレートとして定義する(但し、nは自然数である)。
本実施例において、排気プレート210のうち、第n番目排気プレート210eには、少なくとも2つの排気ポート212eでグループ化された第n排気ポートグループが形成される。本実施例による第n排気ポートグループに属する排気ポート212eは、複数個がランダムに配置される。
一方、排気プレート210のうち、第n+1番目排気プレート210fには、少なくとも2つの排気ポート212fでグループ化された第n+1排気ポートグループが形成される。本実施例による第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212fは、複数個がランダムに配置される。
本実施例において、第n排気ポートグループに属する排気ポート212e及び第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212fは、互いに向かい合わないように配置することが好ましい。
本実施例によると、互いに向かい合わないようにランダムに排気ポートを配置することによって、屈曲された移動経路形成し、この流通経路を通じて工程領域10内の流体20を外部に分散排出することで、工程領域10内で発生する真空圧の不均一をより減少することができる
(実施例4)
図5は、本発明の第4実施例による真空圧発生装置を示す概念図である。本発明の第4実施例による真空圧発生装置は固定部材を除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複説明は省略し、同じ構成要素には同じ参照符号及び名称を付与する。
本実施例において、排気プレート210のうち、第n番目排気プレート210eには、少なくとも2つの排気ポート212eでグループ化された第n排気ポートグループが形成される。本実施例による第n排気ポートグループに属する排気ポート212eは、複数個がランダムに配置される。
一方、排気プレート210のうち、第n+1番目排気プレート210fには、少なくとも2つの排気ポート212fでグループ化された第n+1排気ポートグループが形成される。本実施例による第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212fは、複数個がランダムに配置される。
本実施例において、第n排気ポートグループに属する排気ポート212e及び第n+1排気ポートグループに属する排気ポート212fは、互いに向かい合わないように配置することが好ましい。
本実施例によると、互いに向かい合わないようにランダムに排気ポートを配置することによって、屈曲された移動経路形成し、この流通経路を通じて工程領域10内の流体20を外部に分散排出することで、工程領域10内で発生する真空圧の不均一をより減少することができる
(実施例4)
図5は、本発明の第4実施例による真空圧発生装置を示す概念図である。本発明の第4実施例による真空圧発生装置は固定部材を除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複説明は省略し、同じ構成要素には同じ参照符号及び名称を付与する。
図5に示すように、本実施例による真空圧発生装置400は、真空圧発生ユニット100、安定化モジュール200、及び固定部材300を含む。
本実施例による固定部材300は、底面330、及び収納空間を形成するために底面330のエッジから延長された側壁310を含む。
本実施例による固定部材300は、底面330、及び収納空間を形成するために底面330のエッジから延長された側壁310を含む。
本実施例において、排気プレート210は、固定部材300により固定される。好ましくは、排気プレート210は、固定部材300の側壁310に固定される。固定部材300の底面330には、真空圧発生ユニット100と連結される開口332が形成される。
本実施例において、固定部材300の底面330は、真空圧発生ユニット100に向かって、平面積が漸次減少するコーン形状を有する。
本実施例において、コーン形状を有する底面330には、流体の排出経路を屈曲させる排気プレート210が配置されることが好ましい。これと異なり、コーン形状を有する底面330には、排気プレート210を配置しない構成とすることもできる。
本実施例において、コーン形状を有する底面330には、流体の排出経路を屈曲させる排気プレート210が配置されることが好ましい。これと異なり、コーン形状を有する底面330には、排気プレート210を配置しない構成とすることもできる。
本実施例によると、固定部材300の底面330が平面積が減少するコーン形状を有するので、工程領域10内の流体20が外部により効率的に排出され、その結果、工程領域10内で発生される真空の不均一をより減少させることができる。
(実施例5)
