JP2006156209A - イオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
イオンビーム/荷電粒子ビームを、後段エネルギー分析装置によりエネルギー分析を行った後、基板に照射されるよう構成したイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、前記後段エネルギー分析装置を、偏向磁石の磁場分布の広がりを制御しつつ、前記イオンビーム/荷電粒子ビームを前記一方向において全体に屈曲させるよう構成する。
【選択図】図3
Description
12 質量分析磁石装置
13 ビーム整形装置
14 偏向走査装置
15 P−レンズ
16 加速/減速電極
17 角度エネルギーフィルター
18 プロセスチャンバー
18−1 ビームストッパ
19 ウェハ
21 分析電磁石
22 AEFビームラインチャンバー
23,24 磁気シールド
31 空間部(開口)
32 コア
33 上部ヨーク
34 下部ヨーク
41 側面
51 プラズマシャワー装置
Claims (11)
- ビーム整形装置により整形されたビーム断面が円形あるいは一方向に長い長円形または楕円形のイオンビーム/荷電粒子ビーム、またはビームの連続断面が一方向に長い長円形状もしくは楕円形状となるよう前段の質量分析装置ならびにビーム整形装置により整形されたのち偏向走査されたイオンビーム/荷電粒子ビームを、後段エネルギー分析装置によりエネルギー分析を行った後、基板に照射されるよう構成したイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記後段エネルギー分析装置を、偏向磁石の磁場分布の広がりを制御しつつ、前記イオンビーム/荷電粒子ビームを前記一方向において全体に均一な角度で屈曲させるよう構成したことを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項1に記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記偏向磁石は、前記イオンビーム/荷電粒子ビームの前記一方向において均一な磁場となるようヨークに対して電磁石のコイルを主と副として複数段設けて、該複数段のコイルを調整することにより磁場補正を行うよう構成されていることを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項1または2に記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、前記偏向磁石は、漏れ磁場キャンセル用補正コイルを有し、偏向磁石の漏洩磁場をキャンセルするように構成されていることを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。
- 請求項1または2に記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記偏向磁石は、主コイル、副コイル及び漏れ磁場キャンセル用補正コイルを有し、これらコイルに流す電流のバランスでBL積の一様性を出すように構成されていることを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項4に記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記偏向磁石の前後に配設した磁気シールドの開口形状により前記BL積の一様性を出すように構成したことを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置おいて、
前記偏向磁石のヨークは、ビーム屈曲の外側をビーム進行方向に長く、ビーム屈曲の内側をビーム進行方向に直交する方向に長く構成され、前記偏向磁石が略扇形の分析磁石となるように構成されていることを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記偏向磁石のヨークは、中央に空間部のある略四角形状に構成し、その空間部をビームラインが通るように構成されていることを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - ビーム断面が円形あるいは一方向に長い長円形または楕円形のイオンビーム/荷電粒子ビーム、またはビームの連続断面が一方向に長い長円形状もしくは楕円形状となるよう偏向走査されたイオンビーム/荷電粒子ビームを、後段エネルギー分析装置によりエネルギー分析を行った後、基板に照射されるよう構成したイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記後段エネルギー分析装置の偏向磁石のヨーク外側には、漏れ磁場を防ぐために両側部に漏れ磁場キャンセル用補正コイルを設けたことを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項8に記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記漏れ磁場キャンセル用補正コイルは、漏洩磁場を打ち消すような逆向きの電流を流すコイルであることを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項8または9に記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
前記漏れ磁場キャンセル用補正コイルは、前記ヨークの両側部を覆うよう配置されていることを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。 - 請求項1または2に記載のイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置において、
偏向磁石のヨーク両端部外側に漏れ磁場キャンセル用補正コイルを設けるとともに、偏向磁石のビームライン下流側にプラズマシャワーを設けるよう構成したことを特徴とするイオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置。
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