JP2006156428A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理槽10、処理槽10内で基板Wを保持するリフタ12、処理槽10内の基板Wの表面に向けて純水をシャワー状に吐出するシャワーノズル30、処理槽10内へ純水を供給して純水中に基板Wを浸漬させるためのノズル18、処理槽10内の水洗水を排出する排水口24および排水管26、処理槽10の上部開口を開閉自在に覆蓋する蓋部材36、蓋部材36に設けられ処理槽10内の水洗水の液面へ窒素ガスを供給するガス吹出し口、ならびに、各機器を制御する制御装置54を備えた。
【選択図】 図1
Description
したがって、請求項1に係る発明の基板処理装置を使用すると、基板の処理状態を、基板が浸漬される処理液の状態で管理する場合に、基板が浸漬される処理液の状態を検出するために別の処理槽を設ける必要が無くなり、それ分だけ設置スペースを少なくし、設備コストを低く抑えることができ、一連の作業工程も簡単となり、一連の作業に要する時間も短くすることができる。
図1は、この発明の実施形態の1例を示し、基板処理装置の概略構成を示す模式図である。
薬液処理を終えた複数枚の基板Wが基板搬送ロボットからリフタ12へ受け渡されると、リフタ12が下降して、基板Wが処理槽10内へ挿入され、図1に示したように処理槽10内に基板Wが保持される。この際、蓋部材36は、二点鎖線で示すように開放されており、全ての開閉制御弁22、28、34、48は閉じられている。基板Wが処理槽10内に保持されると、純水供給管32に介設された開閉制御弁34が一定時間開かれて、シャワーノズル30から処理槽10内の基板Wの表面に向けて純水がシャワー状に吐出され、その後に開閉制御弁34が閉じられる。これにより、基板Wの表面が純水で洗浄され、洗浄後の水洗水は、処理槽10内へ流下して処理槽10内に溜まる。開閉制御弁34が閉じられるのと同時(あるいはその前後)に、排水管26に介設された開閉制御弁(急速排水弁)28が一定時間開かれて、処理槽10内に溜まった水洗水が排水口24から排水管26を通って急速に排出され、その後に開閉制御弁28が閉じられる。開閉制御弁28が閉じられるのと同時(あるいはその前後)に再び開閉制御弁34が一定時間開かれて、処理槽10内に溜まった水洗水が排水口24から排水管26を通って急速に排出され、シャワーノズル30から処理槽10内の基板Wの表面に向けて純水がシャワー状に吐出され、その後に開閉制御弁34が閉じられる。そして、開閉制御弁34が閉じられるのと同時(あるいはその前後)に再び開閉制御弁28が一定時間開かれて、処理槽10内に溜まった水洗水が排水口24から排水管26を通って急速に排出され、その後に開閉制御弁28が閉じられる。
12 リフタ
14 リフタ駆動装置
16 溢流水槽
18 ノズル
20、32 純水供給管
22、28、34、48 開閉制御弁
24 排水口
26 排水管
30 シャワーノズル
36、56 蓋部材
38 蓋部材駆動装置
40 ガス通路
42 ガス導入口
44 ガス吹出し口
46 窒素ガス供給管
50 比抵抗計
54 制御装置
58 ガス吹出しノズル
W 基板
Claims (5)
- 処理液により基板に対し処理を行う基板処理装置において、
上部に開口を有し、処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内で基板を保持する基板保持手段と、
前記処理槽の上方に吐出口が設けられ、前記吐出口から前記処理槽内の基板の表面に向けて処理液をシャワー状に吐出する処理液吐出手段と、
前記処理槽内の下部に供給口が設けられ、前記供給口から前記処理槽内へ処理液を供給して、前記処理槽内に処理液を貯留する処理液供給手段と、
前記処理槽の底部に排出口が設けられ、前記排出口を通って前記処理槽内の処理液を排出する排液手段と、
前記処理槽の上部開口を開閉自在に覆蓋する蓋部材と、
前記処理槽内の処理液の液面へ不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記処理液吐出手段による前記処理槽内の基板表面への処理液の吐出、前記排液手段による前記処理槽内からの処理液の排出、前記処理液供給手段による前記処理槽内への処理液の供給、前記蓋部材による、前記処理液供給手段によって処理液が供給される前記処理槽の上部開口の覆蓋、および、前記不活性ガス供給手段による、前記蓋部材によって上部開口が覆蓋された前記処理槽内の処理液液面への不活性ガスの供給をそれぞれ制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理槽内の処理液の比抵抗値を計測する比抵抗計を備えた請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記処理液が純水であり、前記比抵抗計によって計測された比抵抗値に基づいて前記制御手段により、前記処理液供給手段による前記処理槽内への処理液の供給および前記不活性ガス供給手段による前記処理槽内の処理液液面への不活性ガスの供給をそれぞれ停止し、前記蓋部材を開放して、純水による基板の洗浄処理を終了するように制御する請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記処理液吐出手段による前記処理槽内の基板表面への処理液の吐出と前記排液手段による前記処理槽内からの処理液の排出とを交互に複数回繰り返し、前記排液手段による前記処理槽内からの最後の処理液の排出が終わった後に、前記処理液供給手段による前記処理槽内への処理液の供給、前記蓋部材による前記処理槽の上部開口の覆蓋および前記不活性ガス供給手段による前記処理槽内の処理液液面への不活性ガスの供給をそれぞれ開始するように、前記制御手段により制御する請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記不活性ガス供給手段のガス供給口が前記蓋部材に設けられた請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の基板処理装置。
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