図6は、本発明の第5実施例による真空圧発生装置を示す概念図である。本発明の第5実施例による真空圧発生装置は、安定化モジュール及び固定部材を除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複説明は省略し、同じ構成要素には、同じ参照符号及び名称を付与する。
(実施例5)
図6は、本発明の第5実施例による真空圧発生装置を示す概念図である。本発明の第5実施例による真空圧発生装置は、安定化モジュール及び固定部材を除くと、前述した第1実施例の真空圧発生装置と同じ構成を有するので、その重複説明は省略し、同じ構成要素には、同じ参照符号及び名称を付与する。
本実施例による真空圧発生装置400は、図5に示す第4実施例の真空圧発生装置と同様に、真空圧発生ユニット100、安定化モジュール200、及び固定部材300を含む。
本実施例による安定化モジュール200は、工程領域10及び真空圧発生ユニット100の間に配置され、工程領域10での真空圧の均一性をより向上させる。安定化モジュール200は、流体20、例えば、気体の通過経路が屈曲するような少なくとも2つの流体通路を有する。
本実施例による安定化モジュール200は、少なくとも2枚が積層された排気プレートを含み、各排気プレートはそれぞれ固定部材300に固定される。
本実施例による固定部材300は、底面330及び収納空間を形成するために、底面330のエッジから延長された側壁310を含む。
本実施例による固定部材300は、底面330及び収納空間を形成するために、底面330のエッジから延長された側壁310を含む。
複数の排気プレートはそれぞれ固定部材300に固定されものであり、側壁310に固定される排気プレート210と、底面330に固定される排気プレート210’を含むことが好ましい。固定部材300の底面330には、真空圧発生ユニット100と連結される開口332が形成される。
排気プレートのうち、固定部材300の側壁310に固定される排気プレート210は、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212を有する。本実施例において、各排気ポート212は、平面上で見た時、円形又は楕円形状とすることができ、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。
本実施例において、固定部材300の底面330は、真空圧発生ユニット100に向かって平面積が漸次減少するコーン形状を有する。このコーン形状を有する底面330には、流体20の排出経路を屈曲させる排気プレート210’を配置することができる。
固定部材300の底面330に固定される各排気プレート210’は、複数個の排気ポート214が形成されている。この排気ポート214は、例えば、底面330の開口332の周辺に円形又は楕円形状に配置されており、各排気ポート214の排気面積は、底面330の開口332から離れるほど増加するように構成できる。これと異なり、各排気ポート214の排気面積を底面330の開口332から離れるほど減少するように構成できる。
例えば、コーン形状を有する底面330に配置された各排気プレート210’の排気ポート214は、開口332から離れるほど増加する面積を有し、側壁310に固定された各排気プレート210の排気ポート212は、開口332からの距離と関係なく、同じ面積を有することが好ましい。
本実施例によると、各排気ポート214の排気面積が底面330の開口332から離れるほど増加することで、工程領域10内の流体20が外部により効率的に排出することができる。
薄膜加工装置
(実施例6)
図7は、本発明の第6実施例による薄膜加工装置を示す概念図である。
薄膜加工装置
(実施例6)
図7は、本発明の第6実施例による薄膜加工装置を示す概念図である。
図7に示すように、本実施例による薄膜加工装置600は、チャンバー500、真空圧発生ユニット100、及び安定化モジュール200を含む。
チャンバー500は、例えば、基板上に金属層又は非金属層を薄膜形態で蒸着する薄膜工程を実行する空間を提供する。
チャンバー500は、例えば、基板上に金属層又は非金属層を薄膜形態で蒸着する薄膜工程を実行する空間を提供する。
本実施例によるチャンバー500には、チャンバー500内の流体20、例えば、不活性気体を外部に排気するための開口510が形成される。本実施例において、空気をよく吸収するゲッター(getter)をチャンバー500内に配置することにより、チャンバー500内の真空度をより高めることができる。
真空圧発生ユニット100は、チャンバー500内の開口510と連結されるように配置され、チャンバー500内の流体20を排気して、チャンバー500内部に真空を形成する。
安定化モジュール200は、真空圧発生ユニット100及びチャンバー500の間に配置され、チャンバー500内部の真空均一性をより向上させる。安定化モジュール200には、流体20、例えば、気体が通過する少なくとも2つの屈曲された流体通路が形成される。
