JP2006156913A - プリント配線基板 - Google Patents

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Abstract

【課題】抵抗器や抵抗ペーストを用いなくても抵抗を形成することができるプリント配線基板を提供する。
【解決手段】絶縁性基板1上に、同じ金属材料で同時に形成された配線パターン3a、抵抗用配線パターン5a及び端子3b,3c,5b,5cが配置されている。配線パターン3aの両端に設けられた端子3b,3c間の距離と、抵抗用配線パターン5aの両端に設けられた端子5b,5c間の距離は同じである。抵抗用配線パターン5aは配線パターン3aよりも長く形成されており、抵抗として機能する。
【選択図】図1

Description

本発明は、金属材料からなる配線パターンを備えたプリント配線基板に関するものである。
従来、抵抗を備えた回路を、プリント配線基板を用いて実現する場合、プリント配線基板に抵抗器を搭載していた(例えば特許文献1を参照。)。
また、基板のスルーホールにスクリーン印刷によって抵抗ペーストを付着させて抵抗体を設けた厚膜印刷回路基板がある(例えば特許文献2を参照。)。
特許2000−307052号公報 特開昭62−165301号公報
しかし、プリント配線基板に抵抗器を搭載したり、プリント配線基板のスルーホールに抵抗ペーストを付着させて抵抗体を形成したりすると、製造コストが増大するという問題があった。
そこで本発明は、抵抗器や抵抗ペーストを用いなくても抵抗を形成することができるプリント配線基板を提供することを目的とするものである。
本発明にかかるプリント配線基板は、金属材料からなる配線パターンを備えたものであって、上記配線パターンと同じ金属材料で同時に形成された、抵抗として機能する抵抗用配線パターンを備えているものである。
本発明のプリント配線基板において、上記抵抗用配線パターンは金属メッキ処理が施されていないことが好ましい。
上記抵抗用配線パターンに金属メッキ処理が施されていない構成例として、3層以上の配線パターン層を備え、上記抵抗用配線パターンは中間層の配線パターン層により形成されている例を挙げることができる。
本願特許請求の範囲及び本明細書において、中間層の配線パターン層とは、最上層の配線パターン層と最下層の配線パターン層の間に形成された配線パターン層を意味する。
また、上記抵抗用配線パターンは蛇行して形成されている例を挙げることができる。ただし、抵抗用配線パターンは蛇行して形成されたものに限定されるものではなく、直線状のものであってもよし、複数回折り曲げられたものであってもよいし、曲線であってもよい。
また、上記抵抗用配線パターンはプリント配線基板に形成された他の配線パターンよりも太い配線幅で形成されている例を挙げることができる。
本願特許請求の範囲及び本明細書において、配線パターンの語は、例えば電子部品を搭載するための端子や電極など、幅広に形成された領域を除く。
本発明のプリント配線基板では、配線パターンと同じ金属材料で同時に形成された、抵抗として機能する抵抗用配線パターンを備えているようにしたので、抵抗器や抵抗ペーストを用いることなく抵抗を形成することができる。
ただし、本発明のプリント配線基板を用いて形成される回路のすべての抵抗が抵抗用配線パターンにより形成されている必要はなく、本発明のプリント配線基板において、抵抗器を搭載するための電極が形成されていてもよい。
また、抵抗用配線パターンは金属メッキ処理が施されていないようにすれば、金属メッキ処理により抵抗用配線パターンの膜厚が変化することはないので、安定した抵抗値を得ることができる。ただし、本発明を構成する抵抗用配線パターンは金属メッキ処理が施されていないものに限定されるものではない。
3層以上の配線パターン層を備えている場合、抵抗用配線パターンは中間層の配線パターン層により形成されているようにすれば、異なる層の配線パターン間を電気的に接続するためのスルーホールを形成するための金属メッキ処理時に抵抗用配線パターンがメッキされることはないので、安定した抵抗値を得ることができる。