本実施例による安定化モジュール200は、少なくとも2枚が積層され配置された排気プレート210を含む。
本実施例による各排気プレート210には、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212が形成される。本実施例において、各排気ポート212は、円形又は楕円形状であり、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。これと異なり、各排気ポート212の排気面積を、真空圧発生ユニット100から離れるほど増加することもできる。
本実施例による各排気プレート210には、平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポート212が形成される。本実施例において、各排気ポート212は、円形又は楕円形状であり、各排気ポート212の排気面積は同一であることが好ましい。これと異なり、各排気ポート212の排気面積を、真空圧発生ユニット100から離れるほど増加することもできる。
本実施例において、各排気プレート210に形成された排気ポート212は、例えば、複数個が互いに直列配置される。これと異なり、各排気プレート210に形成された排気ポート212は、複数個を円形状に配置するか、ランダムに配置することができる。
本実施例による真空圧発生装置400は、排気プレート210及び真空圧発生ユニット100を連結する固定部材300を更に含むことができる。
本実施例による固定部材300は、底面320及び収納空間を形成するために、底面320のエッジから延長された側壁310を含む。
本実施例による固定部材300は、底面320及び収納空間を形成するために、底面320のエッジから延長された側壁310を含む。
本実施例において、排気プレート210は、固定部材300により固定される。好ましく、排気プレート210は、固定部材300の側壁310に固定される。固定部材300の底面320には、真空圧発生ユニット100と連結される開口322が形成される。
本実施例において、固定部材300の底面320は、例えば、プレート形状を有する。これと異なり、固定部材300の底面320は、真空圧発生ユニット100に向かって平面積が減少するコーン形状とすることもできる。
本実施例によると、排気ポート212により屈曲された移動経路を形成することで、チャンバー500内部の流体20を外部に分散排出して、チャンバー10内で発生する真空圧の不均一をより減少することができる。
以上で詳細に説明したように、各排気プレートに形成された複数個の排気ポートは、互いに向かい合わないように配置され、その結果、排気ポートにより屈曲して形成された通過経路を介して、工程領域内の流体を外部に分散排出することにより、工程領域内で発生する真空圧の不均一の程度を減少することができる。
又、排気プレートを固定する固定部材のうち、底面の水平方向断面積が減少するコーン形状とすることにより、工程領域内の流体をより効率的に外部に排出することができる。
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
100 真空圧発生ユニット
200 安定化モジュール
210 排気プレート
210a、210c、210e 第n番目排気プレート
210b、210d、210f 第n+1番目排気プレート
212、214 排気ポート
212a、212c、212e 第n番目排気ポート
212b、212d、212f 第n+1番目排気ポート
300 固定部材
310 側壁
320、330 底面
322、332 開口
400 真空圧発生装置
500 チャンバー
600 薄膜加工装置
200 安定化モジュール
210 排気プレート
210a、210c、210e 第n番目排気プレート
210b、210d、210f 第n+1番目排気プレート
212、214 排気ポート
212a、212c、212e 第n番目排気ポート
212b、212d、212f 第n+1番目排気ポート
300 固定部材
310 側壁
320、330 底面
322、332 開口
400 真空圧発生装置
500 チャンバー
600 薄膜加工装置
Claims (24)
- 工程領域の流体を排気して前記工程領域に真空を形成するための真空圧発生ユニットと、
前記工程領域及び前記真空圧発生ユニットの間に配置され、前記工程領域の真空均一性を向上させるために、前記流体の通過経路を屈曲させる少なくとも2つの流体通路を有する安定化モジュールと、
を含むことを特徴とする真空圧発生装置。 - 前記安定化モジュールは、少なくとも2枚の排気プレートを含み、前記各排気プレートには平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポートが形成されることを特徴とする請求項1記載の真空圧発生装置。
- 前記排気プレートのうち、第n番目排気プレートには少なくとも2つの排気ポートを含む第n排気ポートグループが形成されることを特徴とする請求項2記載の真空圧発生装置(但し、nは自然数)。
- 前記第n排気ポートグループに含まれた前記排気ポートは、互いに平行に直列配置されたことを特徴とする請求項3記載の真空圧発生装置。
- 前記第n排気ポートグループに含まれた前記排気ポートは、円形状に配置されたことを特徴とする請求項3記載の真空圧発生装置。
- 前記排気プレートのうち、n+1番目排気プレートには、平面上で見た時、前記第n排気ポートグループと向かい合わないように配置された第n+1排気ポートグループが形成されたことを特徴とする請求項3記載の真空圧発生装置(但し、nは自然数)。
- 前記第n+1排気ポートグループには、前記排気ポートが平行に直列配置されたことを特徴とする請求項6記載の真空圧発生装置。
- 前記各排気ポートの排気面積は、ほぼ同じであることを特徴とする請求項2記載の真空圧発生装置。
- 前記排気プレート及び前記真空圧発生ユニットは固定部材に連結され、前記固定部材は前記排気プレートを固定する側壁及び前記真空圧発生ユニットと連結される開口が形成された底面を含むことを特徴とする請求項2記載の真空圧発生装置。
- 前記底面は、プレート形状を有することを特徴とする請求項9記載の真空圧発生装置。
- 前記底面は、平面積が漸次狭くなるコーン(corn)形状を有することを特徴とする請求項9記載の真空圧発生装置。
- 前記排気ポートは前記開口の周辺に円形状に配列され、前記排気ポートの排気面積は前記開口から離れるほど増加することを特徴とする請求項9記載の真空圧発生装置。
- 前記排気ポートは前記開口の周辺に円形状に配列され、前記排気ポートの排気面積は前記開口から離れるほど減少することを特徴とする請求項9記載の真空圧発生装置。
- 前記各排気プレートに形成された排気ポートは、ランダムに形成されたことを特徴とする請求項2記載の真空圧発生装置。
- 薄膜工程を進行する空間を提供し、開口が形成されたチャンバーと、
前記開口に配置され、前記チャンバー内部の流体を排気して、前記チャンバーの内部に真空を形成するための真空圧発生ユニットと、
前記真空圧発生ユニット及び前記チャンバーの間に配置され、前記チャンバー内部の真空均一性を向上させるために、前記チャンバーの内部の流体の通過経路を屈曲するような少なくとも2つの流体通路を有する安定化モジュールと、
を含むことを特徴とする薄膜加工装置。 - 前記安定化モジュールは、前記開口を覆う少なくとも2枚の排気プレートを含み、前記排気プレートには平面上で見た時、互いに向かい合わないように配置された排気ポートが形成されたことを特徴とする請求項15記載の薄膜加工装置。
- 前記排気プレートのうち、n番目排気プレートには少なくとも1つの第n排気ポートグループが形成され、前記第n排気ポートグループに含まれた前記排気ポートは互いに平行に直列配置されたことを特徴とする請求項16記載の薄膜加工装置。
- 前記排気プレートのうち、n番目排気プレートには少なくとも1つの第n排気ポートグループが形成され、前記第n排気ポートグループに含まれた前記排気ポートは円形状に配列されたことを特徴とする請求項16記載の薄膜加工装置。
- 前記排気プレートのうち、n+1番目排気プレートには、平面上で見た時、前記第n排気ポートグループと向かい合わないように配置された第n+1排気ポートグループが形成され、前記第n+1排気ポートグループには前記排気ポートが平行に直列配置されたことを特徴とする請求項16記載の薄膜加工装置。
- 前記排気プレートのうち、n+1番目排気プレートには、平面上で見た時、前記第n排気ポートグループと向かい合わないように配置された第n+1排気ポートグループが形成され、前記第n+1排気ポートグループには、前記排気ポートが円形配置されたことを特徴とする請求項16記載の薄膜加工装置。
- 前記排気プレート及び前記真空圧発生ユニットは固定部材に連結され、前記固定部材は前記排気プレートを固定する側壁及び前記真空圧発生ユニットと連結される開口が形成された底面を含むことを特徴とする請求項16記載の薄膜加工装置。
- 前記底面は、プレート形状を有することを特徴とする請求項21記載の薄膜加工装置。
- 前記底面は、水平方向断面積が下方に向かって漸次小さくなるコーン形状を有することを特徴とする請求項21記載の薄膜加工装置。
- 前記排気ポートは前記開口の周辺に円形状に配列され、前記排気ポートの排気面積は前記開口から離れるほど増加することを特徴とする請求項21記載の薄膜加工装置。
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