また、抵抗用配線パターンは蛇行して形成されているようにすれば、抵抗用配線パターンを直線状にする場合などに比べて抵抗用配線パターンの端部の位置を任意に設定することができ、設計の自由度を向上させることができる。
また、抵抗用配線パターンはプリント配線基板に形成された他の配線パターンよりも太い配線幅で形成されているようにしてもよい。
例えば、他の配線パターンと同じ配線で抵抗用配線パターンを形成したときに配線幅のばらつきにより抵抗用配線パターンの抵抗値のばらつきが許容範囲を超える場合、抵抗用配線パターンが他の配線パターンよりも太い配線幅で形成されていることにより、抵抗用配線パターンの抵抗値のばらつきを低減することができ、抵抗用配線パターンの抵抗値のばらつきを許容範囲内に抑えることができる。
図1は、一実施例を示す平面図である。
例えばエポキシ樹脂からなる絶縁性基板1上に、配線パターン3aと、配線パターン3aの両端に設けられた端子3b,3cと、抵抗用配線パターン5aと、抵抗用配線パターン5aの両端に設けられた端子5b,5cが形成されている。配線パターン3a、抵抗用配線パターン5a及び端子3b,3c,5b,5cは同時に形成されたものであり、例えば膜厚が0.017mm(ミリメートル)程度の銅により形成されている。配線パターン3a及び抵抗用配線パターン5aの配線幅は例えば0.8mmである。配線パターン3aは直線状に形成され、配線パターン5aは蛇行して形成されている。端子3b,3c間の距離及び端子5b,5c間の距離は20mmである。配線パターン3aの長さは20mmである。抵抗用配線パターン5aの長さは端子5b,5c間の最短経路により決定され、ここでは200mmである。
配線パターン3a及び抵抗用配線パターン5aの抵抗値を測定したところ、配線パターン3aは0.03Ω(オーム)程度であり、抵抗用配線パターン5aは0.30Ω程度であった。このように、端子3b,3c間の距離及び端子5b,5c間の距離が同じであるのに配線パターン3aと抵抗用配線パターン5aで抵抗値が異なっており、抵抗用配線パターン5aを0.30Ωの抵抗として用いることができる。
表1に、銅配線パターンの断面積抵抗係数(Ω/mm2)を調べた結果を示す。サンプルとして、膜厚が0.017mm、長さが200mmの直線状の銅配線パターンを用いた。
Figure 2006156913
このように、断面積抵抗係数、配線長、配線幅、厚みを決定することにより、所望の抵抗値をもつ抵抗用配線パターンを形成することができる。
例えば、表1の例では、0.050Ωの抵抗用配線パターンを得ようとする場合、配線幅が0.6mmのときは配線長を約24.78mm、配線幅が0.7mmのときは配線長を約28.86mm、配線幅が0.8mmのときは配線長を約32.98mm、配線幅が1.0mmのときは配線長を約41.53mmにすればよい。
表2に、配線幅が0.8mm、配線厚みが0.017mmでの抵抗ばらつき予想を調べた結果を示す。
Figure 2006156913
図2は、3層配線パターン構造をもつ実施例を示す図であり、(A)は第1層目配線パターン層を示す平面図、(B)は上面側から見た第2層目配線パターン層を示す平面図、(C)は上面側から見た第3層目配線パターン層を示す平面図、(D)は(A)のA−A位置での断面図である。図1と同じ機能を果たす部分には同じ符号を付す。
例えば、膜厚が0.2mm程度のエポキシ樹脂からなる絶縁性基板1の一表面1aに、膜厚が0.017mm程度の銅からなる抵抗用配線パターン5a及び端子5b,5cが形成されている。
絶縁性基板1の表面1a上に、例えば膜厚が0.1mm程度のエポキシ樹脂からなる絶縁性材料7が接着剤(図示は省略)を介して貼り付けられている。
絶縁性材料7の表面7aに、抵抗用配線パターン5aの端子5bに対応して、例えば膜厚が0.035mm程度の銅からなる電極9が形成されている。
絶縁性基板1の裏面1bに、抵抗用配線パターン5aの端子5cに対応して、例えば膜厚が0.035mm程度の銅からなる電極11が形成されている。
抵抗用配線パターン5aの端子5bと電極9はスルーホール13aを介して電気的に接続されている。抵抗用配線パターン5aの端子5cと電極11はスルーホール13bを介して電気的に接続されている。スルーホール13a,13bは絶縁性材料7及び絶縁性基板1を貫通して形成されている。
スルーホール13a,13bは銅メッキ処理によって形成されたものであり、スルーホール13a,13bの形成時に電極9,11にも銅がメッキされる。抵抗用配線パターン5aは、銅メッキ処理時には絶縁性基板1と絶縁性材料7によって覆われているので、メッキ処理が施されていない。
このように、抵抗用配線パターン5aは中間層の配線パターン層により形成されているので、抵抗用配線パターン5aがメッキされることはなく、安定した抵抗値を得ることができる。
図2に示した実施例では、3層配線パターン構造をもつプリント配線基板に本発明を適用しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、4層以上の配線パターン構造をもつプリント配線基板の中間層の配線パターン層により抵抗用配線パターンを形成するようにすれば、抵抗用配線パターンがメッキされることはなく、安定した抵抗値を得ることができる。
また、抵抗用配線パターンに高精度な抵抗値を要求しない場合には、スルーホール内のメッキ処理時に同時にメッキされた配線パターンを用いて抵抗用配線パターンを形成してもよい。
図3は、さらに他の実施例を示す平面図である。図1と同じ部分には同じ符号を付す。
絶縁性基板1上に、配線パターン(他の配線パターン)3dと、配線パターン3dの両端に設けられた端子3b,3cと、抵抗用配線パターン5aと、抵抗用配線パターン5aの両端に設けられた端子5b,5cが形成されている。配線パターン3d、抵抗用配線パターン5a及び端子3b,3c,5b,5cは同時に形成されたものであり、例えば膜厚が0.017mm程度の銅により形成されている。例えば、配線パターン3dの配線幅は0.1〜0.3mm、抵抗用配線パターン5aの配線幅は0.8mmである。配線パターン3dは直線状に形成され、配線パターン5aは蛇行して形成されている。
この実施例では、抵抗用配線パターン5aは配線パターン3dよりも太く形成されている。
抵抗用配線パターン5aの抵抗値のばらつきを低減する方法として、抵抗用配線パターン5aの配線幅を他の配線パターン3dよりも太くする方法を挙げることができる。
例えば他の配線パターン3dと同じ配線で抵抗用配線パターンを形成したときに配線パターンを形成する際の配線幅のばらつきにより抵抗用配線パターンの抵抗値のばらつきが許容範囲を超える場合、抵抗用配線パターン5aが他の配線パターン3dよりも太い配線幅で形成されていることにより、抵抗用配線パターン5aの抵抗値のばらつきを低減することができ、抵抗用配線パターン5aの抵抗値のばらつきを許容範囲内に抑えることができる。
すなわち、抵抗用配線パターン5aの抵抗値は配線長さと断面積に影響され、断面積だけを考えると厚みは例えば0.01〜0.02mm程度と薄く、その厚みの変化及びばらつきは小さいが、配線幅は例えば0.1〜0.3mm程度であり厚みに比べて数値が大きく、配線幅がばらつけば抵抗値のばらつきに大きく影響する。そこで、抵抗用配線パターン5aの抵抗値のばらつきを許容範囲内に抑えることができる程度に配線幅を太く形成すればよい。
図3に示した実施例では、他の配線パターン3aよりも太い配線幅で形成された抵抗用配線パターン5aは蛇行して形成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の配線パターンよりも太い配線幅で形成された抵抗用配線パターンは直線状や曲線であってもよいし、他の形状であってもよい。
図1、図2及び図3を参照して説明した各実施例では、抵抗用配線パターン5aの端部は端子5b,5cに接続されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、抵抗用配線パターンの端部は他の配線パターンに接続されていてもよい。
また、上記の実施例では、配線パターン及び抵抗用配線パターンの材料として銅を用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、配線パターン及び抵抗用配線パターンの材料は他の金属材料であってもよい。
図4に本発明を適用した二次電池の保護回路モジュールの回路図の一例を示す。
保護回路において、電池側外部端子44a,44b間に二次電池48が接続され、負荷側外部端子46a,46b間に外部装置50が接続され、電池側外部端子44a、負荷側外部端子46a間はプラス側の充放電回路52aにより接続され、電池側外部端子44b、負荷側外部端子46b間はマイナス側の充放電回路52bにより接続されている。充放電回路52bに抵抗用配線パターン5a、電流制御用トランジスタ54及び電流制御用トランジスタ56が直列に接続されている。電流制御用トランジスタ54,56は電界効果トランジスタにより構成されている。
充放電回路52a,52b間に保護IC(Integrated circuit)チップ58が接続されている。保護ICチップ58の電源電圧端子58aは抵抗素子60を介して充放電回路52aに接続され、グランド端子58bは電池側外部端子44b、電流制御用トランジスタ54間の充放電回路52bに接続され、充電器マイナス電位入力端子58cは負荷側外部端子46b、電流制御用トランジスタ56間の充放電回路52bに抵抗素子62を介して接続されている。電源電圧端子58a、グランド端子58b間にコンデンサ64が接続されている。過放電検出出力端子58dは電流制御用トランジスタ54のゲートに接続されている。過充電検出出力端子58eは電流制御用トランジスタ56のゲートに接続されている。
電池側外部端子44bと二次電池48の間にPTC素子66が接続されている。
例えば、抵抗用配線パターン5aの抵抗値は5.5Ω程度、電流制御用トランジスタ54,56のオン抵抗は3.0Ω程度である。抵抗用配線パターン5aにより、充放電回路52bの抵抗値を微調整することができる。
以上、本発明の実施例を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、形状、材料、配置などは一例であり、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
一実施例を示す平面図である。 3層配線パターン構造をもつ実施例を示す図であり、(A)は第1層目配線パターン層を示す平面図、(B)は上面側から見た第2層目配線パターン層を示す平面図、(C)は上面側から見た第3層目配線パターン層を示す平面図、(D)は(A)のA−A位置での断面図である。 さらに他の実施例を示す平面図である。 第本発明を適用した二次電池の保護回路モジュールの一例を示す回路図である。
符号の説明
1 絶縁性基板
1a 絶縁性基板の一表面
1b 絶縁性基板の裏面
3a,3d 配線パターン
3b,3c,5b,5c 端子
5a 抵抗用配線パターン
7 絶縁性材料
7a 絶縁性材料の表面
9,11 電極
13a,13b スルーホール

Claims (5)

  1. 金属材料からなる配線パターンを備えたプリント配線基板において、
    前記配線パターンと同じ金属材料で同時に形成された、抵抗として機能する抵抗用配線パターンを備えたことを特徴とするプリント配線基板。
  2. 前記抵抗用配線パターンは金属メッキ処理が施されていない請求項1に記載のプリント配線基板。
  3. 3層以上の配線パターン層を備え、前記抵抗用配線パターンは中間層の配線パターン層により形成されている請求項2に記載のプリント配線基板。
  4. 前記抵抗用配線パターンは蛇行して形成されている請求項1、2又は3に記載のプリント配線基板。
  5. 前記抵抗用配線パターンはプリント配線基板に形成された他の配線パターンよりも太い配線幅で形成されている請求項1から4のいずれかに記載のプリント配線基板。
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